{"id":57588,"date":"2026-08-06T16:52:59","date_gmt":"2026-08-06T08:52:59","guid":{"rendered":"https:\/\/ulpmat.com\/was-ist-ein-drehbares-indium-zinkoxid-target-anwendungen-vorteile-und-sputterleistung\/"},"modified":"2026-08-10T10:45:26","modified_gmt":"2026-08-10T02:45:26","slug":"was-ist-ein-drehbares-indium-zinkoxid-target-anwendungen-vorteile-und-sputterleistung","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/ulpmat.com\/de\/was-ist-ein-drehbares-indium-zinkoxid-target-anwendungen-vorteile-und-sputterleistung\/","title":{"rendered":"Was ist ein drehbares Indium-Zinkoxid-Target? Anwendungen, Vorteile und Sputterleistung"},"content":{"rendered":"\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t

Was ist ein drehbares Indium-Zinkoxid-Target?<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t

DasdrehbareIndium-Zink-Oxid-<\/a><\/span>Target ist ein zylindrisches Sputtertarget, das f\u00fcr Magnetron-Sputteranlagen mit rotierender Kathode entwickelt wurde. Es wird aus hochreinem Indium-Zink-Oxid-Keramikmaterial hergestellt und dient zur Abscheidung von D\u00fcnnschichten aus transparentem leitf\u00e4higem Oxid (TCO) f\u00fcr Anwendungen wie Displaytechnologien, Halbleiterbauelemente, optische Beschichtungen und andere fortschrittliche D\u00fcnnschichtverfahren. Im Gegensatz zu herk\u00f6mmlichen planaren Sputtertargets drehen sich IZO-Drehtargets w\u00e4hrend des Sputtervorgangs kontinuierlich. Durch diese Rotation wird die Plasmaabtragung gleichm\u00e4\u00dfiger \u00fcber die Targetoberfl\u00e4che verteilt, was eine h\u00f6here Materialausnutzung, eine verbesserte Abscheidungsstabilit\u00e4t und eine bessere Eignung f\u00fcr gro\u00dffl\u00e4chige Beschichtungssysteme erm\u00f6glicht.<\/p>

Ein drehbares IZO-Target besteht typischerweise aus einem zylindrischen Indium-Zink-Oxid- Keramik-Target<\/a><\/span>, einem metallischen St\u00fctzrohr und einer Schnittstelle<\/a> <\/span>, die mit rotierenden Kathodensputteranlagen kompatibel ist. Das Targetmaterial besteht haupts\u00e4chlich aus Indiumoxid<\/a><\/span> (In\u2082O\u2083) und Zinkoxid<\/a><\/span> (ZnO) und vereint die hohe elektrische Leitf\u00e4higkeit von Indiumoxid mit der optischen Transparenz, der chemischen Stabilit\u00e4t und den Halbleitereigenschaften von Zinkoxid. Aufgrund seiner ausgewogenen elektrischen und optischen Eigenschaften wurde Indium-Zink-Oxid (IZO) intensiv als transparentes leitf\u00e4higes Oxid (TCO)<\/a> <\/span>sowie als alternatives Material f\u00fcr transparente Elektroden und Anwendungen im Bereich der Oxidhalbleiter intensiv erforscht.\u00a0<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\"Drehbares\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t

IZO-Drehziel vs. planares Ziel: Vergleich der Abscheideeffizienz<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t

F\u00fcr die industrielle TD\u00fcnnschichtabscheidung<\/a><\/span>spielt die Targetgeometrie eine wichtige Rolle f\u00fcr die Sputtereffizienz, die Targetausnutzung und die F\u00e4higkeit zur kontinuierlichen Produktion. Untersuchungen an Magnetron-Sputteranlagen haben gezeigt, dass zylindrische drehbare Targets<\/a><\/span> im Vergleich zu herk\u00f6mmlichen planaren Targets eine deutlich h\u00f6here Materialausnutzung erzielen k\u00f6nnen, was auf ihre gr\u00f6\u00dfere effektive Erosionsfl\u00e4che und die kontinuierliche Rotation w\u00e4hrend der Abscheidung zur\u00fcckzuf\u00fchren ist.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t
Funktion<\/strong><\/td>IZO-Drehziel<\/strong><\/td>IZO-Flachziel<\/strong><\/td><\/tr>
Zielgeometrie<\/td>Zylindrisches Rohr<\/td>Flache Platte<\/td><\/tr>
Erosionsmuster<\/td>Rotierende und verteilte Erosion<\/td>Lokalisierte Erosionsspur<\/td><\/tr>
Materialausnutzung<\/td>In der Regel h\u00f6her aufgrund des gr\u00f6\u00dferen Erosionsbereichs<\/td>Geringer aufgrund ungleichm\u00e4\u00dfiger Erosion<\/td><\/tr>
Abscheidungsverfahren<\/td>Geeignet f\u00fcr langlebige industrielle Beschichtungen<\/td>H\u00e4ufigerer Austausch des Targets<\/td><\/tr>
Gro\u00dffl\u00e4chige Abscheidung<\/td>Sehr gut geeignet f\u00fcr Inline-Beschichtungssysteme<\/td>Eingeschr\u00e4nkt durch Targetgr\u00f6\u00dfe und Erosionsprofil<\/td><\/tr><\/tbody><\/table>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t

Forschungsergebnisse und industrielle Sputterpraktiken zeigen, dass drehbare Targets Materialausnutzungsraten von 70\u201390 %<\/strong> erreichen k\u00f6nnen, w\u00e4hrend planare Targets in der Regel eine geringere Ausnutzung aufweisen, da ein erheblicher Teil des Targetmaterials ungenutzt bleibt, sobald die Erosionsrille ihre Grenze erreicht hat.<\/p>

Die h\u00f6here Ausnutzung drehbarer Targets kann die H\u00e4ufigkeit des Targetwechsels verringern, Produktionsunterbrechungen minimieren und die Kosteneffizienz bei gro\u00dffl\u00e4chigen D\u00fcnnschichtbeschichtungsprozessen verbessern.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t

Vorteile der drehbaren IZO-Targets w\u00e4hrend des Sputterprozesses<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t

Bei der industriellen D\u00fcnnschichtabscheidung wirkt sich die Leistung der drehbaren IZO-Target direkt auf die Sputterstabilit\u00e4t, die Schichtqualit\u00e4t, die Produktionseffizienz und die Betriebskosten aus. Faktoren wie Targetdichte, Reinheit, Erosionsverhalten und Anlagenkompatibilit\u00e4t spielen w\u00e4hrend des gesamten Abscheidungsprozesses eine wichtige Rolle.<\/p>

1. Zuverl\u00e4ssige Integration in Rotationskathodensysteme<\/strong><\/p>

Pr\u00e4zise Abmessungen, strukturelle Integrit\u00e4t und gleichbleibende keramische Eigenschaften sind f\u00fcr eine reibungslose Installation und einen stabilen Betrieb unerl\u00e4sslich. Hochwertige drehbare IZO-Targets tragen dazu bei, eine ordnungsgem\u00e4\u00dfe Verbindung, zuverl\u00e4ssige Drehung und Kompatibilit\u00e4t mit verschiedenen Sputtersystemen zu gew\u00e4hrleisten.<\/p>

2. Hohe Dichte und Reinheit f\u00fcr eine stabile Abscheidung<\/strong><\/p>

Bei keramischen Oxid-Targets beeinflussen Dichte und Reinheit direkt die Sputter-Stabilit\u00e4t und die Schichtqualit\u00e4t. Eine IZO-Target-Struktur mit hoher Dichte tr\u00e4gt dazu bei, interne Defekte und die Partikelbildung zu reduzieren und sorgt gleichzeitig f\u00fcr eine gleichm\u00e4\u00dfige Abtragung sowie konsistente D\u00fcnnschichteigenschaften.<\/p>

3. Gleichm\u00e4\u00dfige Abtragung und konsistente Schichtleistung<\/strong><\/p>

Die zylindrische Struktur der drehbaren IZO-Targets erm\u00f6glicht im Vergleich zu planaren Targets eine gleichm\u00e4\u00dfigere Abtragung. Dies tr\u00e4gt dazu bei, stabile Abscheidungsraten und gleichbleibende Schichteigenschaften zu gew\u00e4hrleisten, einschlie\u00dflich der elektrischen Eigenschaften und der optischen Transparenz.<\/p>

4. L\u00e4ngere Sputterzyklen und bessere Materialausnutzung<\/strong><\/p>

Rotierende Targets nutzen eine gr\u00f6\u00dfere Abtragungsfl\u00e4che, was eine effizientere Nutzung des Targetmaterials erm\u00f6glicht. Dies tr\u00e4gt dazu bei, die H\u00e4ufigkeit des Targetwechsels zu verringern, Produktionsunterbrechungen zu minimieren und die Gesamtbeschichtungseffizienz zu verbessern.<\/p>

5. Geeignet f\u00fcr die Abscheidung gro\u00dffl\u00e4chiger D\u00fcnnschichten<\/strong><\/p>

Die drehbaren IZO-Targets sind f\u00fcr Rotationskathoden-Sputteranlagen konzipiert, die in kontinuierlichen Beschichtungsprozessen zum Einsatz kommen. Durch ihren stabilen Betrieb eignen sie sich f\u00fcr gro\u00dffl\u00e4chige Anwendungen wie transparente leitf\u00e4hige Oxidschichten, Displaybeschichtungen, die Halbleiterforschung und optische Schichten.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t

Anwendungsbereiche des drehbaren Indium-Zink-Oxid-Targets<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t

Anwendungen in der Displaytechnik und bei transparenten Elektroden: IZO-D\u00fcnnschichten werden intensiv f\u00fcr Anwendungen in der Displaytechnik untersucht, darunter LCD-, OLED- und TFT-Technologien. Aufgrund ihrer hohen optischen Transparenz und ihrer leitf\u00e4higen Eigenschaften eignen sie sich f\u00fcr transparente Elektrodenschichten und Oxidhalbleiterkomponenten.<\/p>

Halbleiter<\/a><\/span> D\u00fcnnschichten: IZO ist ein wichtiges Oxidhalbleitermaterial f\u00fcr die Forschung im Bereich der D\u00fcnnschichttransistoren (TFT) und f\u00fcr Anwendungen in elektronischen Bauelementen. IZO-Sputtertargets erm\u00f6glichen die Abscheidung funktionaler Oxidschichten mit kontrollierten elektrischen Eigenschaften.<\/p>

Optische<\/a> <\/span>und funktionale Beschichtungen: IZO-D\u00fcnnschichten k\u00f6nnen auch in optischen Beschichtungsanwendungen eingesetzt werden, die transparente leitf\u00e4hige Schichten oder funktionale Oxidschichten erfordern, darunter moderne Glasbeschichtungen und andere Beschichtungssysteme f\u00fcr die Elektronik.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\"Anwendungen\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t

Drehbares IZO-Target im Vergleich zum drehbaren ITO-Target<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t

Die Wahl zwischen IZO und ITO h\u00e4ngt von den spezifischen Anwendungsanforderungen ab, darunter die elektrische Leistung, die optischen Eigenschaften, die Bauelementstruktur und die Bedingungen des Sputterprozesses.<\/p>
Anwendungsanforderung<\/strong><\/td>Empfohlenes Material<\/strong><\/td>Typische Anwendungen<\/strong><\/td><\/tr>
Maximale elektrische Leitf\u00e4higkeit<\/td>ITO<\/td>Touchpanels, Displays, elektronische Ger\u00e4te<\/td><\/tr>
Ausgewogene Leitf\u00e4higkeit und optische Transparenz<\/td>IZO<\/td>Transparente leitf\u00e4hige Schichten, TFT-bezogene Anwendungen, Forschung im Bereich der Oxidhalbleiter<\/td><\/tr>
Anwendungen im Bereich der D\u00fcnnschichttechnologie f\u00fcr Displays<\/td>IZO \/ ITO<\/td>LCD, OLED-bezogene Schichten, transparente Elektroden<\/td><\/tr>
Anwendungen im Bereich der Oxidhalbleiter<\/td>IZO<\/td>D\u00fcnnschichttransistoren (TFT), Oxidhalbleiterbauelemente<\/td><\/tr>
Ausgereifte industrielle Produktionsprozesse<\/td>ITO<\/td>Gro\u00dffl\u00e4chige kommerzielle Display- und Elektronik-Anwendungen<\/td><\/tr>
Auswahl alternativer TCO-Materialien<\/td>IZO<\/td>Fortgeschrittene D\u00fcnnschichtabscheidung und Forschungsanwendungen<\/td><\/tr><\/tbody><\/table>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t

So w\u00e4hlen Sie ein drehbares Indium-Zinkoxid-Target f\u00fcr Sputteranwendungen aus<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t\t\t

Bei der Auswahl eines drehbaren IZO-Targets geht es nicht nur um die Wahl einer bestimmten Materialg\u00fcte. Das Target muss auf den Abscheidungsprozess des Kunden, die Anforderungen an die Anlage und die angestrebten Eigenschaften der Endschicht abgestimmt sein. Ein praxisorientierter Auswahlprozess orientiert sich in der Regel an mehreren wichtigen Gesichtspunkten.<\/p>

Anwendungsanforderungen \u2192 Materialauswahl \u2192 Targetspezifikation \u2192 Anlagenkompatibilit\u00e4t \u2192 Optimierung der Abscheidung<\/strong><\/p>

Schritt 1: Definition der Beschichtungsanforderungen und der Anwendung<\/strong><\/p>

Der Auswahlprozess beginnt mit dem Verst\u00e4ndnis des Zwecks der abgeschiedenen IZO-Schicht. Unterschiedliche Anwendungen erfordern unter Umst\u00e4nden ein unterschiedliches Gleichgewicht zwischen elektrischer Leitf\u00e4higkeit, optischer Transparenz, Schichtgleichm\u00e4\u00dfigkeit und Prozessstabilit\u00e4t. Beispielsweise kann bei Anwendungen mit transparenten Elektroden die optische und elektrische Leistung im Vordergrund stehen, w\u00e4hrend bei Anwendungen mit Oxidhalbleitern eine pr\u00e4zise Steuerung der Schichtzusammensetzung und der elektrischen Eigenschaften erforderlich sein kann.<\/p>

Schritt 2: Auswahl der geeigneten Materialqualit\u00e4t<\/strong><\/p>

Nach der Definition der Anwendungsanforderungen steht die Targetqualit\u00e4t als n\u00e4chster Aspekt im Fokus. Die Reinheit und Dichte eines drehbaren IZO-Targets beeinflussen direkt die Sputter-Stabilit\u00e4t und die Qualit\u00e4t der abgeschiedenen Schicht. Hochreine und dichte Keramik-Targets tragen dazu bei, Verunreinigungen, Partikelbildung und abnormale Erosion w\u00e4hrend des langfristigen Sputterbetriebs zu reduzieren. \u00dcbliche Reinheitsgrade f\u00fcr IZO-Targets sind 99,99 %, 99,995 % und 99,999 %.<\/p>

Schritt 3: Anpassung des Target-Designs an die Sputteranlage<\/strong><\/p>

Ein drehbares IZO-Target muss mit dem Rotationskathodensystem des Kunden kompatibel sein. Parameter wie Targetdurchmesser, L\u00e4nge, Struktur des Tr\u00e4gerrohrs und Anforderungen an die Befestigung m\u00fcssen vor der Produktion ber\u00fccksichtigt werden. Eine korrekte dimensionale Anpassung tr\u00e4gt dazu bei, eine stabile Installation, eine zuverl\u00e4ssige Drehung und eine kontinuierliche Sputterleistung sicherzustellen.<\/p>

Schritt 4: Optimierung des Targets f\u00fcr die Abscheidungsbedingungen<\/strong><\/p>

Die endg\u00fcltige Leistung einer IZO-D\u00fcnnschicht h\u00e4ngt auch von den Sputterparametern ab. Faktoren wie Gleichstrom-\/Hochfrequenzleistung, Sauerstoffpartialdruck, Substrattemperatur und Abscheidungsrate k\u00f6nnen die Schichteigenschaften beeinflussen. Ein geeignetes drehbares IZO-Target sollte mit dem Abscheidungsprozess des Kunden zusammenwirken, um die erforderlichen elektrischen, optischen und strukturellen Eigenschaften zu erreichen.<\/p>\t\t\t\t\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t

H\u00e4ufig gestellte Fragen<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t
\n
\n\t\t\t\t\t
<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Was ist ein drehbares Indium-Zinkoxid-Target?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

Das drehbare Indium-Zinkoxid-Target (IZO) ist ein zylindrisches Sputtertarget aus In\u2082O\u2083-ZnO-Keramik, das f\u00fcr Magnetron-Sputteranlagen mit rotierender Kathode zur D\u00fcnnschichtabscheidung entwickelt wurde.<\/p>\n

\u00a0<\/h3>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>
\n\t\t\t\t\t
<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Wof\u00fcr wird IZO verwendet?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

IZO wird haupts\u00e4chlich f\u00fcr transparente leitf\u00e4hige Oxidschichten (TCO), Beschichtungen im Displaybereich, die Forschung an Oxidhalbleitern sowie f\u00fcr optische Beschichtungsanwendungen eingesetzt, bei denen elektrische Leitf\u00e4higkeit und optische Transparenz erforderlich sind.<\/p>\n

\u00a0<\/h3>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>
\n\t\t\t\t\t
<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Warum sollte man ein drehbares Ziel anstelle eines ebenen Ziels verwenden?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

Drehbare Targets erm\u00f6glichen im Vergleich zu herk\u00f6mmlichen planaren Targets eine effizientere Materialausnutzung, l\u00e4ngere Sputterzyklen und eignen sich besser f\u00fcr die kontinuierliche Abscheidung gro\u00dffl\u00e4chiger D\u00fcnnschichten.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

\n\t\t\t\t\t
<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Ist IZO besser als ITO?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

IZO und ITO sind beides wichtige transparente leitf\u00e4hige Oxidmaterialien. Die Wahl h\u00e4ngt von den Anforderungen der jeweiligen Anwendung ab, darunter elektrische Eigenschaften, optische Leistung, Bauelementstruktur und Abscheidungsbedingungen.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

\n\t\t\t\t\t
<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Welche Reinheitsgrade sind f\u00fcr IZO-Targets erh\u00e4ltlich?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

IZO-Sputtertargets sind in der Regel in hochreinen Qualit\u00e4ten erh\u00e4ltlich, darunter 99,99 %, 99,995 % und 99,999 %, je nach den Anforderungen der jeweiligen Anwendung.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

\n\t\t\t\t\t
<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Welche Faktoren sollten bei der Auswahl eines drehbaren IZO-Targets ber\u00fccksichtigt werden?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

Die Auswahl eines drehbaren IZO-Targets h\u00e4ngt von mehreren Faktoren ab, darunter die Reinheit des Targets, die Dichte, das Zusammensetzungsverh\u00e4ltnis von In\u2082O\u2083 zu ZnO, die Abmessungen des Targets, die Kompatibilit\u00e4t mit der Drehkathode sowie die Anforderungen des Abscheidungsverfahrens. Diese Parameter sollten auf die Anlage des Kunden und die angestrebten Leistungsziele f\u00fcr die D\u00fcnnschicht abgestimmt sein.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

\n\t\t\t\t\t
<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Sind drehbare IZO-Targets f\u00fcr gro\u00dffl\u00e4chige Sputteranlagen geeignet?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

Ja. Die drehbaren IZO-Targets sind f\u00fcr Sputteranlagen mit rotierender Kathode konzipiert und eignen sich f\u00fcr die kontinuierliche Abscheidung gro\u00dffl\u00e4chiger D\u00fcnnschichten. Ihre zylindrische Bauweise sorgt f\u00fcr ein stabiles Abtragungsverhalten und eine effiziente Materialausnutzung w\u00e4hrend langer Produktionszyklen.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div>

\n\t\t\t\t\t
<\/path><\/svg><\/span><\/path><\/svg><\/span>Welche Abscheidungsverfahren werden bei IZO-Sputtertargets verwendet?<\/span><\/path><\/svg><\/div>

IZO-Sputtertargets k\u00f6nnen in Magnetron-Sputterverfahren eingesetzt werden, darunter Gleichstrom-Sputtern und Hochfrequenz-Sputtern. Die Eigenschaften der Schichten h\u00e4ngen von den Abscheidungsparametern ab, wie beispielsweise dem Sauerstoffpartialdruck, der Sputterleistung, der Substrattemperatur und der Zusammensetzung des Targets.<\/p>\n<\/div>\n\t\t\t\t\t<\/div><\/div>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t

\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t

Literaturverzeichnis<\/h2>\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t<\/div>\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t
\n\t\t\t\t\t\t\t