Sputtertargets
aus Titancarbid-Titandioxid
bestehen aus Titancarbid und Titandioxid und kombinieren die hohe Härte und Leitfähigkeit von TiC mit der chemischen Stabilität und den Oxidfilm-Eigenschaften von TiO₂. Dieses Verbundtarget kann zur Steuerung der mechanischen Eigenschaften, elektrischen Eigenschaften und Oberflächenfunktionalität von Dünnschichten verwendet werden und findet breite Anwendung bei der Herstellung von Funktionsbeschichtungen, verschleißfesten Schichten und multifunktionalen Verbundschichten.
Wir bieten TiC-TiO₂-Sputter-Targets mit einheitlicher Zusammensetzung und dichter Struktur, die für DC- oder RF-Magnetron-Sputterprozesse geeignet sind. Wir können auch verschiedene Größen, Formen und Verbindungslösungen entsprechend den Anforderungen der Kundenausrüstung anbieten, um Forschungs- und Industrieanwendungen gerecht zu werden.
Kombination der hohen Härte von TiC mit den funktionellen Oxideigenschaften von TiO₂
Das Verbunddesign hilft bei der Steuerung der elektrischen und mechanischen Eigenschaften der Dünnschicht.
Gute chemische Stabilität und Umweltverträglichkeit. Dichte Targetstruktur, geeignet für stabile Sputterprozesse.
Anwendbar auf verschiedene PVD-Dünnschicht-Abscheidungsprozesse.
Verschleißfeste und funktionelle Verbundbeschichtungen:
Kann zur Herstellung von Verbunddünnschichten mit Verschleißfestigkeit und Oberflächenfunktionalität verwendet werden, geeignet für mechanische Teile und technische Oberflächen.
Funktionelle Oxide und Verbunddünnschichten:
Durch Verbundsputtern können Dünnschichtstrukturen mit ausgewogenen mechanischen Eigenschaften und funktionellen Merkmalen für die Forschung an funktionellen Geräten und technischen Anwendungen erzielt werden.
Oberflächentechnik und Materialmodifikation:
Geeignet für Materialsysteme, die eine gleichzeitige Verbesserung der Oberflächenhärte, Stabilität und Funktionsreaktion erfordern.
Forschung und Prozessentwicklung:
Weit verbreitet in Universitäten, Forschungseinrichtungen und Labors für die Forschung an Verbunddünnschichtsystemen und die Optimierung von Prozessparametern.
F1: Was sind die Hauptmerkmale von Sputtertargets aus Titancarbid-Titandioxid?
A1: Dieses Targetmaterial erzielt durch eine Verbundkonstruktion aus Karbid und Oxid eine synergistische Optimierung der mechanischen und funktionellen Eigenschaften der Dünnschicht.
F2: Für welche Sputterverfahren eignet sich das Titancarbid-Titandioxid-Target?
A2: Es kann in der Regel für DC-Magnetron-Sputtern oder RF-Magnetron-Sputtern verwendet werden, je nach den Gerätebedingungen und Prozessanforderungen.
F3: Welche Leistungsvorteile bieten Dünnschichten, die mit diesem Targetmaterial abgeschieden wurden?
A3: Die Dünnschichten weisen in der Regel eine gute Abriebfestigkeit, chemische Stabilität und einstellbare elektrische oder oberflächenfunktionelle Eigenschaften auf.
F4: Trägt das Verbund-Targetmaterial zur Verbesserung der strukturellen Stabilität der Dünnschicht bei?
A4: Das Verbundsystemdesign trägt zur Verbesserung der allgemeinen strukturellen Stabilität und Zuverlässigkeit der Dünnschicht bei.
Jede Charge wird mit folgenden Unterlagen geliefert:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir sind auf Verbundsputtertargets und fortschrittliche anorganische Materialien spezialisiert und legen besonderen Wert auf Targetsdichte, Konsistenz der Zusammensetzung und Prozessanpassungsfähigkeit. Wir bieten stabile und zuverlässige Materiallösungen für die Abscheidung von TiC–TiO2-Verbunddünnschichten.
Molekulare Formel: TiC-TiO₂
Erscheinungsbild: Grauschwarzes bis dunkelgraues Zielmaterial
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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