Indium-Metall

Indium Metall Sputtering Target Übersicht

Indium (In)-Metall-Sputtertargets sind hochreine metallische Werkstoffe, die in der Dünnschichtabscheidung, der Optoelektronik und modernen Halbleiteranwendungen weit verbreitet sind. Mit ihrer ausgezeichneten Duktilität, ihrem niedrigen Schmelzpunkt und ihrer hervorragenden Leitfähigkeit sind Indium-Targets die bevorzugte Wahl für PVD-Prozesse, insbesondere für transparente, leitfähige Beschichtungen, Niedertemperatur-Lötfilme und die Herstellung mikroelektronischer Geräte.

Unsere Indium-Metallsputtertargets zeichnen sich durch eine Reinheit von 99,99 % (4N) bis 99,999 % (5N), eine hohe Dichte und eine gleichmäßige Mikrostruktur aus und gewährleisten eine gleichbleibende Leistung sowohl in der industriellen Produktion als auch in der wissenschaftlichen Forschung.

Produkt-Highlights von Indium Sputtering Target

Hohe Reinheit: 99,99% (4N)-99,999% (5N) für stabile Dünnschichtqualität und minimale Verunreinigungen.
Ausgezeichnete Verarbeitbarkeit: Weiches, dehnbares Metall mit zuverlässigen Filmbildungseigenschaften.
Gleichmäßige Dichte: Optimiert für konstante Sputtering-Raten und gleichmäßige Schichtdicke.
Breite Größenoptionen: Erhältlich in planarer, rotierender und kundenspezifischer Form.
Stabile Versorgung: Geeignet für Großserienproduktion und Laborforschung.

Anwendungen von In Sputtering Target

Transparente, leitfähige Beschichtungen: Unverzichtbar für Anzeigetafeln, OLED, LCD und Solarzellen.
Halbleiter Herstellung: Wird für Niedertemperatur-Lötungen und Verbindungsmaterialien verwendet.
Optoelektronik: Anwendung in Dünnschichttransistoren, Fotodetektoren und Infrarotgeräten.
Energie-Materialien: Geeignet für die Forschung und Entwicklung von Elektroden und Dünnschichtbatterien.
Wissenschaftliche Forschung: Weit verbreitet in Universitäten und Laboratorien für die Materialwissenschaft.

Warum eine Partnerschaft mit uns?

Materialkompetenz: Jahrelange Erfahrung mit metallischen Sputtertargets.
Kundenspezifische Lösungen: Flexible Größen, Formen und Reinheiten zur Erfüllung der Projektanforderungen.
Qualitätskontrolle: ICP-MS-Verunreinigungsanalyse für jede Produktionscharge.
Zuverlässige Logistik: Sichere Verpackung und pünktliche Lieferung weltweit.
Technische Unterstützung: Ein professionelles Team unterstützt Sie bei der Entwicklung Ihrer Dünnschicht.

Häufig gestellte Fragen

F1. Welche Vorteile haben Indium-Sputter-Targets im Vergleich zu Indium-Pellets oder -Draht?
A1. Targets gewährleisten eine höhere Dichte, gleichmäßige Sputtering-Raten und eine bessere Qualität der Dünnschicht.

F2. Welche Reinheitsgrade sind verfügbar?
A2. Wir bieten die Reinheitsgrade 4N (99,99%) und 5N (99,999%) an, wobei auf Anfrage auch kundenspezifische Reinheitsgrade erhältlich sind.

F3. Können Indium-Targets geklebt werden?
A3. Ja, Indium-Targets können zur Erhöhung der Stabilität auf Trägerplatten (Kupfer, Molybdän, Titan) geklebt werden.

F4. Wie werden Indium-Metall-Sputtertargets verpackt?
A4. Die Targets sind vakuumversiegelt und mit einer Schutzpolsterung versehen und werden in stabilen, exporttauglichen Kartons verschickt.

F5. In welchen Branchen werden hauptsächlich Indium-Metall-Sputtertargets verwendet?
A5. Sie finden breite Anwendung in der Anzeigetechnik, der Optoelektronik, der Halbleiterindustrie und im Bereich der erneuerbaren Energien.

Berichte

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Technisches Datenblatt (TDS)
Material-Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Prüfberichte von Dritten auf Anfrage erhältlich