Nickel-Mangan-Legierung

Übersicht über Sputtertargets aus Nickel-Mangan-Legierung

Sputtertargets
aus Nickel-Mangan
-Legierung sind Nickel-Mangan-Legierungsmaterialien, die in Dünnschicht-Abscheidungsprozessen verwendet werden und häufig bei der Herstellung von magnetischen Dünnschichten und funktionalen Legierungsschichten zum Einsatz kommen.

Wir bieten NiMn-Sputtertargets mit kontrollierbaren Zusammensetzungsverhältnissen und dichten Strukturen an und unterstützen die Anpassung
in verschiedenen Größen. Bitte kontaktieren Sie uns
für detaillierte technische Informationen.

Produkt-Highlights

Einstellbares Nickel-Mangan-Verhältnis
Gleichmäßige Legierungsmikrostruktur
Stabile Filmzusammensetzung
Geeignet für Magnetron-Sputterprozesse
Anpassbare Rückwand und Verbindung
Hohe Target-Ausnutzungsrate
Gute Prozesswiederholbarkeit

Anwendungen von Nickel-Mangan-Legierung-Sputter-Targets

Magnetische Funktionsdünnschichten: Geeignet für die Herstellung von Legierungsdünnschichten mit spezifischen magnetischen Reaktionen, die den Anforderungen von Anwendungen zur Modulation magnetischer Eigenschaften entsprechen.
Mikroelektronik und Geräteherstellung: Wird zur Bildung stabiler funktionaler Legierungsschichten in einigen mikroelektronischen Geräten verwendet, bei denen eine hohe Filmkonsistenz erforderlich ist.
Forschung zu elektromagnetischen Materialien: Kann als wichtiges Material für die Untersuchung der Modulation elektromagnetischer Eigenschaften und für die Erforschung neuartiger Legierungsdünnschichtstrukturen dienen.
Forschung und Prozessvalidierung: Geeignet für den experimentellen Einsatz durch Forschungseinrichtungen und F&E-Abteilungen zur Optimierung von Prozessparametern, zur Überprüfung von Zusammensetzungsverhältnissen und zur Erforschung der Materialeigenschaften.

Häufig gestellte Fragen

F1: Für welche Art von Sputteranlagen ist das NiMn-Sputtertarget geeignet?
A1: Es kann in gängigen Magnetron-Sputteranlagen verwendet werden. Die spezifische Kompatibilität muss anhand der Gerätespezifikationen überprüft werden.

F2: Kann das Zusammensetzungsverhältnis des Targets angepasst werden?
A2: Ja, je nach den Leistungszielen für die Dünnschicht können Target-Lösungen mit unterschiedlichen Nickel-Mangan-Verhältnissen bereitgestellt werden.

F3: Ist das Target während des Gebrauchs anfällig für Oxidation?
A3: Unter normalen Lager- und Prozessbedingungen ist die Target-Oberfläche stabil und das Oxidationsrisiko kontrollierbar.

F4: Unterstützt es kleine Größen oder experimentelle Spezifikationen?
A4: Ja, es eignet sich für verschiedene Spezifikationsanforderungen in der Forschungs- und Pilotphase.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir konzentrieren uns auf die Verarbeitung und Qualitätskontrolle von Legierungs-Sputter-Targets, legen Wert auf eine gleichmäßige Zusammensetzung und Prozessstabilität und sind in der Lage, unseren Kunden zuverlässige und nachhaltige Lösungen für Dünnschicht-Abscheidungsmaterialien anzubieten.