Titan
-Sputter-Targets wird eine geringe Menge Niob in die Targets auf Titanbasis eingebracht, um die Leitfähigkeit, Korrosionsbeständigkeit und thermische Stabilität der Dünnschichten zu verbessern. Diese Targets eignen sich für physikalische Gasphasenabscheidungsverfahren (PVD) zur Herstellung von funktionalen Dünnschichten, leitfähigen Beschichtungen und Materialien zur Oberflächenmodifizierung für elektronische Geräte.
Wir bieten hochreine, gleichmäßig zusammengesetzte TiNb-Sputter-Targets, die für DC- oder RF-Magnetron-Sputter-Systeme geeignet sind. Verschiedene Größen, Formen und Verbindungsmethoden können an die Anforderungen der Forschung und industriellen Produktion angepasst werden.
Die Niob-Dotierung verbessert die Leitfähigkeit und Korrosionsbeständigkeit der Schicht.
Dichtes und gleichmäßiges Targetmaterial sorgt für eine stabile Schichtabscheidung.
Hervorragende Schichthaftung und Grenzflächeneigenschaften.
Anwendbar auf verschiedenen Substraten und unter verschiedenen PVD-Prozessbedingungen.
Unterstützt kontinuierliches Sputtern und industrielle Anwendungen.
Leitfähige Funktionsdünnschichten:
Weit verbreitet in transparenten leitfähigen Schichten und Funktionsbeschichtungen für elektronische Geräte.
Korrosionsbeständige und hitzebeständige Beschichtungen:
Niob verbessert die Korrosionsbeständigkeit und thermische Stabilität von Dünnschichten und eignet sich für die Herstellung von Hochleistungsbeschichtungen.
Forschung und Prozessentwicklung:
Wird in Universitäten und Forschungseinrichtungen zur Untersuchung von Prozessparametern von leitfähigen Dünnschichten und Verbunddünnschichten verwendet.
F1: Für welche Sputterprozesse ist das mit Niob dotierte Titanium-Sputtertarget geeignet?
A1: Geeignet für DC-Magnetron-Sputtern, RF-Magnetron-Sputtern und Mehrschicht-Verbunddünnschicht-Abscheidungsprozesse.
F2: Was ist die Hauptaufgabe der Niobdotierung?
A2: Niob verbessert die Leitfähigkeit, Korrosionsbeständigkeit und thermische Stabilität der Dünnschicht, wodurch ihre Eigenschaften besser für elektronische Geräte und funktionelle Beschichtungsanwendungen geeignet sind.
F3: Wie wählt man die geeigneten Ti-Nb-Targetspezifikationen aus?
A3: Wählen Sie die Targetgröße und -form entsprechend dem Sputtergerätemodell, der Substratgröße und den Abscheidungsanforderungen aus. Es sind Anpassungsdienste verfügbar.
F4: Was ist bei der Lagerung und dem Transport des mit Niob dotierten Titanium-Sputter-Targets zu beachten?
A4: Halten Sie es trocken, vermeiden Sie Feuchtigkeit und mechanische Beschädigungen und verhindern Sie Oberflächenverunreinigungen und Bruch.
Jede Charge wird geliefert mit:
Analysezertifikat (COA)
Sicherheitsdatenblatt (MSDS)
Größenprüfbericht
Prüfberichte von Drittanbietern sind auf Anfrage erhältlich
Wir sind auf Sputtertargets auf Titanbasis und dotierte Legierungen spezialisiert und bieten hochreine, gleichmäßig zusammengesetzte Ti-Nb-Sputtertargets und maßgeschneiderte Lösungen, um die Qualität der Dünnschicht und die Prozessstabilität für Forschungs- und Industrieanwendungen zu gewährleisten.
Molekulare Formel: TiNb
Erscheinungsbild: Silbergraues Zielmaterial
Dichte: Ca. 6,5 g/cm³
Schmelzpunkt: Ca. 1700 °C
Kristallstruktur: Körperzentriert kubisch (BCC)
Innenverpackung: Vakuumversiegelte Beutel und Kartons, um Verunreinigungen und Feuchtigkeit zu vermeiden.
Außenverpackung: Kartons oder Holzkisten, ausgewählt nach Größe und Gewicht.
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