ULPMAT

Vanadium-Metall

Chemical Name:
Vanadium-Metall
Formula:
V
Product No.:
2300
CAS No.:
7440-62-2
EINECS No.:
231-171-1
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
2300ST001 V 99.9% Ø 25.4mm x 6.35mm Inquire
2300ST002 V 99.9% Ø 50.8mm x 3.175mm Inquire
2300ST003 V 99.9% Ø 50.8mm x 6.35mm Inquire
2300ST004 V 99.95% Ø 76.2mm x 3.175mm Inquire
2300ST005 V 99.95% Ø 76.2mm x 6.35mm Inquire
2300ST006 V 99.95% Ø 100mm x 10mm Inquire
2300ST007 V 99.95% Ø 101.6mm x 6.35mm Inquire
2300ST008 V 99.95% 200 mm x 100 mm x 10 mm Inquire
2300ST009 V 99.9% 639 mm x 145 mm x 6 mm Inquire
Product ID
2300ST001
Formula
V
Purity
99.9%
Dimension
Ø 25.4mm x 6.35mm
Product ID
2300ST002
Formula
V
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8mm x 3.175mm
Product ID
2300ST003
Formula
V
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8mm x 6.35mm
Product ID
2300ST004
Formula
V
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2mm x 3.175mm
Product ID
2300ST005
Formula
V
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2mm x 6.35mm
Product ID
2300ST006
Formula
V
Purity
99.95%
Dimension
Ø 100mm x 10mm
Product ID
2300ST007
Formula
V
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6mm x 6.35mm
Product ID
2300ST008
Formula
V
Purity
99.95%
Dimension
200 mm x 100 mm x 10 mm
Product ID
2300ST009
Formula
V
Purity
99.9%
Dimension
639 mm x 145 mm x 6 mm

Übersicht über Vanadium-Metall-Sputtertargets

Vanadium-Metall
-Sputtertargets sind funktionale Metallmaterialien, die für die Dünnschichtabscheidung verwendet werden und sich durch hervorragende Stabilität und kontrollierbare Sputterleistung auszeichnen. Diese Produkte finden breite Anwendung in Halbleiter-Dünnschichten, funktionalen Beschichtungen, wissenschaftlichen Forschungsexperimenten und verwandten Vakuumabscheidungsbereichen.

Wir bieten Vanadium-Metall-Sputtertargets in verschiedenen Größen und Strukturen an und unterstützen kundenspezifische Bearbeitungen. Bitte kontaktieren Sie uns
für technische Lösungen.

Produkt-Highlights

Gleichmäßige Metallzusammensetzung
Stabiler Sputterprozess
Hohe Targetdichte
Kompatibel mit verschiedenen Vakuumanlagen
Geeignet für Backplane-Bonding
Kundenspezifische Größen möglich

Anwendungen von Vanadium-Metall-Sputtertargets

Halbleiter- und mikroelektronische Dünnschichten:
Vanadium-Metall-Sputtertargets können zur Abscheidung von Vanadium-Metall-Dünnschichten verwendet werden, die für die Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und verwandten Strukturschichten geeignet sind.

Funktionale Beschichtungen und Oberflächenmodifizierung:
Im Bereich der funktionalen Beschichtungen wird dieses Target häufig zur Herstellung von Metall-Dünnschichten mit Verschleißfestigkeit, Leitfähigkeit oder besonderen physikalischen Eigenschaften verwendet.

Wissenschaftliche Forschung und Labor-Sputterstudien:
Vanadium-Targets werden in Universitäten und Forschungseinrichtungen häufig für die Prozessforschung und Leistungsprüfung neuartiger Dünnschichtmaterialien eingesetzt.

Spezialmaterialien und Prozessentwicklung:
Vanadium-Metall-Sputtertargets dienen als wichtige Quelle für die Metallabscheidung bei der Entwicklung neuer Materialien und Prozesse.

Häufig gestellte Fragen

F1: Welche Sputtermethode eignet sich für Vanadium-Metall-Sputtertargets?
A1: Diese Targets können für DC-Sputtern oder RF-Sputtern verwendet werden; die spezifische Methode hängt von der Gerätekonfiguration und den Prozessanforderungen ab.

F2: Sind Vanadiumtargets während des Sputterns stabil?
A2: Unter geeigneten Prozessparametern weisen Vanadiummetalltargets eine gute Sputterstabilität auf, was zur Erzielung gleichmäßiger Dünnschichten beiträgt.

F3: Können Vanadiummetall-Sputtertargets auf eine Rückwand gebondet werden?
A3: Ja, je nach Anwendungsanforderungen können Vanadiumtargets auf Materialien wie Kupferrückwände gebondet werden, um die Wärmeableitung und die Installationsstabilität zu verbessern.

F4: Ist ein Vanadium-Target für die Forschung oder die Massenproduktion geeignet?
A4: Dieses Produkt eignet sich sowohl für die Prozessverifizierung in wissenschaftlichen Forschungsexperimenten als auch für Kleinserien oder kundenspezifische Produktionsszenarien.

Berichte

Jede Charge wird mit
folgenden Dokumenten
geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir konzentrieren uns seit langem auf die Lieferung von Sputtertargets und verwandten Metallmaterialien. Wir sind mit den Anwendungseigenschaften von Vanadiummetall bei der Dünnschichtabscheidung vertraut und können eine stabile Targetqualität, flexible Anpassungsmöglichkeiten und einen
klaren technischen Support
bieten, um Kunden bei der reibungslosen Umsetzung ihrer Sputterprojekte zu unterstützen.

Molekulare Formel: V
Molekulargewicht: 50.9415 g/mol
Erscheinungsbild: Silbergraue metallische Scheibe
Dichte: 6,11 g/cm³
Schmelzpunkt: 1910°C
Siedepunkt: 3377°C
Kristallstruktur: Hexagonal dicht gepackt (hcp)

Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.

Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.

Dokumente

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