{"id":11768,"date":"2025-07-18T17:15:05","date_gmt":"2025-07-18T09:15:05","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/ceriumfluorid\/"},"modified":"2025-07-18T17:15:05","modified_gmt":"2025-07-18T09:15:05","slug":"ceriumfluorid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/ceriumfluorid\/","title":{"rendered":"Ceriumfluorid"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Ceriumfluorid Sputtering Target \u00dcbersicht<\/span><\/h2>\n<p><strong><span style=\"color: #3366ff;\"><a style=\"color: #3366ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=element&#038;keyword=Ce%2CF\">Ceriumfluorid<\/a><\/span><\/strong> Sputtering Targets sind f\u00fcr hochleistungsf\u00e4hige D\u00fcnnschichtabscheidungsprozesse konzipiert. Sie weisen eine extrem hohe Reinheit und eine hervorragende Materialdichte auf, die eine gleichm\u00e4\u00dfige Schichtbildung, eine starke Haftung und einen \u00e4u\u00dferst geringen Gehalt an Verunreinigungen gew\u00e4hrleisten. Diese Targets eignen sich f\u00fcr optische Pr\u00e4zisionsbeschichtungen, funktionelle Beschichtungen und die Herstellung elektronischer Ger\u00e4te und erf\u00fcllen anspruchsvolle Prozessanforderungen.<\/p>\n<p>Wir bieten hochreine Cerfluorid-Sputtertargets in einer Vielzahl von Formen und Gr\u00f6\u00dfen an, einschlie\u00dflich runder und rechteckiger Targets, die je nach den spezifischen Anforderungen des Kunden angepasst werden k\u00f6nnen. Gleichzeitig verf\u00fcgen wir \u00fcber ein komplettes Kundendienstteam, das Ihre technischen Fragen und Bed\u00fcrfnisse w\u00e4hrend der Nutzung jederzeit l\u00f6sen kann.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights<\/span><\/h2>\n<p>Reinheit: 99,95%-99,995%<br \/>\nHohe Dichte zur Gew\u00e4hrleistung einer gleichm\u00e4\u00dfigen und stabilen Schichtabscheidung<br \/>\nGr\u00f6\u00dfen und Formen k\u00f6nnen je nach Kundenbedarf angepasst werden<br \/>\nZielbindungsservice ist verf\u00fcgbar<br \/>\nGeeignet f\u00fcr optische Beschichtungen, elektronische Ger\u00e4te und Hochleistungsbeschichtungen<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Anwendungen von Ceriumfluorid-Sputter-Targets<\/span><\/h2>\n<p>Optische Beschichtungen: CeF3 wird zur Herstellung von Antireflexionsschichten mit hohem Brechungsindex, UV-durchl\u00e4ssigen Schichten und anderen funktionellen optischen Beschichtungen verwendet.<br \/>\nElektronische Ger\u00e4te: f\u00fcr die D\u00fcnnschichtabscheidung von Halbleiterbauelementen und Flachbildschirmen.<br \/>\nFunktionelle Beschichtungen: spielen eine wichtige Rolle bei verschlei\u00dffesten, korrosionsbest\u00e4ndigen und sch\u00fctzenden Beschichtungen.<br \/>\nLaser-Materialien: CeF3 wird als D\u00fcnnschichtmaterial f\u00fcr optische Laserkomponenten verwendet, um die Leistung und Stabilit\u00e4t von Lasern zu verbessern.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Wir stellen detaillierte Analysezertifikate (COA), Sicherheitsdatenbl\u00e4tter (MSDS) und entsprechende Qualit\u00e4tsberichte f\u00fcr jede Charge von Cerfluorid-Sputtertargets zur Verf\u00fcgung. Wir unterst\u00fctzen Pr\u00fcfdienste Dritter, um die Zuverl\u00e4ssigkeit der Produktqualit\u00e4t und -leistung zu gew\u00e4hrleisten.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Ceriumfluorid Sputtering Target \u00dcbersicht Ceriumfluorid Sputtering Targets sind f\u00fcr hochleistungsf\u00e4hige D\u00fcnnschichtabscheidungsprozesse konzipiert. Sie weisen eine extrem hohe Reinheit und eine hervorragende Materialdichte auf, die eine gleichm\u00e4\u00dfige Schichtbildung, eine starke Haftung und einen \u00e4u\u00dferst geringen Gehalt an Verunreinigungen gew\u00e4hrleisten. 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