Natriumhexafluoroaluminat (Kryolith)

Natriumhexafluoraluminat-Sputtertarget Übersicht

Natriumhexafluoraluminat
-Sputtertargets sind hochleistungsfähige anorganische Materialien, die bei der Dünnschichtabscheidung in der Elektronik-, Optik- und Beschichtungsindustrie eingesetzt werden. Ihre Zusammensetzung gewährleistet eine gleichmäßige Abscheidung, hervorragende Haftung und konsistente Filmqualität in PVD-Prozessen (Physical Vapor Deposition).

Wir bieten Na3AlF6-Sputtertargets in verschiedenen Größen an, die für industrielle PVD-Systeme geeignet sind. Für Anfragen oder Bestellungen wenden Sie
sich
bitte direkt an uns
.

Produkt-Highlights

Hohe Stabilität bei der Vakuumbeschichtung
Gleichmäßige Zusammensetzung für konsistente Dünnschichten
Hervorragende Haftung auf Substraten
Geeignet für Elektronik-, Optik- und Beschichtungsanwendungen
Geringe Verunreinigung und hohe Reinheit für zuverlässige Leistung
Strenge Qualitätskontrolle und Prüfung

Anwendung von Natriumaluminiumfluorid-Sputtertarget

Elektronikindustrie: Wird für die Beschichtung von dielektrischen Schichten, Isolierfilmen und Schutzschichten in elektronischen Geräten verwendet.
Optik
und Photonik: Erzeugt hochwertige optische Beschichtungen mit ausgezeichneter Transparenz und Gleichmäßigkeit.
Schutzbeschichtungen: Wird in dekorativen und funktionalen Beschichtungen für Korrosions- und Verschleißfestigkeit verwendet.
Forschung und Entwicklung: Geeignet für experimentelle Dünnschichtabscheidungen und materialwissenschaftliche Untersuchungen.

Häufig gestellte Fragen

F1: In welchen Branchen werden Na3AlF6-Sputtertargets häufig verwendet?
A1: Elektronik, Optik, Beschichtungen und Forschungslabore verwenden diese Targets häufig für die Dünnschichtabscheidung.

F2: Wie sollten Na₃AlF₆-Targets vor der Verwendung gelagert werden?
A2: Lagern Sie sie in einer trockenen, kühlen Umgebung, geschützt vor Feuchtigkeit und mechanischen Einwirkungen, um die Oberflächenintegrität zu erhalten.

F3: Können Na₃AlF₆-Sputter-Targets in Magnetron-Sputter-Systemen verwendet werden?
A3: Ja, sie sind vollständig kompatibel mit Magnetron- und anderen PVD-Sputter-Systemen für eine gleichmäßige Dünnschichtabscheidung.

F4: Was sind die Vorteile der Verwendung von Na₃AlF₆-Targets bei der Dünnschichtabscheidung?
A4: Sie bieten gleichmäßige Schichten, ausgezeichnete Haftung, geringe Verunreinigung und stabile Abscheidungsraten, wodurch die Gesamtleistung des Geräts verbessert wird.

Bericht

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir bieten hochwertige Na₃AlF₆-Sputter-Targets mit zuverlässiger Lieferung, strenger Qualitätskontrolle und maßgeschneiderten Lösungen für PVD-Anwendungen. Unsere Produkte gewährleisten eine gleichbleibende Dünnschichtleistung, hervorragende Haftung und minimale Verunreinigungen für Elektronik-, Optik- und Forschungsanwendungen.