{"id":16268,"date":"2025-10-21T14:25:50","date_gmt":"2025-10-21T06:25:50","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/hafnium-silicid\/"},"modified":"2025-10-21T14:25:50","modified_gmt":"2025-10-21T06:25:50","slug":"hafnium-silicid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/hafnium-silicid\/","title":{"rendered":"Hafnium-Silicid"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Sputtertargets aus Hafniumsilicid \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Hafnium+Silicide\">Hafniumsilicid<\/a><\/span> sputtertargets sind Hochleistungsmaterialien, die speziell f\u00fcr D\u00fcnnschichtabscheidungsprozesse f\u00fcr elektronische Hochtemperaturger\u00e4te, Halbleitermetallgates, Elektrodenpufferschichten und andere Anwendungen entwickelt wurden. Mit einem Reinheitsgrad von 99,8 % bieten sie eine ausgezeichnete Dichte und strukturelle Stabilit\u00e4t, die eine gleichm\u00e4\u00dfige D\u00fcnnschichtabscheidung und eine hervorragende Haftung erm\u00f6glichen, wodurch sie sich f\u00fcr die Herstellung funktioneller D\u00fcnnschichten unter anspruchsvollen Bedingungen eignen.<\/p>\n<p>Wir bieten Hafniumsilizid-Targets in einer Vielzahl von Formen und Gr\u00f6\u00dfen an und k\u00f6nnen sie an Ihre speziellen Anforderungen anpassen. Au\u00dferdem bieten wir umfassenden technischen Support und Kundendienst. Bitte z\u00f6gern Sie nicht <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">kontaktieren Sie uns<\/a><\/span> wenn Sie Fragen zu ihrer Verwendung haben.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Reinheit: 99,8%<br \/>\nMaterial mit hohem Schmelzpunkt, geeignet f\u00fcr Hochtemperatur-Beschichtungsprozesse<br \/>\nAusgezeichnete Dichte und Leitf\u00e4higkeit zur Verbesserung der Filmqualit\u00e4t<br \/>\nAnpassbare Gr\u00f6\u00dfen und Formen, einschlie\u00dflich Back-Target-Schwei\u00dfen<br \/>\nGeeignet f\u00fcr Metallgates, Diffusionsbarrieren und hochtemperaturbest\u00e4ndige D\u00fcnnschichtmaterialien<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Hafniumsilicid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/anwendung\/halbleiter-materialien\/\">Halbleiter<\/a><\/span> bauelemente: Weit verbreitet in High-K-Metall-Gate-Strukturen, Verbindungsschichten und Kontaktelektrodenmaterialien.<br \/>\nMaterial f\u00fcr Barriereschichten: HfSi\u2082 wirkt als stabile Diffusionsbarriere und verhindert wirksam die Metallmigration. Hochtemperaturbest\u00e4ndige Strukturfilme: Bieten hervorragende thermische Stabilit\u00e4t und chemische Inertheit in Hochtemperaturumgebungen.<br \/>\nMEMS und mikroelektronische Systeme: Geeignet f\u00fcr die Herstellung von Mikrosensoren, Elektroden und Schutzschichten.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Wir bieten ein <span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/service\/chemische-analyse\/\">Analysezertifikat (COA),<\/a><\/span> Sicherheitsdatenblatt (MSDS) und Berichte \u00fcber die relevanten physikalischen Parameter f\u00fcr jede Charge von HfSi\u2082-Targets. Wir unterst\u00fctzen auch Pr\u00fcfdienste Dritter, um h\u00f6here Qualit\u00e4tskontrollstandards zu erf\u00fcllen.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Sputtertargets aus Hafniumsilicid \u00dcbersicht Hafniumsilicid sputtertargets sind Hochleistungsmaterialien, die speziell f\u00fcr D\u00fcnnschichtabscheidungsprozesse f\u00fcr elektronische Hochtemperaturger\u00e4te, Halbleitermetallgates, Elektrodenpufferschichten und andere Anwendungen entwickelt wurden. 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