Molybdänsilicid

Molybdänsilizid-Sputter-Targets – Übersicht

Molybdänsilizid
-Sputter-Targets sind hochtemperaturbeständige, korrosionsfeste Keramikwerkstoffe, die durch die Verbindung von Molybdän und Silizium entstehen. Sie zeichnen sich durch hervorragende Hochtemperaturstabilität, elektrische Leitfähigkeit und Oxidationsbeständigkeit aus. Aus diesen Targets hergestellte Dünnschichten werden häufig in mikroelektronischen Bauelementen, Hartbeschichtungen, Barriereschichten und optoelektronischen Funktionsschichten verwendet, was sie zu einem der wichtigsten Target-Materialien in der Halbleiter- und Hochleistungs-Dünnschichttechnik macht.

Wir können MoSi2-Sputter-Targets in verschiedenen Reinheitsgraden, Größen, Formen und Dichten entsprechend den Kundenanforderungen herstellen. Wir bieten auch Oberflächenpolieren, Vakuumverkleben, Anpassung des spezifischen Zusammensetzungsverhältnisses und kundenspezifische Chargen an, um den Prozessanforderungen unserer Kunden gerecht zu werden. Bitte zögern Sie nicht, uns
zu kontaktieren.

Produkt-Highlights

Starke Hochtemperatur-Oxidationsstabilität
Gleichmäßige Schichtabscheidung mit wenigen Partikeln
Unterstützt Präzisionsbearbeitung und kundenspezifische Größen
Geringer Verunreinigungsgehalt und stabile elektrische Eigenschaften
Gute Korrosionsbeständigkeit und elektrische Leitfähigkeit
Kompatibel mit verschiedenen Magnetron-Sputteranlagen

Anwendungen von Molybdänsilizid-Sputter-Targets

Verwendung für Barriereschichten und leitfähige Filmabscheidungen in der Halbleiterindustrie.
Zu den Anwendungen gehören die Herstellung von harten Schutzschichten und verschleißfesten Beschichtungen.
Es dient als funktionales Dünnschichtmaterial in optoelektronischen
Bauteilen.
Es wird in der Forschung im Zusammenhang mit hochtemperaturbeständigen elektronischen und strukturellen Dünnschichten verwendet.

Häufig gestellte Fragen

F1: Wie werden MoSi2-Targets für den Transport verpackt?
A1: Das Produkt wird vakuumversiegelt und mit einer druckfesten Polsterschicht und einer stabilen Außenverpackung verpackt, um sicherzustellen, dass es während des Transports nicht verunreinigt oder beschädigt wird.

F2: Bieten Sie die Bearbeitung von Targets an, z. B. Sondergrößen oder Oberflächenbehandlungen?
A2: Ja, wir bieten Präzisionsbearbeitung, Polieren, Verkleben von Backplanes und kundenspezifische Nicht-Standardformen, um verschiedenen Anwendungsanforderungen gerecht zu werden.

F3: Wie sollten Targets gelagert werden, um die Leistungsstabilität zu gewährleisten?
A3: Es wird empfohlen, sie in einer trockenen, versiegelten Umgebung zu lagern und den Kontakt mit Feuchtigkeit und korrosiven Substanzen zu vermeiden, um die Oberflächenreinheit und die Stabilität der physikalischen Eigenschaften des Targets zu erhalten.

F4: Wie garantieren Sie die Reinheit des Produkts? Können Sie entsprechende Tests durchführen?
A4: Alle Sputtertargets werden aus hochreinen Rohstoffen hergestellt und mit Methoden wie XRF, ICP und XRD getestet. Vollständige Materialanalyseberichte und Qualitätszertifikate sind verfügbar.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Prüfberichte von Dritten sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir verfügen über langjährige Erfahrung in der Herstellung von Sputtertargets aus Verbindungen und intermetallischen Verbindungen und sind mit modernsten pulvermetallurgischen Anlagen und einem strengen Qualitätsmanagementsystem ausgestattet. Wir können kontinuierlich hochreine, hochdichte und hochgradig einheitliche MoSi₂-Sputter-Targets liefern. Wir bieten unseren Kunden flexible Anpassungsmöglichkeiten, technischen Support, schnelle Lieferung und einen stabilen Lieferkettenservice, was uns zu einem vertrauenswürdigen langfristigen Partner für Forschungseinrichtungen, Halbleiterunternehmen und die Dünnschichtindustrie macht.