{"id":12529,"date":"2025-07-18T17:14:48","date_gmt":"2025-07-18T09:14:48","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/aluminium-oxid-5\/"},"modified":"2025-07-18T17:14:48","modified_gmt":"2025-07-18T09:14:48","slug":"aluminium-oxid-5","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/aluminium-oxid-5\/","title":{"rendered":"Aluminium-Oxid"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Aluminiumoxid-Sputtering-Targets \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n<p><strong><span style=\"color: #3366ff;\"><a style=\"color: #3366ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=element&#038;keyword=Al%2CO\">Aluminiumoxid<\/a><\/span><\/strong> Sputtering Targets sind keramische Hochleistungsmaterialien, die f\u00fcr den Einsatz in D\u00fcnnschichtabscheidungsprozessen entwickelt wurden, die eine ausgezeichnete H\u00e4rte, chemische Stabilit\u00e4t und isolierende Eigenschaften erfordern. Mit ihrem hohen Reinheitsgrad und ihrer dichten Mikrostruktur gew\u00e4hrleisten diese Targets eine gleichm\u00e4\u00dfige Filmbildung, hervorragende Haftung und minimale Verunreinigung.<\/p>\n<p>Unsere Al\u2082O\u2083-Sputtertargets sind in verschiedenen Formen und Gr\u00f6\u00dfen erh\u00e4ltlich, darunter runde und rechteckige Platten, und k\u00f6nnen entsprechend Ihren spezifischen Prozessanforderungen angepasst werden. Wir bieten auch einen umfassenden Kundendienst an &#8211; bitte wenden Sie sich an <span style=\"color: #3366ff;\"><a style=\"color: #3366ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/kontakt-us\/\">kontaktieren Sie uns<\/a><\/span> wenn Sie irgendwelche Fragen haben.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Reinheit: \u226599,9% bis 99,99%<br \/>\nHohe H\u00e4rte und ausgezeichnete chemische Stabilit\u00e4t<br \/>\nDichtes, defektfreies Gef\u00fcge f\u00fcr gleichm\u00e4\u00dfige Schichtabscheidung<br \/>\nAnpassbare Gr\u00f6\u00dfen und Formen<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von <\/span><span style=\"font-size: 14pt;\">Aluminiumoxid <\/span><span style=\"font-size: 14pt;\">Sputtering-Targets<\/span><\/h2>\n<p>Halbleiter: Verwendung als dielektrische Isolierschichten und Passivierungsschichten.<br \/>\nOptische Beschichtungen: Bietet Antireflexions- und Schutzschichten f\u00fcr Linsen, Displays und Spiegel.<br \/>\nSchutzschichten: Werden f\u00fcr verschlei\u00dffeste und korrosionsbest\u00e4ndige Beschichtungen verwendet.<br \/>\nElektronische Ger\u00e4te: Einsatz in Kondensatoren, Sensoren und anderen Ger\u00e4ten, die eine hohe Durchschlagsfestigkeit erfordern.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Analysezertifikat (COA)<br \/>\nMaterial-Sicherheitsdatenblatt (MSDS)<br \/>\nBerichte zur \u00dcberpr\u00fcfung von Dichte und Reinheit<br \/>\nUnterst\u00fctzung bei der Pr\u00fcfung durch Dritte auf Anfrage erh\u00e4ltlich<\/p>\n<p>Warum uns w\u00e4hlen?<\/p>\n<p>Als zuverl\u00e4ssiger <strong>Anbieter von Aluminiumoxid-Sputter-Targets<\/strong> bieten wir <strong>hochreine Aluminiumoxid (Al\u2082O\u2083)<\/strong> -Sputter-Targets (\u226599,95 %) mit anpassbaren Optionen, fortschrittlicher Fertigung f\u00fcr stabile Leistung, fachkundiger Unterst\u00fctzung und zuverl\u00e4ssiger weltweiter Lieferung.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Aluminiumoxid-Sputtering-Targets \u00dcbersicht Aluminiumoxid Sputtering Targets sind keramische Hochleistungsmaterialien, die f\u00fcr den Einsatz in D\u00fcnnschichtabscheidungsprozessen entwickelt wurden, die eine ausgezeichnete H\u00e4rte, chemische Stabilit\u00e4t und isolierende Eigenschaften erfordern. 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