| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 4908300800ST001 | In2O3:ZnO (90/10 wt%) | 99.95% | 299.6 mm x 125 mm x 6mm | Inquire |
| 4908300800ST002 | In2O3:ZnO (60/40 wt%) | 99.95% | 800 mm x 125 mm x 6mm | Inquire |
| 4908300800ST003 | In2O3:ZnO (90/10 wt%) | 99.95% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST004 | In2O3:ZnO (60/40 wt%) | 99.95% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST005 | In2O3:ZnO (95/5 wt%) | 99.95% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST006 | In2O3:ZnO (90/10 wt%) | 99.95% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | Inquire |
| 4908300800ST007 | In2O3:ZnO (60/40 wt%) | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | Inquire |
| 4908300800ST008 | In2O3:ZnO (95/5 wt%) | 99.95% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | Inquire |
Indium-Zink-Oxid (IZO) ist ein hochreines, transparentes, leitfähiges Oxid (TCO), das in der Dünnschichtelektronik, bei optoelektronischen Geräten und in der Halbleitertechnik weit verbreitet ist. Mit ihrer ausgezeichneten elektrischen Leitfähigkeit, optischen Transparenz und gleichmäßigen Filmbildung sind IZO-Sputtertargets unverzichtbar für die Dünnfilmabscheidung in Displays, Touchpanels und Photovoltaikgeräten. Unsere Targets gewährleisten eine Reinheit von 99,95 % (3N5), eine dichte Struktur und eine stabile Leistung für industrielle und Forschungsanwendungen.
Wir liefern hochwertige Indium-Zink-Oxid-Sputtertargets für Forschungseinrichtungen und Hersteller. Anpassbar verhältnis.Kontaktieren Sie uns für den besten Preis und technische Unterstützung.
Hervorragende Reinheit: 99,95 % (3N5) Reinheit erfüllen die strengen Anforderungen für Dünnschicht- und TCO-Anwendungen.
Anpassbare Zusammensetzung: Das In:Zn-Verhältnis und die Abmessungen des Targets können je nach Abscheidungsanforderungen angepasst werden.
Hohe Leistung: Ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit, optische Transparenz und stabile Sputtereigenschaften.
Stabiles Material: Die dichte Struktur, die einheitliche Zusammensetzung und der geringe Gehalt an Verunreinigungen gewährleisten reproduzierbare Dünnschichtergebnisse.
Dünnschichtelektronik: Anwendung in transparenten Elektroden, Dünnschichttransistoren (TFTs) und Anzeigetafeln.
Optoelektronische Geräte: Verwendet in OLEDs, Fotodetektoren, Infrarotsensoren und Touchpanels.
Solarzellen Zellen: Geeignet für Puffer- und transparente Elektrodenschichten in CIGS- und anderen modernen Solarzellen.
Forschung und Entwicklung: Weit verbreitet in Labors für Materialwissenschaft und Geräteforschung.
Energiegeräte: Anwendung in transparenten leitfähigen Filmen für Anwendungen zur Energiespeicherung und -umwandlung.
Branchenkenntnis: Spezialisiert auf die Lieferung hochreiner Sputtertargets für TCO- und Dünnschichttechnologien.
Maßgeschneiderte Lösungen: Flexibel in Bezug auf Targetzusammensetzung, Abmessungen und Reinheitsspezifikationen.
Zuverlässige Qualität: Strenge Verunreinigungskontrolle, dichte Struktur und einheitliche Zusammensetzung gewährleisten eine stabile Leistung.
Globale Lieferung: Schneller, sicherer Versand weltweit mit Schutzverpackung.
Technische Unterstützung: Ein professionelles Team bietet umfassende technische Dokumentation und Beratung.
F1. Wie hoch ist der Reinheitsgrad Ihrer IZO-Sputtertargets?
A1. Unsere Targets haben eine Standardreinheit von 99,95 % (3N5) und gewährleisten zuverlässige Ergebnisse für fortschrittliche Dünnschicht- und optoelektronische Anwendungen.
F2. Kann die Zusammensetzung oder die Targetgröße von Indium-Zink-Oxid-Targets angepasst werden?
A2. Ja, wir bieten anpassbare In:Zn-Verhältnisse und Targetabmessungen entsprechend den Anforderungen Ihres Beschichtungssystems.
F3. Wie sollten Indium-Zink-Oxid-Sputtertargets gelagert werden?
A3. Lagern Sie die Targets in einer kühlen, trockenen Umgebung, fern von Feuchtigkeit und Verunreinigungen, in einer Schutzverpackung.
F4. Welche Branchen verwenden Indium-Zinkoxid-Sputtertargets?
A4. Weit verbreitet in der Dünnschichtelektronik, Optoelektronik, Solarzellen, Halbleitern und in Forschungslabors.
Jede Charge von Produkten wird geliefert mit:
Zertifikat der Analyse (COA)
Technisches Datenblatt (TDS)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Prüfberichte von Dritten sind auf Anfrage erhältlich, um Industrie- und Forschungsstandards zu erfüllen.
Chemische Formel: In₂O₃-ZnO
Erscheinungsbild: Off-white oder silbergraue dichte Scheibe
Schmelzpunkt: ~1900°C
Siedepunkt: ~2000°C
Kristallstruktur: Kubisch (In₂O₃ als Hauptphase)
Auswahl der Trägerplatte: Kupfer (Cu), Aluminium (Al) oder Edelstahl (SS), wählbar je nach Targetgröße und Abscheidungsanlage
Sputtering-Verfahren: RF/DC-Magnetronzerstäubung
Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.
Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.
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