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Indium-Gallium-Zink-Oxid (IGZO)

Chemical Name:
Indium-Gallium-Zink-Oxid (IGZO)
Formula:
In2O3-Ga2O3-ZnO
Product No.:
49083108300800
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Granulat
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
49083108300800GN001 In2O3-Ga2O3-ZnO 99.99% 3 mm - 6 mm Inquire
Product ID
49083108300800GN001
Formula
In2O3-Ga2O3-ZnO
Purity
99.99%
Dimension
3 mm - 6 mm

Indium-Gallium-Zink-Oxid-Granulat Übersicht

Indium-Gallium-Zink-Oxid (In2O3-Ga2O3-ZnO)-Granulate sind hochreine Oxid-Halbleitermaterialien, die in der transparenten Elektronik, bei Dünnschichttransistoren (TFTs) und Flachbildschirmen weit verbreitet sind. Mit seiner hervorragenden Elektronenbeweglichkeit, optischen Transparenz und stabilen Zusammensetzung ist IGZO-Granulat ein ideales Rohmaterial für Sputtertargets, Dünnfilmbeschichtungen und Forschungsanwendungen. Unser IGZO-Granulat wird mit einer Reinheit von 99,99 % (4N), einer dichten Morphologie und einer gleichmäßigen Partikelverteilung hergestellt, was eine gleichbleibende Leistung sowohl in der Industrie als auch im Labor gewährleistet.

Wir bieten qualitativ hochwertiges Indium-Gallium-Zink-Oxid (IGZO)-Granulat mit kundenspezifischen Größenbereichen, die verschiedene Dünnschichtabscheidungstechnologien unterstützen.

Produkt-Highlights von IGZO-Granulat

Hohe Reinheit: 99,99% (4N) Reinheit für hervorragende Leistung in Halbleiter- und Displayanwendungen.
Stabile Zusammensetzung: Einheitliches In:Ga:Zn:O-Verhältnis gewährleistet Reproduzierbarkeit der Dünnschichteigenschaften.
Ausgezeichnete elektrische Leistung: Hohe Elektronenbeweglichkeit, geeignet für moderne TFT-Anwendungen.
Flexible Partikelgröße: Erhältlich in verschiedenen Granulatgrößen für Sputtertargets und Forschung.
Breite Anwendungen: Von Flachbildschirmen bis zur transparenten Optoelektronik.

Anwendungen von In2O3-Ga2O3-ZnO-Granulaten

Sputtertarget-Herstellung: Rohmaterial für IGZO-Sputtertargets.
Dünnschichttransistoren (TFTs): Zur Verwendung in Aktiv-Matrix-Backplanes von OLED- und LCD-Displays.
Transparente Elektronik: Ideal für flexible und transparente leitende Schichten.
Optoelektronische Geräte: Zur Verwendung in Fotodetektoren, Sensoren und Display-Backplanes.
Wissenschaftliche Forschung: Wird in Labors für Halbleiter- und Oxid-Dünnschichtstudien verwendet.

Warum sollten Sie uns wählen?

Fachliche Kompetenz: Spezialisiert auf oxidische Halbleitermaterialien.
Maßgeschneiderte Lösungen: Flexible Steuerung der Granulatgröße und -zusammensetzung.
Zuverlässige Qualität: Niedrige Verunreinigungsgrade mit strenger ICP-MS-Kontrolle.
Weltweiter Versand: Schnelle Lieferung mit sicherer Verpackung.
Technische Unterstützung: COA, TDS, MSDS und Verunreinigungsberichte verfügbar.

FAQs

F1. Welchen Reinheitsgrad hat das In2O3-Ga2O3-ZnO-Granulat?
A1. Der Standardreinheitsgrad beträgt 99,99 % (4N) und eignet sich für fortschrittliche TFT- und Anzeigetechnologien.

F2. Kann die Granulatgröße angepasst werden?
A2. Ja, wir bieten kundenspezifische Größen an, mit Standardgrößen zwischen 1-6 mm.

F3. Wofür wird das IGZO-Granulat hauptsächlich verwendet?
A3. Sie werden hauptsächlich für die Herstellung von Sputtertargets, Dünnschichttransistoren und transparenten elektronischen Geräten verwendet.

F4. Wie werden die Indium-Gallium-Zink-Oxid-Granulate verpackt?
A4. In vakuumversiegelten, antistatischen Behältern verpackt, um Verunreinigungen zu vermeiden.

F5. Liefern Sie mit jeder Bestellung technische Unterlagen?
A5. Ja, wir liefern COA-, TDS-, MSDS- und ICP-MS-Verunreinigungsanalyseberichte.

Berichte

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Technisches Datenblatt (TDS)
Materialsicherheitsdatenblatt (MSDS)
Prüfberichte von Dritten sind auf Anfrage erhältlich.

Molekulare Formel: In₂O₃-Ga₂O₃-ZnO
Äußeres Erscheinungsbild: Grauweißes bis silbriges Granulat
Kristallstruktur: Amorph/mikrokristallin

Innere Verpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kisten zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.

Äußere Verpackung: Kartons oder Holzkisten, die je nach Größe und Gewicht ausgewählt werden.

Dokumente

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