| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 280800ST001 | NiO | 99.9% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 280800ST002 | NiO | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 280800ST003 | NiO | 99.9% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 280800ST004 | NiO | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 280800ST005 | NiO | 99.9% | Ø 75 mm x 4 mm | Inquire |
| 280800ST006 | NiO | 99.95% | Ø 76.2 mm x 5 mm | Inquire |
| 280800ST007 | NiO | 99.95% | Ø 203.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 280800ST008 | NiO | 99.9% | 127 mm x 101 mm x 7mm | Inquire |
| 280800ST009 | NiO | 99.9% | 200 mm x 75 mm x 3.2mm | Inquire |
Nickel-Oxid sputtertargets sind hochreine Nickeloxid-Targets, die sich für die Präzisionsabscheidung von funktionalen Dünnschichten und elektronischen Keramikschichten eignen.
Wir bieten chemisch stabile und hochdichte NiO-Sputtertargets an. Kundenspezifische Größen und Spezifikationen können je nach Ausrüstung und Prozessanforderungen geliefert werden. Bitte kontaktieren Sie uns für technische informationen.
Hochreines Nickeloxid
Ausgezeichnete Targetdichte
Gleichmäßige und stabile Zusammensetzung
Gleichmäßige Schichtabscheidung
Geeignet für Magnetronsputtern
Unterstützt kundenspezifische Anpassungen mit mehreren Spezifikationen
Unterstützt kleben und Backplane-Anpassung
Elektronische keramische Dünnschichten: Kann für die Abscheidung elektronischer keramischer Materialien verwendet werden, um elektrische, magnetische oder optische Eigenschaften zu steuern.
Herstellung funktioneller Dünnschichten: Geeignet für die Herstellung funktioneller Dünnschichten, wie z. B. leitende Schichten, optoelektronische Schichten oder Schutzschichten.
Katalytische Dünnschichten: Kann für die Abscheidung von katalytischen Vorrichtungen oder katalytischen Dünnschichten verwendet werden, um die Effizienz und Selektivität katalytischer Reaktionen zu verbessern.
Forschung und Prozessentwicklung: Geeignet für Forschungseinrichtungen zur Kontrolle der Dünnschichtstruktur, zur Optimierung von Zielparametern und für neue Prozessexperimente.
Q1: Für welche Art von Sputtering-Anlage ist das NiO-Sputter-Target geeignet?
A1: Es kann in Magnetron-Sputteranlagen verwendet werden, aber spezifische Anforderungen müssen mit den Anlagenspezifikationen bestätigt werden.
Q2: Ist die Zusammensetzung des Targets gleichmäßig und stabil?
A2: Ja, die Targetzusammensetzung bleibt über den gesamten Targetblock hinweg konstant, wodurch die Gleichmäßigkeit der Schicht gewährleistet ist.
F3: Unterstützen Sie kundenspezifische Größen oder Forschungsspezifikationen?
A3: Ja, wir können verschiedene Größen und Spezifikationen je nach Versuchs- oder Produktionsbedarf anbieten.
F4: Ist die Zusammensetzung des gesputterten Films kontrollierbar?
A4: Bei angemessenen Prozessparametern stimmt die Zusammensetzung der Folie gut mit dem Ziel überein.
Jede Charge wird geliefert mit:
Zertifikat der Analyse (COA)
Technisches Datenblatt (TDS)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Bericht zur Größeninspektion
Prüfberichte von Dritten auf Anfrage erhältlich
Wir sind spezialisiert auf die F&E und die Herstellung von hochreinen NiO-Sputtertargets spezialisiert, wobei wir besonderen Wert auf die Targetdichte, die Gleichmäßigkeit der Zusammensetzung und die Anpassungsfähigkeit des Prozesses legen. Wir bieten eine zuverlässige Materialunterstützung für funktionelle Dünnschichten, elektronische Keramiken und wissenschaftliche Forschungsanwendungen.
Molekulare Formel: NiO
Molekulargewicht: 74,69 g/mol
Erscheinungsbild: Schwarzes oder grünes metallisches Target mit einer glatten Oberfläche
Dichte: Ca. 6,67 g/cm³
Schmelzpunkt: Ca. 1.915°C
Siedepunkt: Ca. 2.700°C
Kristallstruktur: Steinsalzstruktur
Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.
Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte
