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Eisen-Zirkonium-Legierung

Chemical Name:
Eisen-Zirkonium-Legierung
Formula:
FeZr
Product No.:
264000
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
264000ST001 FeZr 99.9% Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
264000ST001
Formula
FeZr
Purity
99.9%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm

Übersicht über Sputtertargets aus Eisen-Zirkonium-Legierung

Sputtertargets
aus Eisen-Zirkonium-Legierung
sind wichtige Legierungstargets, die in physikalischen Gasphasenabscheidungsprozessen (PVD) verwendet werden. Sie werden in erster Linie zum Aufbringen von hochleistungsfähigen Dünnschichten aus Eisen-Zirkonium-Legierungen auf verschiedene Substrate mittels Magnetron-Sputtern verwendet. Diese Schichten zeichnen sich durch hervorragende Haftfestigkeit, überlegene Verschleißfestigkeit und gute Hochtemperaturstabilität aus und finden wichtige Anwendungen in Werkzeugbeschichtungen, Halbleitern
und Präzisionsoptiken
.

Wir bieten hochreine Sputtertargets aus Eisen-Zirkonium-Legierungen mit hoher Dichte an. Wir können Produkte in verschiedenen Größen und Formen an Ihre Geräte- und Prozessanforderungen anpassen und so eine gleichmäßige und konsistente Schichtabscheidung gewährleisten. Bitte kontaktieren Sie uns
für detaillierte Produktspezifikationen.

Produkt-Highlights

Hochreine Legierungszusammensetzung mit extrem geringem Verunreinigungsgehalt
Dichte und gleichmäßige Mikrostruktur
Ausgezeichnete Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit
Hervorragende Filmhaftung
Anpassbare
Größe und Form
Stabile Sputterleistung und Filmqualität

Anwendungen von Sputtertargets aus Eisen-Zirkonium-Legierungen

Verschleiß- und korrosionsbeständige Schutzbeschichtungen: Eisen-Zirkonium-Legierungsfilme, die als Oberflächenbeschichtungen für Werkzeuge, Formen und kritische Komponenten verwendet werden, verbessern die Härte erheblich und erhöhen die Beständigkeit gegen abrasive und korrosive Umgebungen, wodurch die Lebensdauer erheblich verlängert wird.

Mikroelektronik und Halbleiter
: In der Halbleiterfertigung kann diese Schicht als spezielle Metallisierungsschicht oder Barriereschicht dienen, die auf Transistorelektroden oder integrierte Schaltkreise aufgebracht wird und eine stabile elektrische Leistung und zuverlässige Diffusionsblockierung gewährleistet.

Fortschrittliche optische
Geräte: Eisen-Zirkonium-Legierungsschichten, die auf die Oberflächen von optischen Linsen, Spiegeln und anderen Komponenten aufgebracht werden, verbessern effektiv die Durchlässigkeit, Reflektivität und Umweltbeständigkeit optischer Systeme und gewährleisten eine langfristige Stabilität der optischen Leistung.

Luft- und Raumfahrtkomponenten: Aufgrund ihrer ausgezeichneten Hochtemperaturstabilität und Festigkeit eignen sich Filme aus Ferrozirkoniumlegierungen für die Oberflächenverfestigung von Hochtemperaturkomponenten in Flugzeugtriebwerken oder Flugzeugstrukturmaterialien und erfüllen die Leistungsanforderungen in extremen Umgebungen.

Häufig gestellte Fragen

F1: Wie hoch ist die Reinheit des Sputtertargets aus Eisen-Zirkonium-Legierung? Was sind die wichtigsten Spezifikationen?
A1: Wir bieten hochreine Produkte an. Die spezifischen Reinheitsgrade und Schlüsselelementverhältnisse können je nach Anwendungsanforderungen angepasst werden. Die Produktspezifikationen umfassen Standard- und Nicht-Standardgrößen, und die Formen umfassen planare und rotierende Targets.

F2: Kann ich ein Target in einer speziellen Größe für meine Beschichtungsanlage anpassen lassen? Wie läuft der Prozess ab?
A2: Eine Anpassung ist möglich. Sie müssen lediglich das Gerätemodell, die Target-Filmleistung oder spezifische Zeichnungsanforderungen angeben. Unser technisches Team wird diese bewerten und Ihnen eine passende Lösung, ein Angebot und einen Produktionszyklus unterbreiten.

F3: Wie stellen Sie die Gleichmäßigkeit der Zusammensetzung und die Chargenstabilität des Legierungs-Sputter-Targets sicher?
A3: Wir gewährleisten die Konsistenz der chemischen Zusammensetzung und der Mikrostruktur jeder Charge von Targets durch strenge Rohstoffprüfung, fortschrittliche Schmelz- und Formungsprozesse (wie Pulvermetallurgie oder heißisostatisches Pressen) und präzise Tests während des gesamten Prozesses.

F4: Wie kann der Sputterprozess bei der Verwendung von Legierungssputtertargets optimiert werden, um einen idealen Dünnfilm zu erhalten?
A4: Wir empfehlen, unsere Prozessrichtlinien zu beachten und sich auf wichtige Parameter wie Sputterleistung, Gasdruck und Substratvorspannung zu konzentrieren. Eine angemessene Erhöhung der Sputterleistung trägt in der Regel dazu bei, dichtere Filme mit höherer Leistung zu erhalten.

Berichte

Jede Charge wird mit folgenden Dokumenten geliefert:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Dritten sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind nicht nur ein Hersteller von Sputtertargets, sondern auch Ihr technischer Partner für Materiallösungen. Wir kennen die Anwendungsanforderungen von Legierungsdünnschichten genau und gewährleisten durch eine lückenlose Kontrolle von der Zusammensetzung bis zur Präzisionsfertigung eine zuverlässige Leistung und transparente Daten für jedes gelieferte Sputtertarget. Wir unterstützen Ihre Innovation und Produktion mit professionellen Produkten und Dienstleistungen.

Molekulare Formel: FeZr
Erscheinungsbild: Silber-grau
Kristallstruktur: Körperzentriert kubisch (BCC)

Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.

Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.

Dokumente

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