Sputtertargets aus
Magnesium-Nickel-Oxid
sind Magnesium-Nickel-Verbundoxid-Targets mit genau definierten Zusammensetzungsverhältnissen, die für Vakuumbeschichtungsprozesse geeignet sind, die eine hohe Konsistenz in der Schichtzusammensetzung erfordern. Sie werden hauptsächlich für die Herstellung von funktionellen Oxid-Dünnschichten, die Forschung an Gerätestrukturschichten und die Entwicklung entsprechender Materialien verwendet.
Wir können Mg0,2Ni0,8O-Sputter-Targets gemäß den vorgegebenen stöchiometrischen und Größenanforderungen verarbeiten und gewährleisten eine stabile Lieferung. Bitte kontaktieren Sie uns
direkt, um die technischen Parameter und Angebote zu bestätigen.
Genaue und kontrollierbare Zusammensetzungsverhältnisse
Verbundoxid-Target
Dichte Mikrostruktur, stabile Sinterung
Gute Wiederholbarkeit des Sputterprozesses
Hohe Filmkonsistenz
Kundenspezifische Größen und Formen werden unterstützt
Abscheidung von funktionellen Oxid-Dünnschichten: Wird häufig zur Herstellung von Oxid-Dünnschichten mit einheitlicher Zusammensetzung verwendet, die die Anforderungen an Stöchiometrie und Filmstabilität erfüllen.
Elektronik- und Gerätestrukturforschung: Bei der Entwicklung entsprechender Gerätestrukturschichten hilft dieses Verbundoxid-Target dabei, Dünnschichtmaterialien mit einstellbarer Leistung zu erzielen.
Validierung des Magnetron-Sputterprozesses: Dieses Target eignet sich zur Optimierung der Prozessparameter und zur Prüfung der Stabilität unter Magnetron-Sputterbedingungen.
Wissenschaftliche Forschung und Materialentwicklung: Weit verbreitet in der Forschung und Leistungsbewertung von Mehrkomponenten-Oxidmaterialien an Universitäten und Forschungseinrichtungen.
F1: Kann das Zusammensetzungsverhältnis des Magnesium-Nickeloxid-Sputter-Targets angepasst werden?
A1: Das Verhältnis von Magnesium und Nickel kann je nach spezifischen Forschungs- oder Prozessanforderungen angepasst werden.
F2: Ist dieses Target für reaktives Sputtern geeignet?
A2: Es wird in der Regel für direktes Oxid-Sputtern verwendet; die spezifische Prozessmethode muss auf der Grundlage der Gerätebedingungen bestätigt werden.
F3: Gibt es für das Magnesium-Nickeloxid-Target besondere Anforderungen an die Ausrüstung?
A3: Es ist mit gängigen Sputteranlagen kompatibel; eine Anpassung an die Zielgröße wird empfohlen.
F4: Ist dieses Sputtertarget für langfristiges kontinuierliches Sputtern geeignet?
A4: Unter angemessenen Leistungs- und Kühlbedingungen kann es eine relativ stabile Sputterleistung aufrechterhalten.
Jede Charge wird mit
folgenden Unterlagen
geliefert:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.
Wir verfügen über umfangreiche Erfahrung in der Dosiersteuerung und im Sinterprozess von Mehrkomponenten-Oxid-Sputter-Targets, wodurch eine stabile Targetzusammensetzung und eine zuverlässige Verarbeitung gewährleistet sind, was unseren Kunden wiederholte Debugging-Kosten erspart.
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte
