Lanthan-Mangan-Aluminiumoxid-Sputtertargets sind Hochleistungsmaterialien, die für fortschrittliche Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt wurden. Das Material verfügt über eine ausgezeichnete chemische Reinheit und eine dichte Mikrostruktur, die eine gleichmäßige Filmbildung, eine starke Haftung und einen extrem niedrigen Gehalt an Verunreinigungen gewährleistet und die strengen Anforderungen der High-End-Elektronik und Optik erfüllt.
Wir bieten Lanthan-Mangan-Aluminiumoxid-Sputtertargets in einer Vielzahl von Formen und Größen an, einschließlich runder und rechteckiger Targets, und unterstützen kundenspezifische Spezifikationen entsprechend den Anforderungen unserer Kunden. Ob für die wissenschaftliche Forschung oder die industrielle Produktion, wir bieten eine breite Palette an technischer Unterstützung und Kundendienst, um den reibungslosen Ablauf Ihres Projekts zu gewährleisten.
Produkt-Highlights:
Hohe Reinheit, die den strengen Standard von 99,9 % erfüllt
Hervorragende Dichte, die eine gleichmäßige Abscheidung von dünnen Schichten gewährleistet
Flexible Anpassung von Größe und Form zur Erfüllung verschiedener Prozessanforderungen
Angebot von Dienstleistungen zur Zielbindung
Weit verbreitet in Halbleiterbauelementen, magnetischen Speichern, optischen Komponenten und funktionellen Beschichtungen
Anwendungen
Halbleiter: zur Herstellung funktioneller Dünnfilmschichten in elektronischen Hochleistungsgeräten
Magnetische Speicherung: Herstellung von Magnetschichten für die Speicherung von Daten mit hoher Dichte
Optische Geräte: Herstellung hochwertiger Funktionsschichten auf Linsen und Reflektoren
Funktionelle Beschichtungen: Einsatz in Sensoren und anderen fortschrittlichen Materialien
Berichte
Jede Produktcharge wird mit einem Analysezertifikat (COA), einem Sicherheitsdatenblatt (MSDS) und entsprechenden Qualitätsberichten geliefert. Gleichzeitig unterstützen wir Prüfungen durch Dritte, um sicherzustellen, dass die Produktqualität den höchsten Industriestandards entspricht.
Molekulare Formel: LaMn₀.₂Al₀.₈O₃
Molekulargewicht: etwa 190,00 g/mol
Aussehen: grau-weißes, dichtes keramisches Target, glatte Oberfläche
Dichte: ≥ 5,0 g/cm³ (dichter Sinterkörper)
Schmelzpunkt: ca. 1.500 °C (keramischer Werkstoff)
Löslichkeit: unlöslich in Wasser und herkömmlichen organischen Lösungsmitteln
Leitfähigkeit: zeigt im festen Zustand Halbleitereigenschaften
Thermische Stabilität: stabil bei hohen Temperaturen, geeignet für Hochtemperaturprozesse
Wärmeausdehnungskoeffizient: ca. 8 × 10-⁶ K-¹ (geeignet für Dünnschichtabscheidungsverfahren)
Kristallstruktur: orthorhombisches System
Magnetische Eigenschaften: paramagnetisch, stabile magnetische Eigenschaften
Chemische Stabilität: chemisch inert, säure- und laugenkorrosionsbeständig, geeignet für eine Vielzahl von Umgebungen
Korrosionsbeständigkeit: Langzeitstabilität in oxidierenden und inerten Atmosphären
Mechanische Eigenschaften: dichte keramische Struktur, hohe mechanische Festigkeit, geeignet für Sputtering-Verfahren
Innere Verpackung: Vakuumversiegelter Beutel zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.
Äußere Verpackung: Karton oder Holzkiste, je nach Größe und Gewicht.
Zerbrechliche Ziele: Für einen sicheren Transport wird eine spezielle Schutzverpackung verwendet.
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