Kupfer-Tellurid

Übersicht über Sputtertargets aus Kupfertellurid

Sputtertargets
aus Kupfertellurid
sind hochreine Funktionsmaterial-Targets, die sich für die Dünnschichtabscheidung und die Herstellung von optoelektronischen und Halbleiterbauelementen eignen und eine gleichmäßige Schichtdicke sowie Leistungsstabilität gewährleisten.

Wir können Kupfer-Tellurid-Sputter-Targets in verschiedenen Spezifikationen, hoher Reinheit und kundenspezifischen Formen entsprechend den Anforderungen der Kundenausrüstung und -prozesse liefern. Bitte kontaktieren Sie uns
für technischen Support
und Muster.

Produkt-Highlights

Hohe Reinheit
Hohe Gleichmäßigkeit der Zusammensetzung
Stabile Filmabscheidungsleistung
Geringer Gehalt an Verunreinigungen
Kompatibel mit verschiedenen Sputteranlagen
Zuverlässige Leitfähigkeit und optische Eigenschaften
Unterstützt kundenspezifische runde, quadratische und unregelmäßige Formen und Verbindungen

Anwendungen von Kupfertellurid-Sputter-Targets

Herstellung
optoelektronischer
Dünnschichten: Geeignet für die Abscheidung von Dünnschichten für Solarzellen und photoleitende Dünnschichten, sorgt für gleichmäßige Schichten und stabile optoelektronische Leistung. Herstellung von

Halbleiterbauelementen: Als p-Typ-Halbleiter-Target, das in der Forschung und Entwicklung neuer elektronischer Bauelemente und funktionaler Materialsysteme verwendet wird, sorgt es für eine stabile Bauelementleistung.
Funktionale Beschichtungen und industrielle Folien: Kann für die Abscheidung von leitfähigen, korrosionsbeständigen und speziellen funktionalen Beschichtungen verwendet werden und verbessert die Lebensdauer und Leistung von Industriematerialien.

Häufig gestellte Fragen

F1: Welches Sputterverfahren eignet sich für Kupfertellurid-Targets?
A1: Kupfertellurid ist ein Halbleitermaterial, und um eine gleichmäßige Schicht und eine stabile Abscheidung zu gewährleisten, wird im Allgemeinen RF-Sputtern empfohlen.

F2: Muss das Target vorbehandelt werden?
A2: Die Targets werden im Werk poliert und desoxidiert und können direkt verwendet werden. Je nach Prozess kann bei Bedarf eine zusätzliche Vorbehandlung durchgeführt werden.

F3: Sind Targets während des Sputterns zerbrechlich?
A3: Im Vergleich zu Metalltargets sind Kupfertellurid-Targets spröder. Vermeiden Sie Kollisionen während der Handhabung und Installation.

F4: Können die Größe und Form der Targets angepasst werden?
A4: Ja, wir bieten runde, quadratische und kundenspezifisch geformte Targets an, um unterschiedlichen Geräte- und Prozessanforderungen gerecht zu werden.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir konzentrieren uns auf die Herstellung und Lieferung von hochreinen Sputtertargets aus Funktionsmaterialien. Von der Auswahl der Rohstoffe bis zur Chargenkontrolle kontrollieren wir den Prozess streng, um sicherzustellen, dass Kupfertellurid-Targets eine stabile und zuverlässige Leistung in der wissenschaftlichen Forschung, der Industrie und der Herstellung von Dünnschichten für optoelektronische Geräte bieten und unseren Kunden rückverfolgbare, hochwertige Materialien liefern.