Sputtertargets
aus Titanoxid
sind Titanoxid-Targets mit gemischten Valenzzuständen, die sich für die Herstellung von funktionellen Oxid-Dünnschichten in physikalischen Aufdampfverfahren (PVD) eignen. Diese Targets werden häufig in Forschungsbereichen im Zusammenhang mit Phasenwechselmaterialien, elektronischen Funktionsdünnschichten und Übergangsmetalloxiden eingesetzt.
Wir bieten dichte, in ihrer Zusammensetzung stabile Ti₃O₅-Sputter-Targets für die Forschung und die Abscheidung funktioneller Dünnschichten. Wir unterstützen kundenspezifische Target-Backplanes und Backplane-Bonding
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Gemischte Valenzzustände
Stabile Zusammensetzung und Kristallphase
Gute Steuerbarkeit des Sputterprozesses
Hohe Wiederholbarkeit der Dünnschicht
Geeignet für verschiedene PVD-Systeme
Zuverlässige Chargenkonsistenz
Funktionsdünnschichten mit Phasenwechsel:
Ti₃O₅-Dünnschichten werden aufgrund ihres einzigartigen Phasenwechselverhaltens häufig für die Untersuchung von Phasenwechselmechanismen und temperaturabhängigen elektrischen Eigenschaften verwendet.
Elektronische und elektrische Funktionsdünnschichten:
Dieses Target eignet sich für die Abscheidung von Titanoxid-Dünnschichten mit besonderen elektrischen Transporteigenschaften für die Forschung im Bereich Elektronik und Bauelemente.
Forschung an Übergangsmetalloxid-Dünnschichten:
Weit verbreitet für die Erforschung der Struktur und Eigenschaften von Dünnschichten in Übergangsmetalloxid-Systemen.
Forschung und Laborvorbereitung von Dünnschichten:
Geeignet für Universitäten und Forschungseinrichtungen zur Durchführung von PVD-Dünnschichtabscheidungsexperimenten und zur Entwicklung neuer Materialien.
F1: Für welche Arten von Dünnschichten wird das Ti₃O₅-Sputtertarget hauptsächlich verwendet?
A1: Hauptsächlich zur Herstellung von Titanoxid-Dünnschichten mit gemischten Valenzzuständen, wie sie häufig in der Phasenübergangs- und Funktionsdünnschichtforschung vorkommen.
F2: Muss die Sauerstoffatmosphäre kontrolliert werden, wenn dieses Target zum Sputtern verwendet wird?
A2: Im Allgemeinen ist es notwendig, die Sputteratmosphäre zu kontrollieren, um eine stabile Schichtzusammensetzung und Valenzzustandsverteilung zu erhalten.
F3: Für welche Sputtermethode ist das Ti3O5-Sputtertarget geeignet?
A3: Dieses Target ist im Allgemeinen für RF-Magnetron-Sputteranlagen geeignet und kann je nach Ausstattungsbedingungen auch für andere PVD-Prozesse verwendet werden.
F4: Welchen Forschungswert haben Titanoxid-Dünnschichten?
A4: Ihr Forschungswert liegt hauptsächlich in der Untersuchung des Phasenübergangsverhaltens, der Regulierung der elektrischen Eigenschaften und des Mechanismus von Oxiden mit gemischter Valenz.
Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir sind auf die stabile Herstellung und Qualitätskontrolle von Titanoxid-Sputter-Targets spezialisiert und bieten eine zuverlässige Materialgrundlage für die Forschung an funktionellen Ti₃O₅-Dünnschichten.
Molekulare Formel: Ti₃O₅
Molekulargewicht: 231,77 g/mol
Erscheinungsbild: Dunkelblaues oder grauschwarzes Zielmaterial
Dichte: Ungefähr 4,0 g/cm³
Schmelzpunkt: Ungefähr 1857 °C
Kristallstruktur: Monoklin
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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