Magnesiumoxid-Zinkoxid

Magnesiumoxid-Zinkoxid-Sputtertarget Übersicht

Magnesiumoxid-Zinkoxid-
Sputtertargets sind Verbundtargets aus einer Kombination von hochreinem Zinkoxid und Magnesiumoxid, die sich durch hervorragende chemische Stabilität und überlegene elektronische Eigenschaften auszeichnen. Sie werden häufig bei der Abscheidung von transparenten leitfähigen Schichten, Dünnschichten für optoelektronische Bauelemente und der Herstellung von Oxid-Dünnschichten verwendet und eignen sich für Anwendungen wie Solarzellen, Sensoren und Displays.

Wir bieten eine Vielzahl von ZnO-MgO-Sputter-Targets in verschiedenen Größen und Spezifikationen an, um den unterschiedlichen Anforderungen bei der Dünnschichtabscheidung gerecht zu werden und maßgeschneiderte Dienstleistungen zu unterstützen. Ganz gleich, ob Sie Standard-Spezifikationen oder spezielle Anforderungen haben, wenden Sie sich
bitte an uns.

Produkt-Highlights

Hohe Reinheit
Ausgezeichnete chemische Stabilität
Hervorragende elektronische Leitfähigkeit
Hervorragende Dünnschichtabscheidungseigenschaften
Anpassbare Größen und Formen
Unterstützt die Target-Bonding
Optimierte Target-Ausnutzung
Hohe Konsistenz und Stabilität
Geeignet für DC/RF-Sputterprozesse

Anwendungen von Magnesiumoxid-Zinkoxid-

Sputtertransparenten leitfähigen Dünnschichten: ZnO-MgO-Targets werden häufig bei der Herstellung von transparenten leitfähigen Schichten verwendet, die für leitfähige Schichten in elektronischen Displays und Solarzellen geeignet sind.
Optoelektronische
Geräte: In optoelektronischen Geräten können ZnO-MgO-Dünnschichten als Funktionsschichten dienen und die Geräteleistung optimieren, insbesondere in Anwendungen mit Photoleitfähigkeit.
Sensoranwendungen: Dieses Targetmaterial kann in der Sensorherstellung verwendet werden, insbesondere in Gassensoren und Umweltüberwachungsgeräten, und bietet eine stabile Dünnschichtleistung.
Dünnschichtbeschichtungstechnologie: ZnO-MgO-Targets werden häufig in Präzisionsbeschichtungen eingesetzt, ermöglichen eine hochwertige Dünnschichtabscheidung und gewährleisten eine gleichmäßige Beschichtung und Langlebigkeit.

Häufig gestellte Fragen

F1: Wie hoch ist die Reinheit des ZnO-MgO-Targetmaterials?
A1: Die Reinheit des ZnO-MgO-Targetmaterials kann über 99,99 % erreichen, was hochwertige und stabile Dünnschichten gewährleistet.

F2: Für welche Sputterprozesse ist das ZnO-MgO-Sputter-Targetmaterial geeignet?
A2: Dieses Targetmaterial eignet sich für verschiedene Sputterprozesse, darunter DC-Sputtern und RF-Sputtern.

F3: Kann die Größe des ZnO-MgO-Targetmaterials angepasst werden?
A3: Ja, wir bieten maßgeschneiderte Größen an und liefern verschiedene Formen und Größen, um Ihren Anforderungen gerecht zu werden.

F4: Wie lauten die Lagerungsanforderungen für dieses Sputtertarget?
A4: ZnO-MgO-Targets sollten in einer trockenen, staubfreien Umgebung gelagert werden, wobei Feuchtigkeit und Verunreinigungen zu vermeiden sind, um eine langfristige Stabilität zu gewährleisten.

Berichte

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir bieten hochwertige ZnO-MgO-Sputter-Targets. Alle Produkte werden strengen Qualitätsprüfungen unterzogen, um eine gleichmäßige und stabile chemische Zusammensetzung zu gewährleisten. Wir verfügen über fortschrittliche Fertigungstechnologien, die es uns ermöglichen, flexible Anpassungsdienstleistungen nach Kundenwunsch anzubieten und technischen Support zu leisten, um eine optimale Leistung bei der Produktanwendung zu gewährleisten. Wenn Sie sich für uns entscheiden, erhalten Sie effiziente, zuverlässige und wettbewerbsfähige Sputter-Target-Lösungen.