| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 301300ST001 | ZnAl | 99.99% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 301300ST002 | ZnAl | 99.999% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 301300ST003 | ZnAl | 99.999% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 301300ST004 | ZnAl | 99.999% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 301300ST005 | ZnAl | 99.999% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 301300ST006 | ZnAl | 99.999% | Ø 152.4 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 301300ST007 | ZnAl | 99.999% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
Sputtertargets
aus Zink-Aluminium
-Legierung sind hochwertige Metalltargets, die häufig bei der Herstellung von Dünnschichtbeschichtungen, Batteriematerialien und Hochleistungslegierungen zum Einsatz kommen.
Wir bieten hochreine ZnAl-Sputtertargets an, die für verschiedene Anforderungen bei der Dünnschichtabscheidung und der Herstellung elektronischer Geräte geeignet sind. Kontaktieren Sie uns
für weitere Anpassungsmöglichkeiten.
Hochreines Metall
Hervorragende Sputterleistung
Stabile chemische Eigenschaften
Gute elektrische Leitfähigkeit
Lange Lebensdauer
Hohe Anpassungsfähigkeit
Individuell anpassbare Dienstleistungen
Strenge Qualitätskontrolle
Dünnschichtbeschichtung: Zeigt eine hervorragende Leistung in verschiedenen Dünnschichtbeschichtungsprozessen und wird häufig bei der Herstellung von optoelektronischen Geräten, Sensoren und Displays eingesetzt.
Batteriematerialien: Wird in Lithium-Ionen-Batterien und anderen Batterieelektrodenmaterialien verwendet, um die Leistung und Stabilität der Batterie zu verbessern.
Hochleistungslegierungen: Spielt eine entscheidende Rolle bei der Herstellung von Hochtemperaturlegierungen und verbessert deren Hochtemperaturbeständigkeit und Festigkeit erheblich.
Beschichtungen und Schutz: Weit verbreitet in Oberflächenbeschichtungen, verbessert effektiv die Korrosionsbeständigkeit und Verschleißfestigkeit von Metalloberflächen.
F1: Wie hoch ist die Reinheit unserer ZnAl-Sputter-Targets?
A1: Unsere Targets haben eine Reinheit von 99,999 %. Je nach Kundenwunsch können auch kundenspezifische Reinheiten angeboten werden.
F2: Für welche Sputterprozesse sind ZnAl-Targets geeignet?
A2: Sie eignen sich für DC- und RF-Sputterprozesse und werden häufig bei der Herstellung von Halbleitern und optoelektronischen Bauelementen eingesetzt.
F3: Wie sollten ZnAl-Sputtertargets gelagert werden?
A3: Sie sollten in einer trockenen, gut belüfteten Umgebung gelagert werden, wobei direkter Kontakt mit feuchter Luft zu vermeiden ist, um ihre Stabilität zu gewährleisten.
F4: Welche Sputterleistungseigenschaften haben ZnAl-Targets?
A4: Sie haben eine stabile Sputterleistung und behalten unter verschiedenen Betriebsbedingungen eine konstante Abscheidungsrate bei, wodurch sie für die hochpräzise Dünnschichtfertigung geeignet sind.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir bieten hochwertige, hochreine ZnAl-Sputtertargets. Mit professionellem technischen Support und strenger Qualitätskontrolle sind wir bestrebt, die besten Lösungen für Ihre Projekte zu liefern und effiziente und zuverlässige Anwendungsergebnisse zu gewährleisten.
Molekulare Formel: ZnAl
Äußeres Erscheinungsbild: Silbrig-weißes, metallisches Zielmaterial, dicht und gleichmäßig, mit einer glänzenden Oberfläche
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte