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Chromsilicid

Chemical Name:
Chromsilicid
Formula:
CrSi2
Product No.:
241400
CAS No.:
12018-09-6
EINECS No.:
234-633-0
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
241400ST001 CrSi2 99.9% Ø 50.8 mm x 6.35 mm Inquire
241400ST002 CrSi2 99.95% Ø 76.2 mm x 6.35 mm Inquire
241400ST003 CrSi2 99.95% Ø 101.6 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
241400ST001
Formula
CrSi2
Purity
99.9%
Dimension
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Product ID
241400ST002
Formula
CrSi2
Purity
99.95%
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Product ID
241400ST003
Formula
CrSi2
Purity
99.95%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm

Übersicht über Chromsilizid-Sputter-Targets

Chromsilizid
-Sputter-Targets bestehen aus einer Legierung aus Chrom und Silizium, besitzen eine ausgezeichnete Hochtemperaturbeständigkeit und Oxidationsbeständigkeit und werden häufig bei der Dünnschichtabscheidung und für Hochleistungsbeschichtungen verwendet. Aufgrund ihrer stabilen physikalischen Eigenschaften sind sie ideale Materialien für die Elektronik-, Optik-
und Halbleiterindustrie.

Wir bieten hochwertige CrSi2-Sputter-Targets, die für verschiedene Hochtemperatur- und Hochleistungsanwendungen geeignet sind. Bei Fragen zur individuellen Anpassung
oder für eine technische Beratung stehen wir
Ihnen gerne zur Verfügung
.

Produkt-Highlights

Hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit
Ausgezeichnete Oxidationsbeständigkeit
Hohe Sputter-Effizienz
Gleichtmäßige und stabile Dünnschichtabscheidung
Gute mechanische Festigkeit
Erfüllt kundenspezifische Anforderungen an Größe und Spezifikationen

Anwendungen von Chromsilizid-Sputter-Targets

Dünnschichtabscheidung:
Wird häufig bei der Dünnschichtabscheidung in Halbleitern
, optoelektronischen Geräten usw. verwendet und kann effizient gleichmäßige Dünnschichten erzeugen, wodurch die Stabilität und Funktionalität der Geräte verbessert wird.

Hochtemperaturbeschichtungen:
Dieses Target verfügt über eine ausgezeichnete Hochtemperaturstabilität und Korrosionsbeständigkeit und wird häufig in Beschichtungstechnologien für Hochtemperaturumgebungen wie der Luft- und Raumfahrt, der Automobilindustrie und bei Hochtemperaturbeschichtungen eingesetzt.

Optische Beschichtungen:
Wird zur Herstellung von hochleistungsfähigen optischen Beschichtungen verwendet, um die Reflektivität, Abriebfestigkeit und Oxidationsbeständigkeit von optischen Komponenten zu verbessern. Wird häufig in Linsen, Lasergeräten und Solarzellen verwendet.

Elektronische Geräte
: Als leitfähiges und wärmeleitendes Material wird es häufig bei der Herstellung von elektronischen Geräten verwendet, insbesondere von Hochleistungs-Elektronikkomponenten, Sensoren und integrierten Schaltkreisen.

Häufig gestellte Fragen

F1: Welche Anforderungen gelten für die Verpackung und Lagerung von Chromsilizid-Sputtertargets?
A1: Es wird eine feuchtigkeitsbeständige Verpackung verwendet, um sicherzustellen, dass das Produkt während des Transports nicht durch Feuchtigkeit oder andere äußere Faktoren beeinträchtigt wird. Es sollte an einem trockenen, kühlen Ort gelagert werden, wobei hohe Temperaturen und Feuchtigkeit zu vermeiden sind.

F2: Wie stellen Sie die Stabilität und Leistung von CrSi2-Sputtertargets sicher?
A2: Wir setzen fortschrittliche Produktionsprozesse und strenge Qualitätskontrollverfahren ein. Von der Materialauswahl bis zu jedem Schritt des Produktionsprozesses werden strenge Kontrollen durchgeführt, um eine stabile Produktleistung und die Einhaltung der Industriestandards zu gewährleisten.

F3: Wie wird das CrSi2-Target-Sputtern durchgeführt?
A3: Es wird die Magnetron-Sputter-Technologie verwendet. Mit diesem Verfahren lassen sich gleichmäßige und hochwertige Dünnschichten aufbringen, die für die Anforderungen von Branchen wie Halbleiter und optische Beschichtungen geeignet sind.

F4: Was sind die Anwendungsbereiche von Chromsilizid-Sputter-Targets?
A4: Sie werden bei der Dünnschichtabscheidung, in elektronischen Geräten, bei Hochtemperaturbeschichtungen und optischen Beschichtungen eingesetzt und eignen sich besonders für den Einsatz in Umgebungen, die hohe Temperaturen und hohe Intensität erfordern.

Berichte

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind ein professioneller Hersteller von Sputtertargets und haben uns dazu verpflichtet, unseren Kunden hochwertige CrSi₂-Sputtertargets zu liefern. Durch präzise Fertigungsprozesse, strenge Qualitätskontrollen und maßgeschneiderte Dienstleistungen gewährleisten wir die zuverlässigsten Produkte und technischen Support
für Ihre Projekte.

Molekulare Formel: CrSi₂
Molekulargewicht: 152.00 g/mol
Erscheinungsbild: Graues Zielmaterial
Dichte: 5,5 g/cm³
Schmelzpunkt: >1600 °C
Kristallstruktur: Tetragonal

Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.

Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.

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