Lithium-Nickel-Oxid

Übersicht über Lithium-Nickeloxid-Sputter-Targets

Lithium-Nickeloxid
-Sputter-Targets sind hochdichte, hochgradig gleichmäßige Funktionsmaterial-Targets, die bei der Herstellung von Dünnschichten und in wissenschaftlichen Forschungsexperimenten zum Einsatz kommen. Sie werden häufig in Kathodenschichten von Lithium-Ionen-Batterien, Festkörperbatterien sowie bei der Abscheidung von optoelektronischen und funktionalen Beschichtungen verwendet.

Wir bieten hochdichte, hochgradig einheitliche LNO-Sputter-Targets an, deren Größe, Dicke und Form an die Anforderungen des Kunden angepasst werden können. Kontaktieren Sie uns
für Muster oder maßgeschneiderte Lösungen!

Produkt-Highlights

Hohe Dichte gewährleistet eine gleichmäßige Filmabscheidung
Stabile Kristallstruktur gewährleistet zuverlässige Ergebnisse bei der Filmabscheidung
Anpassbare Größe, Dicke und Form
Unterstützt die Forschung und die industrielle Dünnschichtfertigung
Feine Oberflächenbearbeitung, geringe Fehlerquote
Schnelle Reaktion unseres technischen Teams

Anwendungen von Lithium-Nickeloxid-Sputter-Targets

Herstellung von Dünnschicht-Kathodenmaterial:
Wird für die Abscheidung von Kathodenfilmen für Hochleistungs-Lithium-Ionen-Batterien verwendet und verbessert die Zyklusstabilität und die elektrochemische Leistung.
Festkörperbatterieforschung:
Unterstützt die Abscheidung von Dünnschichten für Festkörperbatterien und gewährleistet die Gleichmäßigkeit der Grenzfläche und die Ionenleitfähigkeit.
Optoelektronik und funktionelle Beschichtungen:
Hochpräzise Dünnschichtfertigung für Sensoren, optische Geräte und mikroelektronische Strukturen, die dichte und gleichmäßige Schichten gewährleistet.

Häufig gestellte Fragen

F1: Welche Abscheidungsverfahren eignen sich für Lithium-Nickeloxid-Sputter-Targets?
A1: Geeignet für Magnetron-Sputtern, Elektronenstrahlverdampfung und andere konventionelle PVD-Verfahren.

F2: Können die Größe und Dicke des Targets angepasst werden?
A2: Ja, je nach den Anforderungen der Kundenausrüstung sind verschiedene Spezifikationen verfügbar.

F3: Wie ist die Gleichmäßigkeit der abgeschiedenen Schicht?
A3: Die Dichte des Targets und die optimierte Kristallstruktur gewährleisten eine hohe Gleichmäßigkeit der Schicht und Kristallqualität.

F4: Ist die Fehlerrate der Targetoberfläche hoch?
A4: Die Targetoberfläche wird präzisionspoliert, was zu einer geringen Fehlerrate führt und für die hochpräzise Dünnschichtfertigung geeignet ist.

Berichte

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Dritten sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Dank unserer langjährigen Erfahrung in der Herstellung von Sputtertargets für Funktionsmaterialien können wir maßgeschneiderte, hochwertige Lithium-Nickeloxid-Sputtertargets anbieten, um die Stabilität und Effizienz der Dünnschichtabscheidung in der wissenschaftlichen Forschung und in industriellen Anwendungen zu gewährleisten. Unser technisches Team bietet schnelle Reaktionszeiten und professionellen Support, um Kunden bei der Herstellung hochpräziser Dünnschichten zu unterstützen.