| Product ID | Formula | Purity | Dimension | Inquiry |
|---|---|---|---|---|
| 230500ST001 | VB2 | 99.5% | Ø 25.4mm x 6.35mm | Inquire |
| 230500ST002 | VB2 | 99.5% | Ø 50.8mm x 3.175mm | Inquire |
| 230500ST003 | VB2 | 99.5% | Ø 50.8mm x 6.35mm | Inquire |
| 230500ST004 | VB2 | 99.5% | Ø 76.2mm x 3.175mm | Inquire |
| 230500ST005 | VB2 | 99.9% | Ø 25.4mm x 3.175mm | Inquire |
| 230500ST006 | VB2 | 99.9% | Ø 101.6mm x 3.175mm | Inquire |
Vanadiumborid
-Sputter-Targets sind funktionelle Targets mit Vanadiumborid als Hauptkomponente, die sich durch einen hohen Schmelzpunkt und eine gute strukturelle Stabilität auszeichnen. Diese Targets werden vor allem in physikalischen Gasphasenabscheidungsprozessen eingesetzt und spielen eine entscheidende Rolle bei der Herstellung von verschleißfesten, hochtemperaturbeständigen und funktionellen Dünnschichten.
Wir bieten VB2-Sputter-Targets in verschiedenen Größen, Dichten und Verarbeitungsmethoden an. Bitte fragen Sie
nach spezifischen Spezifikationen und Lieferlösungen.
Sputtermaterial mit hohem Schmelzpunkt
Dichte Targetstruktur
Gute Gleichmäßigkeit der Zusammensetzung
Hohe Sputterstabilität bei hohen Temperaturen
Gute Filmhaftung
Kundenspezifische Verarbeitung möglich
Verschleißfeste funktionelle Dünnschichten:
Verbessert die Filmhärte und Lebensdauer bei der Abscheidung verschleißfester Schichten erheblich, geeignet für den Oberflächenschutz in Umgebungen mit hoher Reibung.
Hochtemperatur-Schutzbeschichtungen:
Mit diesen Targets hergestellte Dünnschichten weisen eine gute thermische Stabilität unter Hochtemperaturbedingungen auf und eignen sich für den Oberflächenschutz von Hochtemperaturkomponenten.
Forschung zu funktionalen Keramik-Dünnschichten:
Wird häufig bei der Herstellung von funktionalen Keramik-Dünnschichten und verwandten Verbundschichten verwendet, um den Anforderungen der Materialleistungssteuerung und Strukturoptimierung gerecht zu werden.
Forschung und Materialentwicklung:
Bereitstellung stabiler und reproduzierbarer Sputterquellen für die Entwicklung neuer Materialien und die Erforschung von Dünnschichtmechanismen.
F1: Welche Sputterverfahren eignen sich für Vanadiumborid-Sputter-Targets?
A1: Dieses Target kann in herkömmlichen physikalischen Aufdampfverfahren verwendet werden und eignet sich für verschiedene experimentelle und industrielle Sputteranlagen.
F2: Ist das VB2-Target bei Hochtemperatur-Sputtern stabil?
A2: Es weist eine hohe thermische Stabilität auf und behält unter geeigneten Prozessparametern eine gute Sputterleistung bei.
F3: Können Größe und Form des Targets angepasst werden?
A3: Ja, Targets mit unterschiedlichen Durchmessern, Dicken und Strukturformen können je nach Geräteanforderungen angepasst werden.
F4: Für welche Anwendungen eignen sich dünne Schichten, die mit Vanadiumborid-Sputter-Targets hergestellt wurden?
A4: Sie werden vor allem in Forschungsbereichen im Zusammenhang mit verschleißfesten Beschichtungen, Hochtemperaturschutzschichten und Funktionsmaterialien eingesetzt.
Jede Charge wird mit
folgenden Unterlagen
geliefert:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich.
Wir sind auf die Herstellung und Lieferung von funktionalen Sputtertargets spezialisiert, kennen die wichtigsten Kontrollpunkte von VB2-Sputtertargets in praktischen Sputteranwendungen und können eine stabile Qualität, flexible Anpassung und professionellen technischen Support bieten, um Kunden dabei zu helfen, die Effizienz und Konsistenz der Dünnschichtfertigung zu verbessern.
Molekulare Formel: VB₂
Molekulargewicht: 69,72 g/mol
Erscheinungsbild: Schwarzer oder dunkelgrauer Metallglanz
Dichte: 4,1 g/cm³
Schmelzpunkt: 3000°C
Kristallstruktur: Hexagonal
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
Wenn Sie einen Service benötigen, kontaktieren Sie uns bitte