Kobaltmonoxid (Kobaltoxyd)

Übersicht über Sputtertargets aus Kobaltmonoxid

Sputtertargets
aus Kobaltmonoxid
sind hochreine Kobalt-Oxid-Targets mit ausgezeichneter magnetischer und chemischer Stabilität, die häufig bei der Abscheidung von magnetischen Dünnschichten, Batterien und elektronischen Geräten verwendet werden.

Wir bieten CoO-Sputter-Targets
in verschiedenen Größen, Kristallformen und Reinheitsgraden an und unterstützen Sie bei der Probenprüfung und technischen Beratung. Bitte kontaktieren Sie uns
für detaillierte Informationen und Anwendungsvorschläge.

Produkt-Highlights

Dichte und gleichmäßige Kristallstruktur

Gute magnetische Stabilität

Ausgezeichnete thermische Stabilität

Verschleiß- und korrosionsbeständig

Geeignet für verschiedene Sputterprozesse

Flexible Anpassung von Größe und Kristallform

Strenge Kontrolle der Chargenkonsistenz

Flexibler Lieferzyklus

Kann in Verbindung mit wissenschaftlichen Forschungsexperimenten und Prozessentwicklungen verwendet werden

Anwendungen von Sputtertargets aus Kobaltmonoxid

Herstellung magnetischer Dünnschichten:
Geeignet für die Herstellung von hochleistungsfähigen magnetischen Dünnschichten für magnetische Speicher, Sensoren und mikroelektronische Geräte, die stabile magnetische Eigenschaften gewährleisten.

Abscheidung in elektronischen Geräten:
Wird für die Dünnschichtabscheidung in elektronischen Geräten verwendet, um die Funktionsstabilität und Zuverlässigkeit der Geräte zu verbessern.

Dünnschichten für Batteriematerialien:
Kann zur Herstellung von Dünnschichten für positive Elektroden für Lithium-Ionen-Batterien und andere Energiegeräte verwendet werden, um die Batteriekapazität und die Zyklusleistung zu verbessern.

Forschung und Prozessentwicklung:
Weit verbreitet in Forschungseinrichtungen und F&E-Abteilungen von Unternehmen zur Prüfung der Materialleistung und zur Optimierung der Prozessparameter.

Häufig gestellte Fragen

F1: Für welche Sputterprozesse sind Sputtertargets aus Kobaltoxid geeignet?
A1: Geeignet für Magnetron-Sputtern, RF-Sputtern und DC-Sputtern. Die Spezifikationen können je nach Leistung und Targetgröße ausgewählt werden.

F2: Kann die Kristallform des Targets angepasst werden?
A2: Ja, wir können Targets mit unterschiedlichen Kristallformen entsprechend den Kundenanforderungen liefern, um die Leistungsanforderungen der Anwendung zu erfüllen.

F3: Neigen Targets während des Sputterns zu Rissen oder Porosität?
A3: Die mit einem hochdichten metallurgischen Verfahren hergestellten Körner sind gleichmäßig, wodurch das Risiko von Rissen und Porosität wirksam verringert wird.

F4: Welche Vorsichtsmaßnahmen sollten bei der Lagerung von Targets getroffen werden?
A4: Es wird empfohlen, die Targets in einer trockenen, gut belüfteten Umgebung zu lagern und Feuchtigkeit, Verunreinigungen und längere Einwirkung von Luft zu vermeiden, um die Leistungsstabilität zu gewährleisten.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:

Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)

Größenprüfbericht

Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

. Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind auf die Forschung und Entwicklung sowie die stabile Lieferung von hochreinen Sputtertargets aus Kobaltoxid
spezialisiert.
Mit einem umfassenden Qualitätsmanagementsystem und flexiblen Anpassungsmöglichkeiten können wir unseren Kunden zuverlässige, rückverfolgbare Target-Lösungen anbieten, die für wissenschaftliche Forschung und industrielle Anwendungen geeignet sind und zum effizienten Fortschritt von Projekten beitragen.