Rhodium-Metall
-Sputtertargets sind hochreine Edelmetallmaterialien mit ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit, chemischer Stabilität und hoher Reflektivität. Aufgrund ihrer hervorragenden thermischen Stabilität und der Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung sind sie ein wichtiges Material für die Herstellung von elektronischen Geräten, optischen Beschichtungen und hochpräzisen Sensoren. Diese Targets können in verschiedenen PVD-Sputteranlagen eingesetzt werden und eignen sich sowohl für die Forschung als auch für die industrielle Produktion.
Wir bieten Rhodium-Sputter-Targets in verschiedenen Größen und Formen an, darunter runde, rechteckige und rotierende Targets, und können die Dicke und Reinheitsgrade nach Kundenwunsch anpassen. Kontaktieren Sie uns
für ein Angebot.
Hohe Reinheit (99,99 %)
Hervorragende Gleichmäßigkeit der Dünnschicht
Hohe Reflektivität und Oxidationsbeständigkeit
Geeignet für Hochleistungs-Sputtern
Gute thermische Stabilität
Anpassbare
Größen und Formen
Glatte Oberfläche, einfache Installation
Hohe Chargenkonsistenz
Optische
Beschichtungen: Werden zur Herstellung von hochreflektierenden und verschleißfesten optischen Dünnschichten verwendet.
Mikroelektronische Geräte: Geeignet für die Abscheidung von Chips, Elektroden und Kontakten.
Abscheidung katalytischer Schichten: Verwendung für katalytische Dünnschichten in Automobilabgasen und in der Industrie.
Sensorherstellung: Bietet Dünnschichtmaterialien mit stabiler Leitfähigkeit und Korrosionsbeständigkeit.
F1: Wie werden die Targets verpackt?
A1: Alle Rhodium-Sputter-Targets werden in feuchtigkeitsbeständigen Vakuumverpackungen mit robusten Polstermaterialien verpackt, um sie während des Transports vor Verunreinigungen und mechanischen Beschädigungen zu schützen.
F2: Gibt es besondere Anforderungen für den Transport?
A2: Die Targets erfordern keinen Kühlketten-Transport, aber wir bieten stoßfeste und feuchtigkeitsbeständige Schutzmaßnahmen, die für den internationalen Versand geeignet sind.
F3: Was sind die wichtigsten Vorteile von Rhodium-Sputter-Targets?
A3: Hohe Reinheit, gleichmäßige Schicht und starke Korrosionsbeständigkeit, geeignet für hochwertige optische, elektronische und katalytische Dünnschichtprozesse.
F4: Wie werden Targets gelagert, um ihre Leistungsfähigkeit zu erhalten?
A4: Es wird empfohlen, sie in einer trockenen, staubarmen Umgebung zu lagern, die Originalverpackung verschlossen zu halten und eine längere Exposition gegenüber Luft zu vermeiden, um die Oberflächenoxidation zu verringern.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.
Wir sind auf die Forschung und Herstellung von Edelmetall-Sputter-Targets spezialisiert und bieten hochreine Rhodium-Sputter-Targets mit hoher Dichte, die für verschiedene PVD-Systeme geeignet sind. Mit fortschrittlichen Sinterverfahren, strenger Qualitätskontrolle und einer stabilen Lieferkette bieten wir zuverlässige und rückverfolgbare Materiallösungen für Forschungseinrichtungen und Industriekunden. Wir unterstützen kundenspezifische Anpassungen, schnelle Reaktionszeiten und globale Logistik, um sicherzustellen, dass unsere Kunden leistungsstarke Targets und umfassende Servicegarantien erhalten.
Chemische Formel: Rh
Atommasse: 102,91 g/mol
Erscheinungsbild: Silbrig-weiße metallische Scheibe oder rechteckige Platte
Dichte: 12,41 g/cm³ (fest)
Schmelzpunkt: 1964 °C
Siedepunkt: 3695 °C
Kristallstruktur: Flächenzentriert kubisch (FCC)
Härte: Ungefähr 6 auf der Mohs-Skala
Elektrische Leitfähigkeit: Gute elektrische Leitfähigkeit
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte