ULPMAT

Tantal-Nitrid

Chemical Name:
Tantal-Nitrid
Formula:
TaN
Product No.:
730700
CAS No.:
12033-62-4
EINECS No.:
234-788-4
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
730700ST001 TaN 99.5% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
730700ST002 TaN 99.5% Ø 50.8 mm x 3.175 mm Inquire
730700ST003 TaN 99.5% Ø 76.2 mm x 3.175 mm Inquire
730700ST004 TaN 99.5% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
730700ST005 TaN 99.5% Ø 203.2 mm x 6.35 mm Inquire
730700ST006 TaN 99.9% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
730700ST007 TaN 99.9% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
730700ST001
Formula
TaN
Purity
99.5%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Product ID
730700ST002
Formula
TaN
Purity
99.5%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Product ID
730700ST003
Formula
TaN
Purity
99.5%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Product ID
730700ST004
Formula
TaN
Purity
99.5%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Product ID
730700ST005
Formula
TaN
Purity
99.5%
Dimension
Ø 203.2 mm x 6.35 mm
Product ID
730700ST006
Formula
TaN
Purity
99.9%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
730700ST007
Formula
TaN
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Tantalnitrid-Sputtertargets Übersicht

Tantal-Nitrid sputtertargets sind keramische Hochleistungsmaterialien, die für fortschrittliche Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt wurden. Sie weisen einen hohen Reinheitsgrad und eine dichte Struktur auf und verfügen über eine ausgezeichnete Härte und thermische Stabilität, die eine gleichmäßige Schichtbildung und eine langfristig stabile Prozessleistung gewährleisten.

Wir bieten eine Vielzahl von Tantalnitrid-Sputtertargets in verschiedenen Spezifikationen und Größen an, die entsprechend den speziellen Anforderungen der Kunden angepasst werden können. Wir bieten auch eine umfassende technische Unterstützung nach dem Verkauf. Wenn Sie Fragen haben, zögern Sie bitte nicht kontaktieren Sie uns.

Produkt-Highlights

Reinheit: 99,5% bis 99,9%
Hohe Dichte zur Gewährleistung einer gleichmäßigen Schichtabscheidung
Anpassbare Größe und Form, um den Anforderungen verschiedener Geräte gerecht zu werden
Geeignet für Halbleiterbauelemente, harte Beschichtungen und verschleißfeste Schutzfilme

Anwendungen von Tantal-Nitrid-Sputter-Targets

Halbleiter: verwendung als Diffusionsbarrieren und leitende Schichten mit guter thermischer Stabilität und Korrosionsbeständigkeit.
Hartbeschichtungen: weit verbreitet zur Verbesserung der Härte und Verschleißfestigkeit der Oberfläche von Schneidwerkzeugen, Formen und mechanischen Teilen.
Verschleißfeste Schutzschichten: zur Verbesserung der Verschleißfestigkeit von Geräten und zur Verlängerung ihrer Lebensdauer.
Mikroelektronische Geräte: als niederohmige Kontakt- und Schutzschichten zur Verbesserung der Stabilität der Geräteleistung.

Bericht

Wir liefern detaillierte Analysezertifikat (COA), Sicherheitsdatenblätter (MSDS) und zugehörige Qualitätsprüfungsberichte für jede Charge von TaN-Sputtertargets, um eine stabile und zuverlässige Produktqualität zu gewährleisten. Gleichzeitig unterstützen wir Prüfdienste Dritter, um unseren Kunden eine höhere Qualitätssicherung zu bieten.

Molekulare Formel: TaN
Molekulargewicht: 183,84 g/mol
Äußeres Erscheinungsbild: Dunkelgraues, dichtes keramisches Target mit glatter und gleichmäßiger Oberfläche
Dichte: etwa 14,5 g/cm³ (nahe der theoretischen Dichte)
Schmelzpunkt: ca. 3.700 °C
Kristallstruktur: kubisch-flächenzentriert (fcc)

Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.

Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.

SKU 730700ST Kategorie Marke:

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