Sputtertargets
aus Kupfer-Indium
werden in erster Linie zur Herstellung funktionaler Dünnschichten mit einstellbarer Zusammensetzung verwendet und haben einen hohen Anwendungswert in der optoelektronischen und Dünnschichtmaterialforschung.
Wir können Targets mit verschiedenen Zusammensetzungsverhältnissen und Spezifikationen anbieten, um den Anforderungen an Geräte und Prozesse gerecht zu werden, und unterstützen die kundenspezifische Verarbeitung. Bitte kontaktieren Sie uns
für Lösungen.
Gleichmäßige Verteilung der Legierungszusammensetzung
Hohe Targetdichte
Stabile Sputterrate
Gute Wiederholbarkeit der Schicht
Geeignet für verschiedene Vakuum-Sputteranlagen
Optionale Bonding- und Backplane-Optionen
Erleichtert die präzise Steuerung der Dünnschichtzusammensetzung
Dünnschicht-Solarenergieforschung: Bei der Herstellung entsprechender Absorberschichten wird dieses Target häufig zur Abscheidung von Vorläufer-Metall-Dünnschichten verwendet, um eine stabile Grundlage für nachfolgende Reaktionsprozesse zu schaffen.
Optoelektronische
Funktionsdünnschichten: Durch Sputtern lassen sich gleichmäßige Legierungsdünnschichten erzielen, die sich für die Forschung zur Modulation der optoelektronischen Leistung und zur Strukturoptimierung eignen. Entwicklung von
Halbleitermaterialien: Dieses Material kann für die Prozessforschung neuartiger Halbleitersysteme verwendet werden und hilft dabei, den Einfluss unterschiedlicher Elementverhältnisse auf die elektrische Leistung zu überprüfen.
F1: Kann das Kupfer-Indium-Verhältnis je nach Anforderungen angepasst werden?
A1: Ja, die Zusammensetzung des Targets kann je nach spezifischer Anwendung angepasst werden.
F2: Ist dieses Target eher für DC- oder RF-Sputtern geeignet?
A2: Es ist im Allgemeinen mit mehreren Sputterverfahren kompatibel; die konkrete Wahl hängt von der Gerätekonfiguration und den Prozessparametern ab.
F3: Ist die Filmzusammensetzung während des Sputterns stabil?
A3: Unter angemessenen Prozessbedingungen weist die Zielzusammensetzung eine gute Konsistenz auf, was zur Erzielung stabiler Filme beiträgt.
F4: Welche Vorsichtsmaßnahmen sollten beim Transport und bei der Lagerung des Targets getroffen werden?
A4: Es wird empfohlen, eine Vakuum- oder Inertgasverpackung zu verwenden, um eine langfristige Exposition gegenüber feuchten Umgebungen zu vermeiden.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir sind auf die stabile Herstellung und Qualitätskontrolle von Legierungs-Sputter-Targets spezialisiert. Dank unserer langjährigen Erfahrung in der Zusammensetzungsgestaltung und -verarbeitung können wir unseren Kunden eine zuverlässige Materialkonsistenz, flexible Anpassungsmöglichkeiten und eine kontinuierliche und stabile Lieferunterstützung bieten und so zur effizienten Weiterentwicklung wissenschaftlicher Forschungs- und Industrieprojekte beitragen.
Chemische Formel: CuIn
Molekulargewicht: 178,37 g/mol
Erscheinungsbild: Silbergraues bis dunkelgraues, dichtes Sputtertarget
Kristallstruktur: Tetragonal
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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