Lithium-Oxid

Lithiumoxid-Sputtertarget Übersicht

Lithiumoxid
-Sputtertargets werden in fortschrittlichen Dünnschicht-Abscheidungsverfahren zur Herstellung von lithiumhaltigen Beschichtungen in Festkörperbatterien, transparenten leitfähigen Schichten und Oxidhalbleitern verwendet. Mit ihrer ausgezeichneten Reaktivität und ihrem hohen Lithiumgehalt dienen Li₂O-Targets als Lithiumquelle in Magnetron-Sputter- und PLD-Systemen (Pulsed Laser Deposition).

Unsere Lithiumoxid-Sputter-Targets werden aus hochreinem Pulver mit einer typischen Reinheit von ≥99,9 % hergestellt und gesintert oder heißgepresst, um eine hohe Dichte und Gleichmäßigkeit zu erzielen. Wir bieten auch umfassende Vertriebsunterstützung – bei Fragen können Sie sich
gerne an uns wenden
.

Produkt-Highlights

Reinheit: ≥99,9 % (3N)
Hoher Lithiumgehalt für effizientes Dotieren oder Verbindungsbildung
Kundenspezifische Abmessungen und Bonding-Services verfügbar
Dichte und gleichmäßige Mikrostruktur für stabile Sputterraten

Lithiumoxid-Sputtertarget-Spezifikationsoptionen

Reinheitsgrade: 3N (99,9 %) Standard; 4N und höher auf Anfrage erhältlich
Targetformen: Rund, rechteckig oder kundenspezifische Geometrien
Abmessungen: Typische Durchmesser 1″–8″, Dicke 3–10 mm; anpassbar
Verbindung
: Optionale Verbindung mit Trägerplatten (Cu, Mo) mit Indium oder Epoxidharz

Anwendungen von Lithiumoxid-Sputter-Targets

Festkörper-Lithiumbatterien
: Dünnschichtabscheidung von lithiumreichen Festelektrolyten (z. B. LLZO, LISICON-Typ, LiPON)
Elektrochrome Bauelemente: Für Lithium-interkalierte Oxidschichten in Smart-Window-Anwendungen
Transparente leitfähige Oxide: Dotierungsmittel für Materialien wie ZnO und ITO zur Modifizierung der elektronischen Eigenschaften
Funktionale Dünnschichten: Einsatz bei der Bildung von lithiumhaltigen Oxidschichten für fortschrittliche elektronische Bauelemente

Häufig gestellte Fragen

F1: Für welche Arten von Dünnschichten werden Lithiumoxid-Sputter-Targets hauptsächlich verwendet?
A1: Diese Sputtertargets werden hauptsächlich zur Herstellung von funktionalen Lithiumoxid-Dünnschichten verwendet, die häufig in Forschungsbereichen wie lithiumbasierten Funktionsmaterialien, Festelektrolyten und verwandten Oxid-Dünnschichten zu finden sind.

F2: Welche Eigenschaften weisen Lithiumoxid-Materialien bei der Dünnschichtabscheidung auf?
A2: Dieses Material weist typische Oxideigenschaften auf, die dazu beitragen, dass bei der Sputterabscheidung funktionale Dünnschichten mit einheitlicher Zusammensetzung und stabiler Struktur entstehen.

F3: Welche Sputterprozesse eignen sich für dieses Lithiumoxid-Sputtertarget?
A3: Lithiumoxid-Sputtertargets eignen sich im Allgemeinen für PVD-Prozesse wie Hochfrequenz-Sputtern und erfüllen die Anforderungen der Dünnschichtvorbereitung in der Forschung und im Pilotmaßstab.

F4: Welche Vorsichtsmaßnahmen sollten bei der Verwendung und Lagerung von Lithiumoxid-Sputtertargets getroffen werden?
A4: Es wird empfohlen, das Target in einer trockenen, versiegelten Umgebung zu installieren und zu lagern, um den Kontakt mit Luft und Feuchtigkeit zu minimieren und so die Stabilität des Sputterprozesses und die Qualität des Dünnfilms zu gewährleisten.

Berichte

Alle Li₂O-Sputter-Targets werden mit einem Analysezertifikat (COA) und einem Sicherheitsdatenblatt (MSDS) geliefert. XRD-, SEM- und EDX-Berichte können auf Anfrage zur Verfügung gestellt werden.