{"id":12596,"date":"2025-07-18T17:14:46","date_gmt":"2025-07-18T09:14:46","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/aluminium-tantal-zirkonium-legierung\/"},"modified":"2025-07-18T17:14:46","modified_gmt":"2025-07-18T09:14:46","slug":"aluminium-tantal-zirkonium-legierung","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/aluminium-tantal-zirkonium-legierung\/","title":{"rendered":"Aluminium-Tantal-Zirkonium-Legierung"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Aluminium-Tantal-Zirkonium-Legierung \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n<p><strong><span style=\"color: #3366ff;\"><a style=\"color: #3366ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=element&#038;keyword=Al%2CTa%2CZr\">Aluminium-Tantal-Zirkonium-Legierung<\/a><\/span><\/strong> Sputtering Target ist ein hochleistungsf\u00e4higes Verbundtarget, das f\u00fcr fortschrittliche D\u00fcnnschichtabscheidungsanwendungen entwickelt wurde, die eine Kombination aus leichtem Aluminium und der au\u00dfergew\u00f6hnlichen Festigkeit, Korrosionsbest\u00e4ndigkeit und thermischen Stabilit\u00e4t von Tantal und Zirkonium erfordern.<\/p>\n<p>Unsere Sputtertargets aus Aluminium-Tantal-Zirkonium-Legierung werden aus hochreinen Rohstoffen durch pr\u00e4zise Legierungs- und Verdichtungsprozesse hergestellt und bieten eine einheitliche Zusammensetzung, hohe Dichte und geringe Verunreinigungen, die eine stabile Sputterleistung und eine hervorragende Schichtqualit\u00e4t gew\u00e4hrleisten. Wir bieten auch einen umfassenden Kundendienst an &#8211; bitte nehmen Sie <span style=\"color: #3366ff;\"><a style=\"color: #3366ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">kontaktieren Sie uns<\/a><\/span> wenn Sie irgendwelche Fragen haben.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Reinheit: \u226599,9%<br \/>\nAnpassbare Al-Ta-Zr-Zusammensetzungen f\u00fcr spezifische Anwendungsanforderungen<br \/>\nHohe Dichte und Reinheit f\u00fcr konsistentes Sputtern<br \/>\nAusgezeichnete Korrosionsbest\u00e4ndigkeit und thermische Stabilit\u00e4t<br \/>\nErh\u00f6hte mechanische Festigkeit und Oxidationsbest\u00e4ndigkeit<br \/>\nEinheitliche Mikrostruktur f\u00fcr hervorragende Schichthaftung und Gleichm\u00e4\u00dfigkeit<br \/>\nErh\u00e4ltlich in verschiedenen Formen und Gr\u00f6\u00dfen (rund, rechteckig, kundenspezifisch)<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Sputtertargets aus Aluminium-Tantal-Zirkonium-Legierungen<\/span><\/h2>\n<p>Herstellung von Halbleiterbauteilen<br \/>\nSchutz- und verschlei\u00dffeste Beschichtungen<br \/>\nLuft- und Raumfahrt und Hochtemperaturanwendungen<br \/>\nKorrosionsbest\u00e4ndige Schichten<br \/>\nModerne elektronische und optische Beschichtungen<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Analysezertifikat (COA)<br \/>\nMaterial-Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<br \/>\nPr\u00fcfungen durch Dritte auf Anfrage<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Aluminium-Tantal-Zirkonium-Legierung \u00dcbersicht Aluminium-Tantal-Zirkonium-Legierung Sputtering Target ist ein hochleistungsf\u00e4higes Verbundtarget, das f\u00fcr fortschrittliche D\u00fcnnschichtabscheidungsanwendungen entwickelt wurde, die eine Kombination aus leichtem Aluminium und der au\u00dfergew\u00f6hnlichen Festigkeit, Korrosionsbest\u00e4ndigkeit und thermischen Stabilit\u00e4t von Tantal und Zirkonium erfordern. 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