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Titan-Metall

Chemical Name:
Titan-Metall
Formula:
Ti
Product No.:
2200
CAS No.:
7440-32-6
EINECS No.:
231-142-3
Form:
Drehbares Ziel
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
2200RT001 Ti 99.5% ID125mm x OD145 x 480mm Inquire
2200RT002 Ti 99.9% ID125mm x OD149 x 1900mm Inquire
Product ID
2200RT001
Formula
Ti
Purity
99.5%
Dimension
ID125mm x OD145 x 480mm
Product ID
2200RT002
Formula
Ti
Purity
99.9%
Dimension
ID125mm x OD149 x 1900mm

Übersicht über Titan-Metall-Rotationsziele

Titan-Metall
-Rotationsziele sind für großflächige und kontinuierliche PVD-Beschichtungsprozesse konzipiert und ermöglichen eine stabile und effiziente Abscheidung von Titan-Dünnschichten. Sie finden breite Anwendung in Flachbildschirmen, Architekturglasbeschichtungen, optischen
Folien und der industriellen Oberflächentechnik.

Unsere Titan-Rotationsziele sind auf gleichmäßige Erosion und lange Lebensdauer ausgelegt – sprechen Sie uns an, um die Prozesskompatibilität und die Anforderungen an die Beschichtungsleistung zu besprechen.

Produkt-Highlights

Titanmaterial mit voller Dichte
Gleichmäßiges Erosionsprofil
Lange Nutzungsdauer des Targets
Stabiles Sputterverhalten
Geringe Fehlerquote
Geeignet für Hochleistungs-Sputtern
Großflächige Beschichtungsfähigkeit
Ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit

Anwendungen des Titan-Metall-Rotationstargets

Beschichtungen für Flachbildschirme:
Titan-Rotationstargets unterstützen das kontinuierliche Sputtern in der Displayherstellung und sorgen für eine stabile Schichtdicke und Zusammensetzung über große Substratflächen.
Optische Funktionsschichten:
Rotierende Titanziele ermöglichen eine gleichmäßige Abscheidung optischer Schichten in großflächigen Beschichtungssystemen und verbessern so die Wiederholbarkeit und den Durchsatz der Beschichtung.
Industrielle Oberflächentechnik:
Durch Rotationssputtern hergestellte Titanbeschichtungen werden zur Verbesserung der Verschleißfestigkeit, des Korrosionsschutzes und der Oberflächenfunktionalität von Industriekomponenten aufgebracht.
Produktionslinien mit hohem Durchsatz:
Das Rotationsdesign ermöglicht längere ununterbrochene Sputterläufe, wodurch sich rotierende Titanziele für Massenproduktionsumgebungen eignen.

Häufig gestellte Fragen

F1: Warum werden rotierende Targets für großflächige Titanbeschichtungen bevorzugt?
A1: Rotierende Targets bieten eine gleichmäßigere Erosion und eine höhere Materialausnutzung, was dazu beiträgt, stabile Abscheidungsraten auf großen Substraten aufrechtzuerhalten.

F2: Wie beeinflusst das Rotationssputtern die Gleichmäßigkeit der Schichtdicke?
A2: Die kontinuierliche Rotation sorgt für einen gleichmäßigen Targetverbrauch, reduziert Dickenschwankungen und verbessert die Schichtkonsistenz während langer Beschichtungszyklen.

F3: Sind Titan-Rotationsziele für den Hochleistungsbetrieb geeignet?
A3: Ja, die Rotationsstruktur verbessert die Wärmeableitung und ermöglicht ein stabiles Sputtern bei höheren Leistungsdichten.

F4: In welchen Beschichtungssystemen werden Titan-Rotationsziele üblicherweise verwendet?
A4: Sie werden häufig in Inline-Sputteranlagen für die Glasbeschichtung, die Displayherstellung und in industriellen PVD-Anlagen eingesetzt.

Bericht

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir konzentrieren uns auf rotierende Sputtermaterialien, die auf Stabilität und Langlebigkeit ausgelegt sind und eine gleichmäßige Titanfilmabscheidung in Beschichtungsumgebungen mit hohem Durchsatz unterstützen.

Molekulare Formel: Ti
Molekulargewicht: 47,87 g/mol
Erscheinungsbild: Silbergraues, dichtes, rotierendes Zielrohr
Dichte: 4,51 g/cm³
Schmelzpunkt: 1668 °C
Siedepunkt: 3287 °C
Kristallstruktur: Hexagonal dicht gepackt (α-Ti, hcp)

Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.

Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.

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