Zinkoxid (Ga-dotiert)

Zinkoxid (Ga-dotiert) Sputtertargets Übersicht

Zinkoxid (Ga-dotiert) Sputtertargets
sind hochtransparente und hochleitfähige Oxidtargets, die in erster Linie zur Herstellung transparenter leitfähiger Dünnschichten verwendet werden und in Displays, Photovoltaik und Optoelektronik weit verbreitet sind.

Wir bieten maßgeschneiderte Target-Lösungen mit unterschiedlichen Dotierungsverhältnissen, Größen und Dichtespezifikationen. Bitte kontaktieren Sie uns
für technische
Parameter und Anwendungsvorschläge.

Produkt-Highlights

Stabile Ga-Dotierungsverteilung
Hervorragende Dünnschichtleitfähigkeit und Durchlässigkeit
Hohe Targetdichte und stabile Entladung
Geeignet für DC- und RF-Sputtern
Gute Chargenkonsistenz
Unterstützt Forschungs- und Massenproduktionsanforderungen

Anwendungen von Zinkoxid (Ga-dotiert) Sputtertargets

Transparente leitfähige Kooperationen (TCOs): Dieses Material kann zur Herstellung transparenter leitfähiger Schichten mit hoher Durchlässigkeit und niedrigem spezifischen Widerstand verwendet werden, die sich als Ersatz für herkömmliche ITO-Dünnschichten eignen.
Flachbildschirme und Touchpanels: Wird zur Bildung stabiler Elektrodenfilme in LCD-, OLED- und Touch-Display-Geräten verwendet, um die Konsistenz der Anzeige zu verbessern.
Dünnschicht-Solarzellen: Als Material für die Frontelektrode oder die Funktionsschicht kann es die Lichtabsorptionseffizienz verbessern und die elektrische Gesamtleistung des Geräts steigern.
Optoelektronische und sensorische Geräte: Geeignet für optoelektronische Dünnschichtstrukturen wie UV-Detektoren und Gassensoren in Anwendungen, die eine hohe Dünnschichtgleichmäßigkeit erfordern.

Häufig gestellte Fragen

F1: Was ist der Unterschied zwischen Ga-dotierten Zinkoxid- und gewöhnlichen Zinkoxid-Targets?
A1: Durch die Zugabe von Ga wird die Leitfähigkeit der Dünnschicht deutlich verbessert, während die gute optische Transparenz erhalten bleibt.

F2: Für welchen Sputterprozess ist dieser Target-Typ geeignet?
A2: Wird häufig bei DC-Magnetron-Sputtern und RF-Sputtern verwendet; der spezifische Prozess hängt von der Gerätekonfiguration und den Anforderungen an die Schicht ab.

F3: Kann das Dotierungsverhältnis angepasst werden?
A3: Ja, es stehen verschiedene Dotierungsschemata zur Verfügung, um die Anforderungen verschiedener Anwendungen an Widerstandsfähigkeit und Durchlässigkeit zu erfüllen.

F4: Neigt das Target während des Gebrauchs zu Rissen?
A4: Durch die Optimierung des Sinterprozesses und die Kontrolle der Dichte kann das Risiko von Rissen aufgrund thermischer Belastung effektiv verringert werden.

Bericht

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Wir sind auf die stabile Herstellung und Anwendungsanpassung von funktionalen Oxid-Sputtermaterialien spezialisiert und legen dabei besonderen Wert auf die Kontrolle der Targetstruktur, die Konsistenz der Leistung und die langfristige Lieferfähigkeit. Wir bieten zuverlässige und reproduzierbare Materialunterstützung für Kunden aus Forschung und Industrie.