| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 140700ST001 | Si3N4 | 99.5% | Ø 25.4mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST002 | Si3N4 | 99.5% | Ø 25.4mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST003 | Si3N4 | 99.9% | Ø 25.4mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST004 | Si3N4 | 99.9% | Ø 25.4mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST005 | Si3N4 | 99.5% | Ø 50.8mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST006 | Si3N4 | 99.5% | Ø 50.8mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST007 | Si3N4 | 99.9% | Ø 50.8mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST008 | Si3N4 | 99.9% | Ø 50.8mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST009 | Si3N4 | 99.5% | Ø 76.2mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST010 | Si3N4 | 99.5% | Ø 76.2mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST011 | Si3N4 | 99.9% | Ø 76.2mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST012 | Si3N4 | 99.9% | Ø 76.2mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST013 | Si3N4 | 99.5% | Ø 101.6mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST014 | Si3N4 | 99.5% | Ø 101.6mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST015 | Si3N4 | 99.9% | Ø 101.6mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST016 | Si3N4 | 99.9% | Ø 101.6mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST017 | Si3N4 | 99.5% | Ø 203.2mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST018 | Si3N4 | 99.5% | Ø 203.2mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST019 | Si3N4 | 99.9% | Ø 203.2mm x 3.175 mm | Inquire |
| 140700ST020 | Si3N4 | 99.9% | Ø 203.2mm x 6.35 mm | Inquire |
| 140700ST021 | Si3N4 | 99.5% | 300mm x 186mm x 6mm | Inquire |
| 140700ST022 | Si3N4 | 99.9% | 378.2mm x 121.15mm x 6.35mm | Inquire |
| 140700ST023 | Si3N4 | 99.9% | 400mm x 289mm x 10mm | Inquire |
Sputtertargets
aus Siliziumnitrid
sind hochleistungsfähige Keramiktargets, die sich durch extreme Härte, hervorragende elektrische Isolierung und ausgezeichnete chemische Stabilität auszeichnen. Sie werden in erster Linie zur Abscheidung von hochharten Schutzbeschichtungen, Halbleiter-Isolierschichten und speziellen optischen Dünnschichten verwendet und sind wichtige Beschichtungsmaterialien in den Bereichen Präzisionswerkzeuge, Mikroelektronik und Hochtemperaturgeräte.
Wir bieten hochreine Siliziumnitrid-Keramik-Sputtertargets mit hoher Dichte. Wir können verschiedene Größen und Spezifikationen entsprechend Ihren Prozessanforderungen anpassen und bieten professionelle Dienstleistungen zum Aufbringen von
Metallträgerplatten an.
Außergewöhnliche Härte und Verschleißfestigkeit
Hervorragende elektrische Isolierung
Ausgezeichnete thermische Stabilität und Temperaturwechselbeständigkeit
Hohe chemische Trägheit und Korrosionsbeständigkeit
Gleichmäßige und dichte Dünnschichten
Werkzeug- und Formbeschichtungen:
Werden zur Beschichtung von Schneidwerkzeugen und Stanzwerkzeugen verwendet und verbessern deren Verschleißfestigkeit und Bearbeitungsgenauigkeit erheblich.
Halbleiter-Isolierschichten:
Dienen als hochwertige dielektrische Isolierschicht in integrierten Schaltkreisen und Sensoren und gewährleisten einen stabilen Betrieb der Geräte.
Schutz von Luft- und Raumfahrtkomponenten:
Bietet hochtemperaturbeständige und oxidationshemmende Schutzbeschichtungen für Motorkomponenten, die für extreme Umgebungen geeignet sind.
Biomedizinische Geräte:
Nutzt seine gute Biokompatibilität und chemische Stabilität für funktionelle Beschichtungen auf den Oberflächen implantierbarer Geräte.
F1: Wie hoch sind die Reinheit und Dichte des Siliziumnitrid-Targets?
A1: Unsere Produkte erreichen in der Regel eine Reinheit von über 99,9 % und eine Sinterdichte von über 98 % der theoretischen Dichte, was einen stabilen Sputterprozess gewährleistet.
F2: Für welchen Sputterprozess wird es hauptsächlich verwendet?
A2: Es wird in erster Linie das Hochfrequenz-Magnetron-Sputtern empfohlen, da es dieses isolierende Keramikmaterial effektiv verarbeitet.
F3: Welche Formen und Verbindungsmethoden können Sie anbieten?
A3: Wir können verschiedene Formen wie kreisförmig und rechteckig anbieten und unterstützen die integrierte Verbindung mit Trägerplatten wie Kupfer oder Molybdän.
F4: Was sind die Leistungsmerkmale der abgeschiedenen Schicht?
A4: Die abgeschiedene Siliziumnitridschicht weist eine hohe Härte, gute Isolierung, stabile chemische Eigenschaften und eine ausgezeichnete Barrierewirkung auf.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir sind auf die Forschung und Entwicklung sowie die Produktion von hochleistungsfähigen Keramik-Sputter-Targets spezialisiert und verfügen über fortschrittliche Pulververarbeitungs- und Sintertechnologien. Wir verfügen über ein tiefgreifendes Verständnis der Materialeigenschaften von Siliziumnitrid und können Ihnen professionelle Unterstützung von der Materialauswahl bis hin zu Empfehlungen für Prozessparameter bieten. Wenn Sie sich für uns entscheiden, erhalten Sie zuverlässige Produkte mit detaillierten Daten sowie effiziente und bequeme Lieferkettendienstleistungen, die eine solide Grundlage für Ihre Forschung und Produktion bilden.
Molekulare Formel: Si3N4
Molekulargewicht: 140,28 g/mol
Erscheinungsbild: Hellgraue dichte Scheibe
Schmelzpunkt: 1900 °C (zersetzt sich)
Kristallstruktur: Hexagonal (α-Si3N4); Tetragonal oder rhomboedrisch (β-Si3N4)
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte
