Lithium-Mangan-Phosphat

Übersicht über Lithium-Mangan-Phosphat-Sputter-Targets

Lithium-Mangan-Phosphat
-Sputter-Targets sind hochreine Targets aus Lithium-Ionen-Batterie-Kathodenmaterial, die für die Herstellung von Dünnschichten und wissenschaftliche Forschungsexperimente verwendet werden. Sie ermöglichen eine gleichmäßige Dünnschichtabscheidung und werden häufig in der Forschung zu Leistungsbatterien, Festkörperbatterien und Funktionsbeschichtungen eingesetzt.

Wir bieten Lithium-Mangan-Phosphat-Sputter-Targets mit hoher Dichte und hoher Gleichmäßigkeit an; Abmessungen und Dicken können an die Kundenanforderungen angepasst werden. Kontaktieren Sie uns
für Muster oder maßgeschneiderte Lösungen!

Produkt-Highlights

Hohe Reinheit, geringe Verunreinigungen
Hohe Dichte und mechanische Festigkeit
Stabile Kristallstruktur, ausgezeichnete Gleichmäßigkeit der Dünnschicht
Anpassbare Größe, Form und Dicke
Unterstützt wissenschaftliche Forschung und industrielle Anwendungen
Schnelle Reaktion des technischen Supports

Anwendungen von Lithium-Mangan-Phosphat-Sputter-Targets

Forschung im Bereich Leistungsbatterien:
Wird zur Herstellung von LMP-Dünnschicht-Kathodenmaterialien für die Entwicklung von Hochleistungsbatterien verwendet.
Festkörperbatterien:
Unterstützt die Dünnschichtabscheidung von Festkörperbatterien und gewährleistet die Gleichmäßigkeit der Grenzfläche und die Ionenleitfähigkeit.
Funktionale Beschichtungen:
Kann für die hochpräzise Dünnschichtvorbereitung in der Optoelektronik, Mikroelektronik und anderen Bereichen verwendet werden.

Häufig gestellte Fragen

F1: Welche Abscheidungsverfahren eignen sich für Lithium-Mangan-Phosphat-Sputter-Targets?
A1: Geeignet für herkömmliche PVD-Verfahren wie Magnetron-Sputtern und Elektronenstrahlverdampfung.

F2: Können die Targetgröße und -dicke angepasst werden?
A2: Ja, je nach den Anforderungen der Kundenausrüstung sind verschiedene Spezifikationen verfügbar.

F3: Wie ist die Gleichmäßigkeit der gesputterten Schicht?
A3: Die Targetsdichte und die optimierte Kristallstruktur ermöglichen eine hochgradig gleichmäßige Schichtabscheidung.

F4: Welche Anforderungen gelten für die Reinheit und die Kontrolle von Verunreinigungen des Targets?
A4: Reinheit bis zu 99,9 % bei strenger Kontrolle der Metallverunreinigungen und des Sauerstoffgehalts.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir verfügen über professionelle Anlagen zur Target-Herstellung und ein technisches Team und können maßgeschneiderte, hochwertige LMP-Sputter-Targets liefern, um stabile und effiziente Dünnschichtabscheidungsergebnisse in der wissenschaftlichen Forschung und in industriellen Anwendungen zu gewährleisten.