Zink-Aluminium-Legierung

Übersicht über Rotationsziele aus Zink-Aluminium-Legierung

Rotationsziele
aus Zink-Aluminium-Legierung
sind hochleistungsfähige Metallziele, die häufig bei der Dünnschichtabscheidung, Oberflächenbehandlung und Herstellung von Hochleistungslegierungen eingesetzt werden.

Wir bieten hochwertige ZnAl-Sputterziele, die für verschiedene Sputterprozesse geeignet sind und die Anforderungen unserer Kunden an die hochpräzise Dünnschichtfertigung erfüllen. Bitte kontaktieren Sie uns
für weitere Informationen und Anpassungsmöglichkeiten.

Produkt-Highlights

Hohe Reinheit garantiert
Stabile Sputterleistung
Hocheffiziente Dünnschichtabscheidung
Ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit
Lange Lebensdauer
Hohe Temperaturbeständigkeit
Anpassbare Formen und Spezifikationen
Präzise Qualitätskontrolle

Anwendungen von Sputtertargets aus Zink-Aluminium-Legierung

Dünnschichtabscheidung: Aufgrund ihrer ausgezeichneten Stabilität und Präzision bei der Dünnschichtabscheidung werden sie häufig bei der Herstellung von elektronischen und optoelektronischen Geräten eingesetzt.
Oberflächenbeschichtung: Bei Metalloberflächenbeschichtungsprozessen kann es die Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit von Materialien wirksam verbessern. Halbleiterfertigung: Als hochreines Metalltarget wird es häufig in Dünnschichtabscheidungsprozessen in der Halbleiterfertigung eingesetzt, um eine hervorragende Filmqualität zu gewährleisten.
Hochleistungslegierungen: Es wird häufig bei der Herstellung von Hochleistungslegierungen eingesetzt und kann die Festigkeit und Hochtemperaturbeständigkeit von Legierungen erheblich verbessern.

Häufig gestellte Fragen

F1: Wie hoch ist die Reinheit unseres ZnAl-Rotationstargets?
A1: Unsere Reinheit beträgt 99,99 %. Wir können auch Produkte mit unterschiedlichen Reinheiten gemäß den Kundenanforderungen liefern.

F2: Für welche Sputterprozesse eignet sich das ZnAl-Rotationstarget?
A2: Es eignet sich für DC-Sputter- und RF-Sputterprozesse und ist ideal für hochpräzise Dünnschichtabscheidungsanwendungen.

F3: Wie sollte das ZnAl-Rotationstarget gelagert werden?
A3: Es sollte in einer trockenen Umgebung mit geeigneter Temperatur gelagert werden, um Feuchtigkeit und Oxidation zu vermeiden und seine gute Leistung zu erhalten.

F4: Was ist der Betriebstemperaturbereich des ZnAl-Rotationstargets?
A4: Es hat eine gute Hochtemperaturbeständigkeit und kann in Hochtemperaturumgebungen stabil betrieben werden, sodass es für die meisten Hochtemperatur-Sputterprozesse geeignet ist.

Berichte

Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)

Technisches Datenblatt (TDS)

Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Testberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich

Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?

Mit unserer fortschrittlichen Technologie und strengen Qualitätskontrolle bieten wir hochreine ZnAl-Sputter-Targets, die unseren Kunden helfen, optimale Leistung in verschiedenen hochpräzisen Anwendungen zu erzielen, und bieten maßgeschneiderte Lösungen.