Kobalt-Eisen-Oxid

Übersicht über Sputtertargets aus Kobalt-Eisenoxid

Sputtertargets
aus Kobalt-Eisenoxid
sind hochleistungsfähige Oxidtargets, die stabile Magnetismus, Verschleißfestigkeit und chemische Stabilität vereinen und daher häufig bei der Herstellung von magnetischen Dünnschichten und elektronischen Geräten zum Einsatz kommen.

Wir bieten Sputtertargets aus Kobalt-Eisenoxid in verschiedenen Größen, Kristallformen und Reinheitsgraden an und unterstützen Sie gerne bei der technischen Beratung und der Prüfung von Mustern. Für weitere Informationen wenden Sie
sich
bitte an uns
.

Produkt-Highlights

Hervorragende magnetische Eigenschaften

Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit

Gute thermische Stabilität

Geeignet für verschiedene Sputterprozesse

Flexible Anpassung von Größe und Kristallform

Kundendienst und technischer Support

Beratung bei der Materialauswahl

Anwendungen von Sputtertargets aus Kobalt-Eisenoxid

Herstellung magnetischer Dünnschichten:
Sputtertargets aus Kobalt-Eisenoxid eignen sich für die Herstellung hochleistungsfähiger magnetischer Dünnschichten für magnetische Speichergeräte, Sensoren und mikroelektronische Geräte und gewährleisten eine stabile Leistung.

Abscheidung
in elektronischen Geräten:
Kann für die Dünnschichtabscheidung in elektronischen Geräten verwendet werden, wodurch die Stabilität und Zuverlässigkeit der Gerätefunktionalität verbessert wird.

Katalytische Funktionsbeschichtungen:
Geeignet für die Herstellung von katalytischen Funktionsbeschichtungen, die eine gleichmäßige Verteilung der aktiven Komponenten gewährleisten und die katalytische Effizienz verbessern.

Forschung und Prozessentwicklung:
Weit verbreitet in Forschungseinrichtungen und F&E-Abteilungen von Unternehmen für Leistungstests und die Optimierung von Prozessparametern von magnetischen Dünnschichtmaterialien.

Häufig gestellte Fragen

F1: Für welche Art von Sputteranlagen ist das Sputtertarget aus Kobalt-Eisenoxid geeignet?
A1: Es kann in Magnetron-Sputter-, RF-Sputter- und DC-Sputteranlagen verwendet werden. Die Targetspezifikationen werden anhand der Leistung und Größe ausgewählt.

F2: Kann die Kristallform des Targets angepasst werden?
A2: Ja, wir bieten je nach Anwendungsanforderungen verschiedene Kristallformen von Targets an, um die Leistungsanforderungen zu erfüllen.

F3: Ist das Target anfällig für Risse oder Porosität?
A3: Das Target wird in einem hochdichten metallurgischen Verfahren hergestellt, dessen gleichmäßige Mikrostruktur das Risiko von Rissen und Porosität wirksam reduziert.

F4: Welche Vorsichtsmaßnahmen sind bei der Lagerung des Targets zu beachten?
A4: Es wird empfohlen, das Target in einer trockenen, gut belüfteten Umgebung zu lagern und Feuchtigkeit, Verunreinigungen und längere Einwirkung von Luft zu vermeiden, um die Leistungsstabilität zu gewährleisten.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:

Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)

Größenprüfbericht

Prüfberichte von Drittanbietern auf Anfrage erhältlich

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind auf die Forschung und Entwicklung sowie die stabile Lieferung von hochleistungsfähigen Sputtertargets aus Kobalt-Eisenoxid
spezialisiert.
Mit einem ausgereiften Qualitätsmanagementsystem und flexiblen Anpassungsmöglichkeiten können wir unseren Kunden zuverlässige, rückverfolgbare Target-Lösungen anbieten, die für wissenschaftliche Forschung und industrielle Anwendungen geeignet sind und zum effizienten Fortschritt von Projekten beitragen.