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Strontium-Ruthenium-Oxid

Chemical Name:
Strontium-Ruthenium-Oxid
Formula:
SrRuO3
Product No.:
38440800
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
38440800ST001 SrRuO3 99.9% Ø 25.4 mm x 3.175 mm Inquire
38440800ST002 SrRuO3 99.9% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
38440800ST001
Formula
SrRuO3
Purity
99.9%
Dimension
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Product ID
38440800ST002
Formula
SrRuO3
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm

Strontium-Rutheniumoxid-Sputter-Targets – Übersicht

Hochreine Strontium-Rutheniumoxid
-Sputter-Targets eignen sich für die Herstellung von funktionalen Dünnschichten und elektronischen Bauteilen.

Wir bieten hochdichte SrRuO3-Sputter-Targets in verschiedenen Spezifikationen an, die sich für die wissenschaftliche Forschung und die industrielle Dünnschichtabscheidung eignen. Kontaktieren Sie uns
für Muster oder zur Anpassung der Targetgrößen. Wir bieten professionellen technischen Support und Kundendienst.

Produkt-Highlights

Hohe Reinheit
Dicht und gleichmäßig, porenfrei
Hervorragende elektrische Leitfähigkeit und thermische Stabilität
Einfache Sputterabscheidung
Unterstützt verschiedene Targetformen und -größen
Target-Bonding-Services verfügbar
Chemisch stabil
Erfüllt die Anforderungen der wissenschaftlichen Forschung und der industriellen Dünnschichttechnik
Starke Produktionskapazitäten für kundenspezifische Anpassungen

Anwendungen von Strontium-Rutheniumoxid-Sputter-Targets

Herstellung von leitfähigen Dünnschichten in elektronischen Geräten.
Erzielung von hochleistungsfähigen leitfähigen Schichten in funktionalen keramischen Dünnschichten.
Verwendung in supraleitenden Materialien und entsprechenden wissenschaftlichen Forschungsexperimenten.
Herstellung von mehrschichtigen Verbundfilmen oder optischen Dünnschichten zur Verbesserung der Materialeigenschaften.

Häufig gestellte Fragen

F1: Für welche Abscheidungsverfahren sind SrRuO3-Sputtertargets geeignet?
A1: Geeignet für verschiedene Dünnschicht-Herstellungsverfahren wie DC-Magnetron-Sputtern (DC), RF-Sputtern und Pulslaserabscheidung (PLD).

F2: Wie sollte das Target gelagert werden, um seine Leistungsfähigkeit zu erhalten?
A2: Lagern Sie es in einer trockenen, kühlen und versiegelten Umgebung und vermeiden Sie Feuchtigkeit und längere Einwirkung von Luft.

F3: Können Größe und Form des Targets angepasst werden?
A3: Wir können runde Targets, quadratische Targets und Dickenspezifikationen nach Kundenwunsch anpassen, um die Einhaltung verschiedener Anforderungen an Abscheidungsanlagen zu gewährleisten.

F4: Wie garantieren Sie die Gleichmäßigkeit und Reinheit des Targets?
A4: Jede Charge von Targets wird einer chemischen Zusammensetzungsanalyse und einer Dichtprüfung unterzogen, um Gleichmäßigkeit und hohe Reinheit zu gewährleisten, die für wissenschaftliche Forschung und industrielle Anwendungen geeignet sind.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir verfügen über ausgereifte Technologien zur Herstellung von SrRuO3-Targets mit hoher Dichte und ein umfassendes Qualitätskontrollsystem. Wir bieten anpassbare, hochreine und stabile Sputtertargets sowie professionelle technische Dienstleistungen, um zuverlässige Ergebnisse in der wissenschaftlichen Forschung und der industriellen Dünnschichtfertigung zu gewährleisten.

Chemische Formel: SrRuO₃
Molekulargewicht: 213,06 g/mol
Erscheinungsbild: Dunkelgraues bis schwarzes keramisches Sputtertarget
Dichte: ~6,5 g/cm³
Schmelzpunkt: ~1.350 °C (ca., zersetzt sich vor dem Schmelzen)
Kristallstruktur: Orthorhombischer Perowskit-Typ

Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.

Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.

Dokumente

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