| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 39260800ST001 | Y3Fe5O12 | 99.99% (REO) | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 39260800ST002 | Y3Fe5O12 | 99.99% (REO) | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 39260800ST003 | Y3Fe5O12 | 99.99% (REO) | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 39260800ST004 | Y3Fe5O12 | 99.99% (REO) | Ø 203.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
Sputtertargets aus
Yttrium-Eisenoxid
sind hochreine Yttrium-Eisen-Granat-Targets, die häufig bei der Herstellung von magnetischen Dünnschichten, Mikrowellengeräten und optoelektronischen Materialien verwendet werden.
Wir bieten Y3Fe5O12-Sputtertargets in verschiedenen Größen und Reinheitsgraden mit anpassbaren Formen und Spezifikationen an, um den Anforderungen der wissenschaftlichen Forschung und der industriellen Dünnschichtabscheidung gerecht zu werden. Bitte kontaktieren Sie uns
für detaillierte Informationen.
Hohe Reinheit, geringe Verunreinigungen
Gleichmäßige und dichte Struktur, stabiles Sputtern
Hervorragende magnetische Eigenschaften
Hohe thermische Stabilität
Präzise Kontrolle der chemischen Zusammensetzung
Anpassbare Größen und Formen
Wählbare Rückwand und Verbindungsmethoden
Langfristige Lieferung, zuverlässige Qualität
Magnetische Dünnschichten: Werden zur Herstellung von hochleistungsfähigen magnetischen Dünnschichtgeräten verwendet, um die magnetische Reaktion zu verbessern.
Mikrowellengeräte: Verwendung in Mikrowellenfiltern und Phasenreglern zur Verbesserung der Signalstabilität.
Optoelektronische
Geräte: Verwendung für die Materialabscheidung in optischen Isolatoren, Lasern und anderen Geräten.
Elektronische Keramik: Verwendung in hochfrequenten elektronischen Bauteilen zur Verbesserung der magnetischen Eigenschaften und Stabilität.
F1: Wie hoch ist die Reinheit des Y3Fe5O12-Sputterziels?
A1: Die Reinheit unserer Targets kann über 99,9 % erreichen, was eine stabile Leistung während der Sputterabscheidung gewährleistet.
F2: Können Y3Fe5O12-Sputtertargets in verschiedene Formen verarbeitet werden?
A2: Ja, wir bieten runde Targets, quadratische Targets und Targets in Sondergrößen an, um den Anforderungen verschiedener Geräte gerecht zu werden.
F3: Wie ist die Sputterleistung des Targets?
A3: Das Target ist dicht und gleichmäßig mit geringen Verunreinigungen und weist stabile Sputterraten und eine ausgezeichnete Filmqualität auf.
F4: Wie lauten die Lagerungsanforderungen für Y3Fe5O12-Targets?
A4: Es sollte in einer trockenen, kühlen Umgebung gelagert werden, wobei hohe Temperaturen, Feuchtigkeit oder Stöße zu vermeiden sind, um die Integrität und Leistungsstabilität des Targets zu gewährleisten.
Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.
Wir sind auf die Forschung und Entwicklung sowie die Herstellung von hochreinen Y3Fe5O12-Sputter-Targets spezialisiert und bieten ein strenges Qualitätsmanagement, maßgeschneiderte Dienstleistungen und eine garantierte stabile und zuverlässige Target-Leistung, um den Anforderungen der wissenschaftlichen Forschung und der industriellen Dünnschichtabscheidung gerecht zu werden.
Chemische Formel: Y₃Fe₅O₁₂
Molekulargewicht: 737,94 g/mol
Äußeres Erscheinungsbild: Dunkelbraunes oder schwarzes keramisches Sputtertarget
Dichte: ~5,17 g/cm³
Kristallstruktur: Kubisch (Granatstruktur)
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte
