Kupfer(I)-Oxid

Übersicht über Kupfer(I)-oxid-Sputtertargets

Kupfer(I)-oxid
-Sputtertargets sind hochreine Funktionsmaterialtargets, die vor allem bei der Dünnschichtabscheidung und der Herstellung elektronischer Bauelemente eingesetzt werden, um die Stabilität der Schicht und eine zuverlässige Leistung zu gewährleisten.

Wir können hochreine Kupfer(I)-oxid-Sputtertargets in verschiedenen Spezifikationen und Größen liefern, um den Kundenanforderungen gerecht zu werden. Kontaktieren Sie uns
für maßgeschneiderte Lösungen.

Produkt-Highlights

Hochreines Kupfer(I)-oxid
Hervorragende Gleichmäßigkeit der Zusammensetzung
Stabile Schichtabscheidung
Geringer Gehalt an Verunreinigungen
Kompatibel mit verschiedenen Sputteranlagen
Stabile elektrische und optische Eigenschaften
Unterstützt runde, quadratische und unregelmäßige Formen

Anwendungen von Kupferoxid-Sputtertargets

Herstellung von Dünnschichten
für Halbleiter
und elektronische Bauelemente: Geeignet für die Herstellung und Abscheidung von P-Typ-Halbleitermaterialien, um die elektronische Leistung und langfristige Zuverlässigkeit der Bauelemente sicherzustellen.
Optoelektronik
und Anzeigegeräte: Wird in leitfähigen oder funktionalen Dünnschichten für optoelektronische Komponenten und Anzeigen verwendet und sorgt für gleichmäßige Schichten und stabile Leistung.
Funktionale Beschichtungen und industrielle Folien: Wird für die Abscheidung korrosionsbeständiger, leitfähiger oder spezieller funktionaler Beschichtungen verwendet und verbessert die Leistung und den Mehrwert industrieller Materialien.

Häufig gestellte Fragen

F1: Ist Kupfer(I)-oxid ein geeignetes Sputtertarget für DC- oder RF-Sputtern?
A1: Kupfer(I)-oxid ist ein Halbleitermaterial, und um eine stabile Abscheidung und Filmqualität zu gewährleisten, wird im Allgemeinen RF-Sputtern empfohlen.

F2: Muss die Targetoberfläche speziell behandelt werden?
A2: Die gelieferten Targets sind in der Regel werkseitig poliert und desoxidiert und können direkt verwendet werden. Je nach Prozess kann bei Bedarf eine weitere Vorbehandlung durchgeführt werden.

F3: Ist Kupfer(I)-oxid ein zerbrechliches Target?
A3: Im Vergleich zu Metall-Targets sind Kupfer(I)-oxid-Targets spröder. Bei der Handhabung und Installation sollte darauf geachtet werden, dass keine Stoßschäden entstehen.

F4: Kann die Targetform an die Größe der Anlage angepasst werden?
A4: Ja, wir bieten runde, quadratische und Sonderformen an, um unterschiedlichen Sputteranlagen und Prozessanforderungen gerecht zu werden.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Die qualitative Analyse liefert zuverlässige und rückverfolgbare Kupferoxid-Sputter-Targets für die wissenschaftliche Forschung, die industrielle und elektronische Geräte-Dünnschichtfertigung und gewährleistet eine hohe Qualität und langfristige Konsistenz der Schichtabscheidung.