Magnesium Orthosilikat

Übersicht über Sputtertargets aus Magnesiumorthosilikat

Sputtertargets
aus Magnesiumorthosilikat
sind hochdichte, homogene Keramik-Targets mit ausgezeichneter thermischer Stabilität und Verschleißfestigkeit. Sie werden häufig bei der Herstellung von optischen Dünnschichten, Funktionsbeschichtungen und leistungsstarken elektronischen Geräten eingesetzt.

Wir bieten Mg2SiO4-Sputter-Targets in verschiedenen Größen, Formen und Dichten an, um den Anforderungen industrieller und wissenschaftlicher Anwendungen gerecht zu werden. Bitte fragen Sie
nach einem Angebot.

Produkt-Highlights

Hohe Dichte, ausgezeichnete Sputter-Gleichmäßigkeit
Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient, hohe Hitzebeständigkeit
Hohe chemische Stabilität, nicht leicht oxidierbar
Anpassbare Partikelgröße und Reinheit
Hervorragende Oberflächenglätte, geeignet für die Präzisionsbeschichtung mit dünnen Schichten
Unterstützt verschiedene Targetgrößen und -formen

Anwendungen von Magnesiumorthosilikat-Sputter-Targets

Beschichtung mit
optischen
Dünnschichten: Kann zur Herstellung hochwertiger optischer Dünnschichten verwendet werden, wobei eine gleichmäßige Schichtdicke gewährleistet ist, um die Anforderungen präziser optischer Geräte zu erfüllen.
Funktionale Beschichtungsmaterialien: Wird in verschleißfesten, korrosionsbeständigen und isolierenden Beschichtungen verwendet, um die Filmhaftung und Langzeitstabilität zu verbessern.
Herstellung elektronischer Geräte: Geeignet für die Abscheidung von mikroelektronischen Bauteilen und keramischen Substraten, gewährleistet Gleichmäßigkeit und Zuverlässigkeit der Schicht.
Wissenschaftliche Forschung und Anwendungen im Pilotmaßstab: Unterstützt die Überprüfung von Sputterprozessen im Labor- und Pilotmaßstab und erleichtert die Erforschung und Optimierung neuer Materialdünnschichten.

Häufig gestellte Fragen

F1: Magnesiumorthosilikat-Sputtertarget – Für welche Sputteranlagen ist es geeignet?
A1: Geeignet für DC-, RF- und Magnetron-Sputteranlagen, erfüllt unterschiedliche Prozessanforderungen.

F2: Beeinflusst die Targetdichte die Gleichmäßigkeit der Schicht?
A2: Eine höhere Dichte führt zu einem geringeren Partikelabrieb während des Sputterns und einer besseren Gleichmäßigkeit der Schicht.

F3: Bieten Sie auch kundenspezifische Größen und Formen an?
A3: Wir bieten verschiedene runde, quadratische und unregelmäßig geformte Targets an, die nach Kundenzeichnungen gefertigt werden können.

F4: Muss die Targetoberfläche speziell behandelt werden?
A4: Die Targets sind vorab oberflächengehobelt und können direkt in Sputterprozessen verwendet werden.

Bericht

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind auf die Forschung, Entwicklung und Produktion von hochleistungsfähigen Keramik-Sputter-Targets spezialisiert und bieten stabile Qualität und maßgeschneiderte Dienstleistungen. Wir können schnell auf Kundenanfragen reagieren und so dazu beitragen, dass wissenschaftliche Forschung und industrielle Produktion effizient umgesetzt werden können.