ULPMAT

Aluminiumfluorid / Magnesiumfluorid

Chemical Name:
Aluminiumfluorid / Magnesiumfluorid
Formula:
AlF3/MgF2
Product No.:
1309120900
CAS No.:
EINECS No.:
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
1309120900ST002 AlF3/MgF2 99.9% Ø 101.6mm x 6.35mm Inquire
1309120900ST001 AlF3/MgF2 99.9% Ø 101.6mm x 3.175mm Inquire
Product ID
1309120900ST002
Formula
AlF3/MgF2
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6mm x 6.35mm
Product ID
1309120900ST001
Formula
AlF3/MgF2
Purity
99.9%
Dimension
Ø 101.6mm x 3.175mm

Aluminium-Magnesium-Fluorid-Sputtering-Target Übersicht

Das Aluminium-Magnesium-Fluorid-Sputtertarget ist ein hochleistungsfähiges Verbundtarget auf Fluoridbasis, das für optische Beschichtungen, Antireflexionsschichten und Schutzfilme in der Vakuumbeschichtungsindustrie entwickelt wurde. Durch die Kombination der hervorragenden UV-Transparenz und chemischen Beständigkeit von MgF₂ mit der überlegenen Schichtgleichmäßigkeit und Ätzbeständigkeit von AlF₃ ermöglicht dieses Verbundtarget eine präzise Kontrolle des Brechungsindex, der Schichtmorphologie und der Haftung in mehrschichtigen Dünnschichtstapeln.

Unser Aluminiumfluorid / Magnesiumfluorid-Targets werden durch Heißpressen, Vakuumsintern oder kaltisostatisches Pressen (CIP) hergestellt, um eine hohe Dichte, Homogenität und starke mechanische Stabilität zu gewährleisten. Wir bieten auch einen umfassenden Kundendienst an – zögern Sie nicht, uns zu kontaktieren Sie uns wenn Sie irgendwelche Fragen haben.

Produkt-Highlights

  • Hohe Reinheit: ≥99,9%, gewährleistet hervorragende Filmqualität und optische Leistung.
  • Hervorragende Filmeigenschaften: Erzeugt gleichmäßige, hochtransparente Beschichtungen mit starker Adhäsion.
  • Anpassbare Spezifikationen: Erhältlich in verschiedenen Größen, Formen und Zusammensetzungen, um spezifische Ausrüstungsanforderungen zu erfüllen.
  • Geringer Gehalt an Verunreinigungen: Ideal für optische Beschichtungen, Display-Technologien, Lasersysteme und moderne Elektronik.

Anwendungen von Aluminium-Magnesium-Fluorid Sputtering-Targets

Optische Beschichtungen: Antireflexions-, dielektrische Spiegel- und Strahlteilerschichten in der UV-IR-Optik
Photonische Geräte: Herstellung von verlustarmen Wellenleitern und Filtern
Display-Technologien: Beschichtungen für LCD/LED/OLED-Displays
Schutzschichten: Transparente Hartschichten für Sensoren und optische Fenster
UV- und Vakuum-UV-Optik (VUV): Fluoridschichten, geeignet für Tief-UV-Systeme

Berichte

Jedes Target wird mit einem Analysezertifikat (COA) geliefert, das Reinheit, Zusammensetzungsverhältnis, Dichte und Abmessungen bestätigt. Zusätzliche Prüfungen, einschließlich XRD-Phasenanalyse, SEM-Bildgebung und Sputtering-Uniformitätstests, sind auf Anfrage erhältlich.

Warum sollten Sie uns wählen?

Als zuverlässiger Lieferant von Aluminium-Magnesiumfluorid-Sputtertargets liefern wir hochreine AlF3-MgF2-Targets mit ausgezeichneter Dichte, geringem Verunreinigungsgehalt und stabiler Sputterleistung. Unsere Produkte werden für optische Beschichtungen, Lasersysteme und fortschrittliche Elektronik entwickelt und gewährleisten gleichmäßige Schichten und hervorragende Haftung. Mit anpassbaren Abmessungen, strenger Qualitätskontrolle und globaler, konformer Lieferung bieten wir eine konsistente und verlässliche Versorgung für Ihre kritischen Dünnschichtabscheidungsprozesse.

Chemische Formel: AlF₃-MgF₂
Aussehen Weißes bis cremefarbenes Keramikkomposit
Reinheit ≥99,9% für jede Komponente
Zielform Planar, kreisförmig, rechteckig oder kundenspezifisch
Dichte ~3,0-3,2 g/cm³ (je nach Verhältnis)
Schmelzpunkt Verbundwerkstoff: kein scharfer Schmelzpunkt (gesintert)
Bonding Service Verfügbar mit Trägerplatte (z. B. Cu, Mo)

Nicht als gefährlich eingestuft

Innere Verpackung: Vakuumversiegelter Beutel zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.

Äußere Verpackung: Karton oder Holzkiste, je nach Größe und Gewicht.

Zerbrechliche Ziele: Für einen sicheren Transport wird eine spezielle Schutzverpackung verwendet.

SKU 1309120900ST Kategorie Tags: Marke:

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