Sputtertargets
aus Kobaltsilizid
sind hochreine Kobaltsilizid-Targets mit ausgezeichneter Leitfähigkeit und thermischer Stabilität, die häufig bei der Abscheidung von Halbleiter-Dünnschichten, mikroelektronischen Bauelementen und hochtemperaturbeständigen leitfähigen Schichten eingesetzt werden.
Wir bieten CoSi2-Sputtertargets in verschiedenen Größen, Kristallformen und Reinheitsgraden an und unterstützen Sie bei der Probenprüfung und technischen Beratung. Bitte kontaktieren Sie uns
für detaillierte Informationen und Prozesslösungen.
Dichte und gleichmäßige Kristallstruktur
Stabile Leitfähigkeit
Hervorragende thermische Stabilität
Korrosions- und Verschleißfestigkeit
Geeignet für verschiedene Sputterprozesse
Anpassbare Größe und Kristallform
Anpassbare Rückwand und Verbindung
Unterstützt wissenschaftliche Forschungsexperimente und Prozessverifizierung
Herstellung von Halbleiter-Dünnschichten:
Kobalt-Silizid-Targets eignen sich für die Abscheidung von Halbleiter-Dünnschichten, gewährleisten dichte und gleichmäßige Schichten und verbessern die Leitfähigkeit der Bauelemente.
Abscheidung
in mikroelektronischen Bauelementen:
Wird für die Abscheidung von Metallisierungsschichten in mikroelektronischen Bauelementen verwendet und verbessert die Leistungsstabilität und Zuverlässigkeit der Bauelemente.
Hochtemperatur-Leitschichten:
Leitfähige Dünnschichten können bei hohen Temperaturen abgeschieden werden und weisen eine gute thermische Stabilität und Leitfähigkeit auf.
Forschung und Materialentwicklung:
Weit verbreitet in Forschungseinrichtungen und F&E-Abteilungen von Unternehmen für Materialleistungstests und die Optimierung von Prozessparametern.
F1: Für welche Sputterverfahren ist das Kobalt-Silizid-Sputtertarget geeignet?
A1: Es kann in Dünnschichtprozessen wie Magnetron-Sputtern, RF-Sputtern und chemischer Gasphasenabscheidung verwendet werden, um die Anforderungen der mikroelektronischen Abscheidung zu erfüllen.
F2: Kann die Kristallform des Targets angepasst werden?
A2: Ja, wir können je nach Kundenwunsch verschiedene Kristallformen von Targets anbieten, um die Dünnschichtleistung zu optimieren.
F3: Neigt das Target während des Sputterns zu Rissen?
A3: Das Target wird in einem hochdichten metallurgischen Verfahren hergestellt, wodurch die Körner gleichmäßig sind, was das Risiko von Rissen und Hohlräumen effektiv verringert.
F4: Welche Vorsichtsmaßnahmen sollten bei der Lagerung des Targets getroffen werden?
A4: Es wird empfohlen, es in einer versiegelten, trockenen und belüfteten Umgebung zu lagern und Feuchtigkeit und Verunreinigungen zu vermeiden, um die Leistungsstabilität zu gewährleisten.
Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
Analysezertifikat (COA)
Technisches Datenblatt (TDS)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir sind auf die Forschung und Entwicklung sowie die stabile Lieferung von hochreinen Kobalt-Silizid-Sputter-Targets
spezialisiert. Mit einem ausgereiften Qualitätsmanagementsystem und flexiblen Anpassungsmöglichkeiten können wir unseren Kunden zuverlässige, rückverfolgbare Target-Lösungen anbieten, die für wissenschaftliche Forschung und industrielle Anwendungen geeignet sind und zum effizienten Fortschritt von Projekten beitragen.
Molekulare Formel: CoSi₂
Molekulargewicht: 115,11 g/mol
Erscheinungsbild: Silbergrau bis schwarzmetallisch
Dichte: 6,00 g/cm³
Schmelzpunkt: 1.400 ℃.
Kristallstruktur: Flächenzentriert kubisch
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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