Magnesium-Silicid

Übersicht über Magnesiumsilicid-Sputter-Targets

Magnesiumsilicid
-Sputter-Targets sind Verbundtargets aus Magnesium und Silizium, die sich für Dünnschicht-Abscheidungsprozesse eignen, bei denen präzise Zusammensetzungsverhältnisse und eine gleichmäßige Schichtdicke erforderlich sind. Sie werden vor allem bei der Herstellung von funktionalen Dünnschichten, der Oberflächenbearbeitung von Werkstoffen und der damit verbundenen Geräteforschung eingesetzt.

Wir können Magnesiumsilicid-Sputter-Targets in verschiedenen Größen, Dicken und Strukturen entsprechend den Anforderungen der Anlagen verarbeiten und bieten dabei individuelle Anpassungen
und eine stabile Lieferung. Bei Fragen wenden Sie
sich
bitte direkt an uns
.

Produkt-Highlights

Verbund-Sputtertarget
Stabiles Zusammensetzungsverhältnis
Dichte Struktur, gleichmäßiges Sputtern
Gute Wiederholbarkeit der Schicht
Kontrollierbarer Verunreinigungsgehalt
Unterstützt die Anpassung verschiedener Spezifikationen

Anwendungen von Magnesium-Silizid-Sputtertargets

Funktionale Dünnschichtabscheidung: Kann zur Herstellung von Silizium-Magnesium-Dünnschichten mit einheitlicher Zusammensetzung verwendet werden, die die Anforderungen an die Schichtstabilität erfüllen.
Entwicklung von Vakuumbeschichtungsverfahren: In Vakuumprozessen wie dem Magnetron-Sputtern eignet sich dieses Target für die Parametereinstellung und Prozessverifizierung.
Oberflächentechnik und Forschung an Strukturschichten: Durch das Sputtern von Magnesiumsilicid-Targets können die Oberflächenstruktur und die Eigenschaften von Materialien kontrolliert werden.
Forschung und Laboranwendungen: Weit verbreitet in der Dünnschichtmaterialforschung und der Erforschung neuer Systeme an Universitäten und Forschungseinrichtungen.

Häufig gestellte Fragen

F1: Für welchen Sputterprozess eignet sich das Magnesium-Silizid-Sputtertarget?
A1: Wird häufig in Vakuumbeschichtungsverfahren wie dem Magnetron-Sputtern verwendet. Die spezifische Anwendung hängt von der Gerätekonfiguration ab.

F2: Neigt das Magnesium-Silizid-Target während des Sputterns zur Zersetzung?
A2: Unter geeigneten Leistungs- und Vakuumbedingungen kann es einen stabilen Sputterzustand aufrechterhalten.

F3: Können Magnesium-Silizid-Sputter-Targets auf nicht standardmäßige Größen angepasst werden?
A3: Ja, wir unterstützen die kundenspezifische Bearbeitung entsprechend der Targetgröße und den Nutzungsanforderungen.

F4: Benötigt dieses Target eine Trägerplatte?
A4: Ob eine Trägerplatte erforderlich ist, hängt von der Größe und den Geräteanforderungen ab. Wir können entsprechende Vorschläge unterbreiten.

Bericht

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir verfügen über Erfahrung in der Formulierung, dem Sintern und der Verarbeitung von Verbund-Sputter-Targets, wodurch wir eine gleichbleibende Zusammensetzung und Betriebsstabilität gewährleisten und unseren Kunden helfen, die Inbetriebnahmezeit für das Sputtern zu verkürzen.