Strontiumvanadat
-Sputtertargets werden häufig zur Herstellung von optischen Dünnschichten, funktionellen Oxid-Dünnschichten und Forschungsbeschichtungen für optoelektronische Geräte verwendet.
Wir bieten eine Vielzahl von Strontiumvanadat-Sputter-Targets an, darunter Keramik-Targets, heißgepresste Targets, Standardgrößen und Sondergrößen. Dichte, Reinheit und Maßparameter können an verschiedene Beschichtungsanlagen und Prozessbedingungen angepasst werden. Während der Target-Verarbeitung werden Dichte und Mikrostruktur-Gleichmäßigkeit streng kontrolliert, um hervorragende Schichtabscheidungsraten und Stabilität zu gewährleisten. Bitte kontaktieren Sie uns fü
r weitere Informationen.
Keramikstruktur mit hoher Dichte
Gute Filmgleichmäßigkeit
Geringer Verunreinigungsgehalt, stabile Leistung
Unterstützt mehrere Sputterprozesse
Ausgezeichnete Wärme- und Rissbeständigkeit
Target-Bonding verfügbar
Sondergrößen verfügbar
Verwendung zur Herstellung optischer
Dünnschichten zur Verbesserung der Leistung optischer Bauelemente.
Verwendung für die Forschung an funktionellen Oxid-Dünnschichten, um den Anforderungen der Erforschung multistruktureller Bauelemente gerecht zu werden.
Verwendung für Beschichtungen optoelektronischer Geräte zur Verbesserung der Reaktionseigenschaften dünner Schichten.
Verwendung für Materialverifizierung und Leistungstests in Labors und Pilotanlagen.
F1: Hat die Dichte des Strontiumvanadat-Targets einen wesentlichen Einfluss auf die dünne Schicht?
A1: Eine höhere Dichte führt zu einem stabileren Sputterprozess, wodurch die Partikelablösung deutlich reduziert und die Gleichmäßigkeit der Schicht verbessert wird.
F2: Ist das Target für Hochleistungs-Magnetron-Sputteranlagen geeignet?
A2: Die Targetstruktur ist für höhere Energiedichten optimiert und eignet sich für verschiedene Arten von Magnetron-Sputteranlagen.
F3: Können die Targetkanten entsprechend der Anlagenstruktur speziell bearbeitet werden?
A3: Ja, Fasen, Rückplattenverschweißungen und Sonderformen können entsprechend der Kavitäts- und Targethalterstruktur angepasst werden.
F4: Was ist zu tun, wenn während des Sputterns Lichtbögen auftreten?
A4: Dies hängt in der Regel mit der Atmosphäre in der Kavität oder dem Zustand der Targetoberfläche zusammen. Eine Anpassung des Gasdrucks und der Leistung sowie eine Vorbehandlung der Targetoberfläche sollten Abhilfe schaffen.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir konzentrieren uns seit langem auf die Herstellung von funktionalen Oxid-Sputter-Targets. Durch stabile Formulierungskontrolle, präzise Sinterprozesse und strenge Testverfahren bieten wir zuverlässige Sputter-Target-Lieferungen für verschiedene Forschungsteams und Anwender in der Dünnschichtproduktion. Wir unterstützen Sie mit schneller Lieferung, technischer Beratung und maßgeschneiderten Dienstleistungen und gewährleisten so eine konsistente und zuverlässige Unterstützung von der Materialauswahl bis zur Prozessanwendung, damit Ihre Dünnschichtprojekte effizienter und stabiler voranschreiten können.
Chemische Formel: Sr₂V₂O₇
Molekulargewicht: 247,87 g/mol
Äußeres Erscheinungsbild: Weißes bis cremefarbenes keramisches Sputtertarget
Kristallstruktur: Tetragonal (Pyrosaltyp)
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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