Zirkoniumborid
-Sputter-Targets sind technische Keramikmaterialien, die für die Hochleistungs-Dünnschichtabscheidung in rauen Umgebungen entwickelt wurden. ZrB₂-Targets bieten eine hohe Reinheit, ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit und überlegene thermische Stabilität, wodurch die Herstellung dichter, gleichmäßiger und hochharter Beschichtungen für eine Vielzahl von Anwendungen ermöglicht wird.
Unsere ZrB₂-Sputter-Targets werden unter Verwendung fortschrittlicher Heißpress- oder SPS-Bonding-Verfahren hergestellt, wodurch eine ausgezeichnete mechanische Festigkeit, geringe Porosität und zuverlässige Abscheidungsleistung gewährleistet sind. Wir bieten eine Vielzahl von kundenspezifischen Formen an, darunter planare, rotierende, gebondete und Trägerplatten-Typen, um den Anforderungen von F&E- und industriellen Beschichtungssystemen gerecht zu werden.
Hohe Reinheit
Geringe Porosität und hohe Dichte
Hohe thermische und chemische Stabilität
Geeignet für Hochleistungs-Sputtern und extreme Dünnschicht-Herstellungsbedingungen
Ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit
Vollständig anpassbare Abmessungen
Anpassbare Struktur und Bindungsmethoden
Schutzharzbeschichtungen: Verwendung in Schneidwerkzeugen, verschleißfesten Komponenten und Luft- und Raumfahrtteilen.
Funktionale Keramikschichten: Geeignet für hochtemperaturbeständige, korrosionsbeständige und leitfähige Keramikschichten.
Mikroelektronik und Sensoren: Für hochleitfähige Keramikkomponenten und Barriereschichten.
Optische
Dünnschichten: Ermöglicht dauerhafte, hochstabile Beschichtungen für Infrarot- und Hochenergie-Optiksysteme.
F1: Welche Formen und Größen von ZrB2-Sputter-Targets bieten Sie an?
A1: Wir bieten planare Scheiben, flache Platten, Stufentargets und rotierende Röhrentargets an, die auf Kupfer- oder Aluminium-Trägerplatten geklebt werden können.
F2: Sind ZrB2-Targets für Hochleistungs-Sputtern geeignet?
A2: Ja. Ihre hohe Wärmeleitfähigkeit und ausgezeichnete Keramikfestigkeit ermöglichen einen stabilen Betrieb bei hoher Sputterleistung.
F3: Wie sollten ZrB2-Sputter-Targets gelagert werden?
A3: Lagern Sie sie in einer trockenen, versiegelten Umgebung. Vermeiden Sie Feuchtigkeit und Temperaturschwankungen, um eine Oberflächenoxidation zu verhindern.
F4: Können Reinheit oder Dichte angepasst werden?
A4: Ja, wir können je nach Leistungsanforderungen anpassbare Reinheitsgrade, Dichteoptimierungen und kundenspezifische Sinterprozesse anbieten.
Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.
Stabile Filmqualität: Geringe Partikelbildung und eine hochdichte Targetstruktur gewährleisten eine gleichmäßige Abscheidung.
Kundenspezifische Fertigung: Kundenspezifische Fertigung ist verfügbar, um verschiedenen Beschichtungsanlagen und Anwendungsszenarien gerecht zu werden.
Technischer Support: Unterstützung bei Sputterparametern, Verbindungsmethoden und Beschichtungsoptimierung.
Strenge Qualitätskontrolle: Jedes Target wird auf Reinheit, Dichte, Gleichmäßigkeit und Mikrostruktur geprüft.
Zuverlässige Lieferung und schnelle Lieferung: Eine stabile Materialversorgungskette und effiziente Produktionskapazitäten.
Molekulare Formel: ZrB₂
Molekulargewicht: 112,84 g/mol
Erscheinungsbild: Dunkelgraue bis schwarze dichte Keramikscheibe
Dichte: Ca. 6,0-6,1 g/cm³
Schmelzpunkt: Ca. 3.250 °C
Siedepunkt: Ca. 3.800 °C
Kristallstruktur: Hexagonale Struktur (AlB₂-Typ), mit einer sehr stabilen Gitteranordnung
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte
