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Tantal-Wolfram-Legierung

Chemical Name:
Tantal-Wolfram-Legierung
Formula:
TaW
Product No.:
737400
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
737400ST001 TaW (90:10wt%) 99.95% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
737400ST002 TaW (90:10wt%) 99.95% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
737400ST001
Formula
TaW (90:10wt%)
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
737400ST002
Formula
TaW (90:10wt%)
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Tantal-Wolfram-Legierung Sputtering Target Übersicht

Tantal-Wolfram Alloy Sputtertarget ist ein hochschmelzendes, hochfestes Sputtermaterial aus einer Legierung aus Tantal (Ta) und Wolfram (W), das speziell für Dünnschichtabscheidungsprozesse unter rauen Bedingungen entwickelt wurde. Seine ausgezeichnete thermische Stabilität, Korrosionsbeständigkeit und mechanische Festigkeit machen es zu einer idealen Wahl für Plasmaumgebungen und Hochtemperaturprozesse.

Wir können Sputtertargets aus Tantal-Wolfram-Legierungen in einer Vielzahl von Formen und Größen anbieten, einschließlich runder, rechteckiger oder kundenspezifischer Targets, um die vielfältigen Anwendungsanforderungen in der wissenschaftlichen Forschung und der Industrie zu erfüllen. Außerdem bieten wir einen umfassenden After-Sales technische Unterstützung um Ihnen zu helfen, den Materialeinsatz effizient zu gestalten.

Produkt-Highlights

Zusammensetzung: Anpassbar
Reinheit: 99,95%
Schmelzpunkt bis > 3000°C, geeignet für Hochtemperaturabscheidungsprozesse
Ausgezeichnete thermische Stabilität und mechanische Festigkeit
Starke Plasmakorrosionsbeständigkeit, geeignet für raue Abscheidungsbedingungen
Größe, Legierungsverhältnis und Back-Target-Struktur können je nach Kundenwunsch angepasst werden

Anwendung von Sputtertargets aus Tantal-Wolfram-Legierungen

Halbleiter herstellung von Bauteilen: Als Diffusionssperrschicht oder Hochtemperatur-Metallelektrode hat es sowohl Leitfähigkeit als auch Stabilität
Herstellung integrierter Schaltungen: Verwendung als Liner und Substratschicht in hochdichten Verbindungen (HDI) oder Kupferverbindungen
Vorbereitung einer harten Beschichtung: Hohe Härte und Korrosionsbeständigkeit bei Werkzeugbeschichtungen und verschleißfesten Beschichtungen
Optoelektronik und neue Energiematerialien: Leistungskontrolle in speziellen funktionalen Dünnschichten und Verbundtargetsystemen

Bericht

Wir bieten ein vollständiges analysezertifikat (COA), ein Sicherheitsdatenblatt (MSDS) und einen Bericht über die Prüfung der relevanten Komponenten für jede Charge von Tantal-Wolfram-Legierungszielen. Wir unterstützen auch Prüfberichte von Drittanbietern, um Datentransparenz und Qualitätskontrolle zu gewährleisten.

Molekulare Formel: TaW
Äußeres Erscheinungsbild: Silbergraues, dichtes Metalltarget mit glatter Oberfläche
Dichte: etwa 16,5 g/cm³ (nahe der theoretischen Dichte)
Schmelzpunkt: ca. 3.170 °C (Schmelzpunkt der Legierung, je nach Verhältnis von Tantal zu Wolfram leicht unterschiedlich)
Kristallstruktur: kubisch-raumzentriert (BCC)

Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.

Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.

SKU 737400ST Kategorie Marke:

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