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Ytterbiumfluorid

Chemical Name:
Ytterbiumfluorid
Formula:
YbF3
Product No.:
700900
CAS No.:
13760-80-0
EINECS No.:
237-354-2
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Product ID Formula Purity Dimension Inquiry
700900ST001 YbF3 99.99% (REO) Ø 25.4 mm x 6.35 mm Inquire
Product ID
700900ST001
Formula
YbF3
Purity
99.99% (REO)
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm

Übersicht über Ytterbiumfluorid-Sputter-Targets

Ytterbiumfluorid-Sputtertarget ist ein hochleistungsfähiges Seltene-Erden-Fluorid-Material, das speziell für Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt wurde. Mit einer Reinheit von bis zu 99,99 %, gleichmäßiger und dichter Dichte gewährleistet es eine gleichmäßige Filmbildung, eine starke Haftung und einen extrem niedrigen Gehalt an Verunreinigungen, was eine solide Garantie für die Herstellung von hochwertigen optoelektronischen und funktionellen Materialien darstellt.

Wir bieten Ytterbiumfluorid-Sputter-Targets in verschiedenen Spezifikationen und Größen an und unterstützen die kreisförmige und rechteckige Anpassung an Ihre unterschiedlichen Prozessanforderungen. Unser hochreines Ytterbiumfluorid-Sputter-Target ist ideal für die fortschrittliche Dünnschichtabscheidung und optoelektronische Anwendungen. Unser professionelles Kundendienstteam steht Ihnen jederzeit zur Verfügung, um Ihre technischen Fragen zu beantworten und sicherzustellen, dass Sie das Produkt ohne Bedenken nutzen können.

Produkt-Highlights von Ytterbium-Fluorid-Sputtering-Target

Der Reinheitsgrad liegt bei 99,99 % und erfüllt die Anforderungen der wissenschaftlichen Forschung und der industriellen Dünnschichtproduktion
Die dichte und hochdichte Struktur gewährleistet eine gleichmäßige Abscheidung und hervorragende Haftung der dünnen Schichten
Unterstützt die Anpassung an verschiedene Größen und Formen, geeignet für unterschiedliche Sputteranlagen
Ausgezeichnete thermische und chemische Stabilität, geeignet für eine Vielzahl von Vakuum-Sputterverfahren

Anwendungen von Ytterbiumfluorid-Sputter-Targets

Halbleiter:Ytterbiumfluorid-Sputter-Target für die Herstellung funktioneller Dünnschichten für elektronische Hochleistungsgeräte zur Verbesserung der Stabilität und Leistung der Geräte.
Optische Beschichtung: Zur Herstellung von Antireflexionsschichten mit hohem Brechungsindex und geringer Absorption sowie von Beschichtungen für Infrarotfenster.
Laser-Materialien: Dünnschichtquellen von Laserdotierstoffen für Nahinfrarotlaser und optische Kommunikationsgeräte.
Optoelektronische Geräte: Herstellung von Dünnfilmschichten mit besonderen optischen und elektrischen Eigenschaften für neue Anzeige- und Sensorbereiche.

Berichte

Wir erstellen Analysezertifikate (COA), Sicherheitsdatenblätter (MSDS) und andere relevante Berichte für jede Warencharge. Darüber hinaus unterstützen wir auch Prüfungen durch Dritte für eine verbesserte Qualitätssicherung.

Molekulare Formel: YbF₃
Molekulargewicht: 123 g/mol
Äußeres Erscheinungsbild: Weißes, dichtes keramisches Target mit einer glatten Oberfläche
Dichte: Ungefähr 7,1 g/cm³ (nahe der theoretischen Dichte)
Schmelzpunkt: Ungefähr 1.230°C
Leitfähigkeit: Elektrischer Isolator (hoher Widerstand)
Kristallstruktur: Orthorhombisch
Chemische Beständigkeit: Stabil in trockener Luft und inerten Atmosphären, geringe Hygroskopizität

Signalwort:
Gefahr
Gefahrenhinweise:
H302+H312: Gesundheitsschädlich beim Verschlucken oder bei Berührung mit der Haut
H331: Giftig beim Einatmen
H335: Kann Reizung der Atemwege verursachen
H315: Verursacht Hautreizungen
H319: Verursacht schwere Augenreizung

Innere Verpackung: Vakuumversiegelter Beutel zum Schutz vor Verunreinigungen und Feuchtigkeit.

Äußere Verpackung: Karton oder Holzkiste, je nach Größe und Gewicht.

Zerbrechliche Ziele: Für einen sicheren Transport wird eine spezielle Schutzverpackung verwendet.

Dokumente

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