Zinn(II)-Oxid

Zinn(II)-oxid-Sputtertargets Übersicht

Zinn(II)-oxid sputtertargets sind Hochleistungsmaterialien, die für fortschrittliche Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt wurden. Sie finden breite Anwendung in transparenten elektronischen Geräten, Gassensoren, Lithiumbatterien und funktionalen Dünnschichten. Diese Materialien bieten eine hervorragende Leitfähigkeit, eine niedrige Ladungsträgerkonzentration und eine ausgezeichnete Schichtgleichmäßigkeit und erfüllen damit die Anforderungen einer breiten Palette von Spitzentechnologien.

Wir bieten Zinn(II)-Oxid-Sputtertargets in verschiedenen Formen und Größen an, darunter rund, rechteckig und ringförmig, und können sie an Ihre spezifischen Anwendungsanforderungen anpassen. Außerdem bieten wir einen umfassenden After-Sales technische Unterstützung um unseren Kunden zu einer stabilen Massenproduktion zu verhelfen.

Produkt-Highlights

Reinheit: 99,99%
Geringer Gehalt an Verunreinigungen gewährleistet eine stabile Filmleistung
Dichte Struktur, hervorragende Sputtering-Rate und Gleichmäßigkeit der Schicht
Anpassbare Größe, Dicke und Montagemethode
Geeignet für die Herstellung transparenter leitfähiger Schichten und Gassensoren

Anwendungen von Zinn(II)-Oxid-Sputter-Targets

Transparente elektronische Geräte: Verwendung als transparentes leitfähiges p-Typ-Filmmaterial in TFT-Displays und organischen lichtemittierenden Bauteilen (OLEDs).
Gassensoren: Für die Herstellung hochempfindlicher Gassensoren auf SnO-Basis zum Nachweis von Gasen wie CO und NO₂. Elektrochemische Geräte: Verwendung als Beschichtung für Anodenmaterialien in Lithium-Ionen-Batterien zur Verbesserung der Zyklenstabilität.
Optoelektronische und funktionelle Dünnschichten: Für Spezialanwendungen wie Infrarotfilter und Glas mit niedrigem Emissionsgrad.

Berichte

Wir bieten ein Analysezertifikat (COA), Sicherheitsdatenblatt (MSDS) und andere relevante Berichte mit jeder Lieferung. Wir unterstützen auch Prüfungen durch Dritte für eine verbesserte Qualitätssicherung.