{"id":10397,"date":"2025-07-18T17:15:30","date_gmt":"2025-07-18T09:15:30","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/product\/erbium-oxid\/"},"modified":"2025-07-18T17:15:30","modified_gmt":"2025-07-18T09:15:30","slug":"erbium-oxid","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/produkt\/erbium-oxid\/","title":{"rendered":"Erbium-Oxid"},"content":{"rendered":"<h2><span style=\"font-size: 14pt;\"><strong>Erbiumoxid-Sputtertarget \u00dcbersicht<\/strong><\/span><\/h2>\n<p><span style=\"color: #0000ff;\"><a style=\"color: #0000ff;\" href=\"https:\/\/ulpmat.com\/de\/search\/?type=name&#038;keyword=Erbium+Oxide\"><strong>Erbiumoxid-Sputtertargets<\/strong> <\/a><\/span> sind fortschrittliche keramische Materialien, die f\u00fcr Hochleistungs-D\u00fcnnschichtanwendungen entwickelt wurden und weithin in optischen Ger\u00e4ten, Infrarotfenstern, Laserverst\u00e4rkungsmedien, dielektrischen Schichten und anderen technischen Bereichen eingesetzt werden. Dank seiner hohen Reinheit (bis zu 99,99 %) und Dichte weist es eine hervorragende Schichtgleichm\u00e4\u00dfigkeit und Stabilit\u00e4t bei D\u00fcnnschichtabscheidungsverfahren wie Magnetronsputtern und Elektronenstrahlverdampfung auf.<\/p>\n<p data-start=\"443\" data-end=\"938\" data-is-last-node=\"\" data-is-only-node=\"\">Wir k\u00f6nnen <strong data-start=\"458\" data-end=\"493\">Erbiumoxid-Sputtertargets<\/strong> in verschiedenen Gr\u00f6\u00dfen und Formen anbieten, darunter runde, rechteckige und flache Verbundtargets, und unterst\u00fctzen die kundenspezifische Anpassung auf Anfrage. Unser professionelles Team bietet jedem Kunden umfassende technische Unterst\u00fctzung und Kundendienst. Ganz gleich, ob Sie <strong data-start=\"732\" data-end=\"800\">hochreine Erbiumoxid-Sputtertargets f\u00fcr optische Beschichtungen<\/strong> oder <strong data-start=\"805\" data-end=\"863\">Erbiumoxid-Targets f\u00fcr die fortschrittliche D\u00fcnnschichtabscheidung<\/strong> ben\u00f6tigen, wir sind bestrebt, die besten, auf Ihre Bed\u00fcrfnisse zugeschnittenen L\u00f6sungen zu liefern.<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Produkt-Highlights von <\/span><span style=\"font-size: 14pt;\"><strong>Erbiumoxid-Sputtering-Target<\/strong><\/span><\/h2>\n<p>Reinheit: 99,99 %<br \/>\nHohe Dichte: gew\u00e4hrleistet hervorragende Filmbildungsleistung und geringe Sputterfremdk\u00f6rper<br \/>\nKundenspezifische Unterst\u00fctzung: Gr\u00f6\u00dfe, Struktur, Backplane, etc. k\u00f6nnen auf Anfrage entworfen werden<br \/>\nAnwendbare Verfahren: Magnetronsputtern, gepulste Laserabscheidung, Elektronenstrahlverdampfung usw.<br \/>\nVerbindungsservice: verf\u00fcgbar und anpassbar<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\"><strong>Anwendungen von Erbiumoxid-Sputter-Targets<\/strong><\/span><\/h2>\n<p>Optische Beschichtung: f\u00fcr hochwertige optische Strukturen wie Infrarotfenster, hochbrechende Filme und Filtervorrichtungen<br \/>\nHalbleiterindustrie: f\u00fcr die Herstellung von Schichten mit hoher Dielektrizit\u00e4tskonstante und von mit seltenen Erden dotierten Schichten<br \/>\nLaser und optische Kommunikation: als D\u00fcnnschichtmaterialien f\u00fcr Lasermaterialien (wie Er:YAG, Er:SiO\u2082)<br \/>\nEnergie- und Umweltmaterialien: f\u00fcr elektrolumineszente Vorrichtungen und die Erforschung von Filmen zur Umwandlung thermischer Energie<\/p>\n<h2><span style=\"font-size: 14pt;\">Berichte<\/span><\/h2>\n<p>Wir bieten Analysezertifikate (COA), Sicherheitsdatenbl\u00e4tter (MSDS) und andere relevante Berichte f\u00fcr jede Charge von <strong>Erbiumoxid-Sputtertargets<\/strong>. Dar\u00fcber hinaus unterst\u00fctzen wir auch Pr\u00fcfungen durch Dritte, um die Qualit\u00e4tssicherung zu verbessern.<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Erbiumoxid-Sputtertarget \u00dcbersicht Erbiumoxid-Sputtertargets sind fortschrittliche keramische Materialien, die f\u00fcr Hochleistungs-D\u00fcnnschichtanwendungen entwickelt wurden und weithin in optischen Ger\u00e4ten, Infrarotfenstern, Laserverst\u00e4rkungsmedien, dielektrischen Schichten und anderen technischen Bereichen eingesetzt werden. Dank seiner hohen Reinheit (bis zu 99,99 %) und Dichte weist es eine hervorragende Schichtgleichm\u00e4\u00dfigkeit und Stabilit\u00e4t bei D\u00fcnnschichtabscheidungsverfahren wie Magnetronsputtern und Elektronenstrahlverdampfung auf. 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