| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 730800ST001 | Ta2O5 | 99.95% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 730800ST002 | Ta2O5 | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 730800ST003 | Ta2O5 | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 730800ST004 | Ta2O5 | 99.995% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 730800ST005 | Ta2O5 | 99.995% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 730800ST006 | Ta2O5 | 99.995% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 730800ST007 | Ta2O5 | 99.995% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 730800ST008 | Ta2O5 | 99.995% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 730800ST009 | Ta2O5 | 99.995% | Ø 203.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
Tantalpentoxid sputtertargets sind ein Schlüsselmaterial, das in der Mikroelektronik, Optoelektronik und Präzisionsoptik weit verbreitet ist. Dank ihrer hohen Dielektrizitätskonstante, ihrer ausgezeichneten optischen Transparenz und ihrer thermischen Stabilität können sie in elektronischen Geräten der nächsten Generation außergewöhnliche Leistungen erbringen.
Wir bieten eine Vielzahl von Tantalpentoxid-Sputtertargets in verschiedenen Größen und Formen an, einschließlich runder und rechteckiger Formen, die an die Anforderungen der Kundenanwendungen angepasst werden können. Wir bieten auch umfassende technische Unterstützung und after-Sales-Service um eine effiziente und zuverlässige Nutzung des Materials zu gewährleisten.
Reinheit: 99,95% bis 99,995%
Hohe dielektrische Eigenschaften für moderne elektronische Geräte
Ausgezeichnete chemische Stabilität für raue Umgebungen
Anpassbare Größen und Spezifikationen für eine Vielzahl von Sputtering-Anlagen
Target-Bonden dienstleistungen verfügbar
Geringe Partikelabwurfsrate für verbesserte Filmqualität
Halbleiter Bauelemente: Verwendung als High-k-Gate-Oxidmaterial für CMOS-Bauelemente und DRAM-Kondensatoren.
Optisch Dünne Schichten: Wird als Material mit hohem Brechungsindex in optischen Komponenten wie Interferenzfiltern und Antireflexionsbeschichtungen verwendet.
Datenspeicherung: Verwendung als funktionelle Oxidschicht in resistiven Direktzugriffsspeichern (RRAM). Solarzellen: Dient als Antireflexions- oder Pufferschicht und verbessert die Lichtabsorptionseffizienz und die Stabilität des Geräts.
Wir liefern ein detailliertes Analysezertifikat (COA), Sicherheitsdatenblatt (MSDS) und relevante technische Berichte für jede Charge von Ta₂O₅-Sputtertargets. Wir unterstützen auch unabhängige Prüfdienste von Drittanbietern, um die Qualitätssicherung weiter zu verbessern.
Molekulare Formel: Ta₂O₅
Molekulargewicht: 441,89 g/mol
Äußeres Erscheinungsbild: Weißes, dichtes keramisches Target mit einer glatten Oberfläche
Dichte: Ungefähr 8,2 g/cm³ (nahe der theoretischen Dichte)
Schmelzpunkt: Ungefähr 1.880°C
Kristallstruktur: Monoklin
Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.
Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte